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2007 Fiscal Year Annual Research Report

マイクロ波励起による超高密度マイクロプラズマの発生とその極短波長光源への応用

Research Project

Project/Area Number 15075205
Research InstitutionNagoya University

Principal Investigator

河野 明廣  Nagoya University, 大学院・工学研究科, 教授 (40093025)

Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) 佐々木 浩一  名古屋大学, 大学院・工学研究科, 准教授 (50235248)
荒巻 光利  名古屋大学, 大学院・工学研究科, 助教 (50335072)
Keywordsマイクロプラズマ / 大気圧プラズマ / 高気圧グロー放電 / マイクロ波 / 光源技術 / 真空紫外光源 / エキシマー / ECRプラズマ
Research Abstract

周波数を2.45GHzから10GHzに上げた大気圧マイクロギャッププラズマおよび低圧ECRプラズマについてその特性を詳細に調べた。大気圧マイクロギャッププラズマでは高周波化で電子の加熱効率が上がり,より高密度のプラズマが得られることを期待した。しかし当初試作した2つの放電構造で得られた電子密度は2.45GHzの場合と比べ1/20にすぎなかった。これは同軸線路中の誘電損失又は開口部からの放射損失が大きいためと推定され,これらが少なくとも2.45GHzの場合と同程度になるように,2.45GHzの放電構造を波長比(1/4)でスケールダウンした第3の放電構造を試作した。これにより電子密度は約3倍増加したが,2.45GHzに比べると依然として小さい。そこで放射損失が原理的にほとんどないと考えられるキャビティ型の第4の放電構造を作成し計測を続行している。これによりプラズマ生成における周波数効果を明らかにしてゆく。
マイクロECRプラズマでは,高周波化により強磁界となり,プラズマの閉じ込めが良くなるとともに放電体積も小さくすることが可能であるため,高パワー密度印加によるプラズマの高密度化を期待した。マイクロギャッププラズマの場合と同様に当初の2つの放電構造は誘電損失や放射損失が大きいと考えられたので,これらをなるべく減ちす第3の放電構造を試作した。これまでに,Ar^+スペクトルの強い発光,He^+の発光(励起エネルギー>50eV)などが観測され,高電子温度が推定される。しかし多価イオンの発光は確認されていない。依然として電源パワーが十分に結合されていないと推定され,パワーカップリングを高めるため,種々の試行を継続している。

  • Research Products

    (11 results)

All 2008 2007

All Presentation (11 results)

  • [Presentation] 10GHzマイクロECRプラズマの生成と診断2008

    • Author(s)
      河村優輔, 畔木俊宏, 荒巻光利, 河野明廣
    • Organizer
      第55回応用物理学関係連合講演会
    • Place of Presentation
      千葉県舟橋市
    • Year and Date
      2008-03-28
  • [Presentation] 分岐比法を用いたマイクロギャップAr放電のエキシマー発光絶対強度計測2008

    • Author(s)
      星野貴弘, 荒巻光利, 河野明廣
    • Organizer
      第55回応用物理学関係連合講演会
    • Place of Presentation
      千葉県舟橋市
    • Year and Date
      2008-03-27
  • [Presentation] キャビティ型放電装置による10GHz大気圧マイクロギャッププラズマの生成と診断2008

    • Author(s)
      原田侑弥, 小林正佳, 荒巻光利, 河野明廣
    • Organizer
      第55回応用物理学関係連合講演会
    • Place of Presentation
      千葉県舟橋市
    • Year and Date
      2008-03-27
  • [Presentation] Production of 10 GHz micro ECR plasma and its diagnostics2008

    • Author(s)
      Y. Kawamura, T. Kuroki, M. Aramaki, A. Kono
    • Organizer
      25th Symposium on Plasma Processing
    • Place of Presentation
      Yagaguchi, Japan
    • Year and Date
      2008-01-23
  • [Presentation] Generation and diagnostics of atmospheric-pressure microgap plasma Excited by 10-GHz microwave2008

    • Author(s)
      Y. Harada, M. Kobayashi, M. Aramaki, A. Kono
    • Organizer
      25th Symposium on Plasma Processing
    • Place of Presentation
      Yagaguchi, Japan
    • Year and Date
      2008-01-23
  • [Presentation] Atmospheric-pressure microgap plasma produced by 10-GHz microwave excitation2007

    • Author(s)
      A. Kono, M. Kobayashi, M. Aramaki
    • Organizer
      60th Annual Gaseous Electronics Conference
    • Place of Presentation
      Erlington, VA, USA
    • Year and Date
      2007-10-02
  • [Presentation] 10GHzマイクロギャッププラズマの生成と電子密度計測2007

    • Author(s)
      小林正佳, 原田侑弥, 荒巻光利, 河野明廣
    • Organizer
      第68回応用物理学会学術講演会
    • Place of Presentation
      札幌市
    • Year and Date
      2007-09-05
  • [Presentation] 10GHzマイクロECRプラズマの真空紫外分光計測2007

    • Author(s)
      畔木俊宏, 荒巻光利, 河野明廣
    • Organizer
      第68回応用物理会学術講演会
    • Place of Presentation
      札幌市
    • Year and Date
      2007-09-05
  • [Presentation] Behavior of metastable Ar atoms in atmospheric-pressure Ar microgap discharge excited by microwave2007

    • Author(s)
      T. Shibata, M. Kobayashi, M. Aramaki, A. Kono
    • Organizer
      18th International Symposium. on Plasma Chemistry
    • Place of Presentation
      Kyoto, Japan
    • Year and Date
      2007-08-28
  • [Presentation] Properties and diagnostics of microwave-excited high-density microplasma2007

    • Author(s)
      A. Kono, M. Aramaki, T. Shibata, M. Kobayashi
    • Organizer
      5th Int. Symp. on Advanced Plasma Processes and Diagnostics & 1st Int. Symp. on Flexible Electronics Technology
    • Place of Presentation
      Suwon, Korea
    • Year and Date
      2007-04-06
  • [Presentation] Absolute VUV excimer emission intensity measurement for Ar microgap discharge using branching ratio method2007

    • Author(s)
      T. Hoshino, M. Aramaki, A. Kono
    • Organizer
      25th Symposium on Plasma Processing
    • Place of Presentation
      Yagaguchi, Japan
    • Year and Date
      2007-01-23

URL: 

Published: 2010-02-04   Modified: 2016-04-21  

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