2006 Fiscal Year Annual Research Report
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15075202
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| Research Institution | The University of Tokyo |
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Principal Investigator |
寺嶋 和夫 東京大学, 大学院新領域創成科学研究科, 助教授 (30176911)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
越崎 直人 産業技術総合研究所, 界面ナノアーキテクニクス研究センター, チームリーダー(研究職) (40344197)
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| Keywords | マイクロプラズマ / 材料デバイスプロセス / 超臨界流体プラズマ / プラズマ加工 / 大気圧非平衡プラズマ / ナノマテリアル / レーザー誘起プラズマ / 薄膜堆積 |
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| Research Abstract |
(1)超臨界流体プラズマの材料プロセスへの応用
直流、パルス、誘電体バリア放電、マイクロ波など材料プロセス用の超臨界流体プラズマプロセス装置をバージョンアップさせ、基盤温度の独立制御の可能化などを行った。またそのナノマテリアル合成、薄膜堆積、クリーニングへの応用を行った。
(2)新物質、新プロセス開発
超臨界プラズマプロセスに関して、触媒の添加により、sp2系からsp3系のカーボンナノマテリアルの生成が可能になった。また、新たな新プロセス開発の一環として、より効率のいい、無電極法でが可能となる、誘電体バリア放電援用型の誘導結合型マイクロプラズマを設計・作製・プラズマ診断によりその非平衡高密度プラズマの性質が明らかになった。またそれらの高真空プロセスへの展開を考え、高真空10-5Torrまででの安定発生を確認し、プラズマ診断も行った。とりわけ、QCM法により、酸素プラズマ中の原子状酸素フラックスが通常のマクロなプラズマのそれの1000倍程度にも達することが明らかになった。
(3)マイクロプラズマの集積化
昨年度開発した、フレキサブル。ペーパーマイクロプラズマの耐熱性などの向上を目指し、電極構造、電極材料の再検討を数めた。また、電磁解析コードを開発し、その大面積化へのプラズマデバイス設計への応用を進めている。またその大面積化の応用として、トポロジカルゲルの表面超親水性化への応用を行い、完全ゼロ接触角の達成に成功した。
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Research Products
(8 results)
