2003 Fiscal Year Annual Research Report
磁場印加内部転換電子メスバウアー分光法による磁性超微粒子複合材料の構造評価
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14550679
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| Research Institution | Musashi Institute of Technology |
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Principal Investigator |
鳥山 保 武蔵工業大学, 工学部, 教授 (40016176)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
坂本 勲 産業技術総合研究所, 光技術研究部門, 主任研究員
林 伸行 久留米工業大学, 電子情報システム工学専攻, 教授 (30318612)
若林 英彦 武蔵工業大学, 工学部, 助教授 (50267340)
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| Keywords | 磁場印加 / 内部転換電子 / メスバウアー分光法 / Fe注入Al_2O_3グラニュラー膜 / α-Fe超常磁性微粒子 / トンネル型磁気抵抗効果 / 粒径分布 / イオン注入法 |
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| Research Abstract |
1)昨年度から組み上げてきた電磁石方式の「磁場印加内部転換電子メスバウアー分光(CEMS)測定システム(印加最大磁場1.5T)」の性能を1×10^<17> ^<57>Feイオン注入Al_2O_3グラニュラー膜を用い確かめた。また、電子顕微鏡により試料中の鉄微粒子の粒径、深さ分布を観察した。その結果を第41回理工学における同位元素・放射線研究発表会(2004.7.7.〜7.9)において発表する。
2)FeイオンをAl_2O_3(サファイア)に追加注入し作製したグラニュラー膜TMR材料の磁場印加CEMS測定を行い、アニール条件とMR比の関係を調べ、MR比を大きくするための最適な作製条件を探った。IUMRS-ICAM2003(Yokohama,2003.10.8〜10.13)にて発表、論文印刷中。
3)スパッタ法で作製されたFe-Al-O系のグラニュラー膜におけるMR比は、上記イオン注入により作製したグラニュラー膜のMR比に比べて約半分である。その理由を探るため、スパッタ法によるFe-Al-O系のグラニュラー膜についても磁場印加CEMSスペクトルを測定し、両グラニュラー膜中の鉄の微粒子の粒径分布の違いを比較した。また、X線光電子分光法(XPS)を用いてグラニュラー膜中のFeの充填率についての違いも調べ、国際会議(SCM2004,Darmstadt University of Technology, Seeheim,2004.6.27〜7.1)に発表を申しこみ、受理された。
4)Feイオンに続いてCoイオンをAl_2O_3(サファイア)に注入するとFeCo合金微粒子が生成され、Fe微粒子の時のMR比(8%)よりも大きなMR比(12%)が観測された。
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