2002 Fiscal Year Annual Research Report
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14750018
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| Research Institution | Tohoku University |
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Principal Investigator |
木村 康男 東北大学, 電気通信研究所, 助手 (40312673)
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| Keywords | ナノ・テクノロジー / 固液界面 / ポーラスシリコン / ポーラスアルミナ / 陽極酸化 / 赤外吸収分光 |
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| Research Abstract |
近年、単一電子トランジスタ(SET)やカーボン・ナノチューブトランジスタなどナノサイズの新たなデバイスが提案・試作されている。しかしながら、ナノサイズのデバイスを集積したり、デバイス特性を一定に保つためには、その位置・配列を制御することが重要である。そこで本研究では、固液界面反応場を制御することにより規則配列構造を有するナノ構造をシリコン上へ形成することを目的とする。本年度は、電気化学エッチングを行うためのテフロン製溶液セルを製作およびマスクとするポーラスアルミナの製膜条件の探索を行った。今回作成したセルは、エッチングの状況をリアルタイムで把握するためにシリコン基板表面の赤外吸収スペクトルをその場観察ができるようになっている。ポーラスアルミナの製膜条件の探索は、まず、アルミニウム基板を用いて行った。その結果、シュウ酸0.3mol/l中にて40Vの印加電圧を加えることにより、1μm以上のドメインで構成された約120nmの周期配列を有するポーラスアルミナの作製に成功した。同時に、n型シリコンを背面から光を照射しながらエタノール希釈のフッ酸中で電気化学エッチングを行うことにより、上記のポーラスアルミナと同程度の径で直線的に成長した孔を有するポーラスシリコンの作製に成功した。しかしながら、現在、良い再現性が得られておらず、印加電圧や光量などを把握する必要がある。さらに、シリコン上に真空蒸着法により堆積したアルミニウム薄膜を陽極酸化することにより、規則配列を有するポーラスアルミナの作製に着手した。アルミニウム薄膜の膜質が形成されたポーラスアルミナの規則性や耐薬品性などに大きな影響を与えていることがわかってきている。これらの結果については第50回応用物理学関係連合講演会にて発表予定である。
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