2004 Fiscal Year Annual Research Report
マイクロ波放電及び光プロセスを用いた排ガス処理装置の開発
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15310059
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| Research Institution | Kyushu University |
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Principal Investigator |
辻 正治 九州大学, 先導物質化学研究所, 教授 (30038608)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
古屋 謙治 九州大学, 大学院・理工学研究院, 助教授 (70229128)
辻 剛志 九州大学, 先導物質化学研究所, 助手 (50284568)
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| Keywords | マイクロ波放電 / 光プロセス / 窒素酸化物 / エキシマレーザー / 大気環境保全 |
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| Research Abstract |
マイクロ波放電及び光プロセスを用いたNOxの分解処理プロセスの開発研究を行い、本年度は以下のような研究成果を得た。
1)マイクロ波放電によるNOxの分解処理
マイクロ波放電によるNO,N_2O分解プロセスの開発研究を行った結果、NO,N_2Oを大気圧窒素中で90%以上の高効率で分解可能なことがわかったが空気中では酸素の影響でNOxが発生し、この方法は空気中での分解には適用できないことが判明した。
2)光プロセスによるN_2Oの分解処理
プラズマプロセスは空気中ではNOが発生し、NOx分解処理が困難である。この問題を解決するためにO_2存在下でも作動する光プロセスの開発研究を行った。大気圧の窒素または空気中においてN_2OをArFレーザー光分解させた。本年度は昨年度までの高N_2O濃度での実験に加え、100ppmという実際の排出濃度に近い低濃度での実験をNOxの高感度分析が可能なFTIR分析計を購入して行った。その結果、照射10分後に分解率は窒素中、空気中共に100%になり、5%の場合に約10%排出されていたNOが全く排出されなくなった。よって酸素の存在はプラズマの場合とは異なり、分解に大きな影響を与えず、本方法は酸素存在下N_2Oを完全無害化処理する有効な方法であることが判明した。
3)光プロセスによるNO_2の分解処理
大気圧の窒素中において200ppmという実際の排出濃度に近い低濃度のNO_2をArFレーザー光分解させた。その結果、照射3分後に分解率は90%となり、NOの排出率も約20%まで抑制されることを見いだした。この結果をChemistry Letters誌にて公表した。
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