2005 Fiscal Year Annual Research Report
近紫外光照射したN-ニトロソ化合物からのNOの生成、反応機構解析と毒性評価
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15510053
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| Research Institution | OKAYAMA UNIVERSITY |
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Principal Investigator |
有元 佐賀惠 岡山大学, 大学院・医歯薬学総合研究科, 助教授 (90212654)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
岡本 敬の介 岡山大学, 大学院・医歯薬学総合研究科, 教授 (70131183)
根岸 友恵 岡山大学, 大学院・医歯薬学総合研究科, 助教授 (80116491)
木村 幸子 兵庫県立大学, 環境人間学部, 助手 (70225035)
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| Keywords | 近紫外光 / N-ニトロソ化合物 / 一酸化窒素 / DNA傷害 / デオキシグアノシン付加体 / ニトロソプロリン / タバコ特異的ニトロソアミン / 酸化的DNA傷害 |
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| Research Abstract |
近紫外光によるヒトへの傷害の機構の一つとして、内在性のニトロソプロリンから光反応により生じたNOラジカルが光過敏症や光発がんに関与している可能性が考えられる。また、N-ニトロソ基が近紫外光を吸収してNOラジカルを生成していると仮定すると、ニトロソプロリン以外の内在性ニトロソ化アミノ酸や、外来性のN-ニトロソ化合物も、近紫外光によりNOラジカルの発生源や細胞の酸化的傷害の原因となる可能性がある。
そこで、ニトロソプロリンおよびタバコ特異的ニトロサミン(NNK)などN-ニトロソ化合物とUVAとの反応によるNOラジカル反応の解析を行なった。その結果、用量依存的なNO産生並びに酸化的DNA損傷のみられること、NO産生の波長依存性は、それぞれのニトロソ化合物のUV吸収スペクトラムとよく一致することを見いだした。
さらに、ヒト培養細胞を用いて、ニトロソ化合物存在下でのUVA照射によるNO産生とDM損傷としての小核形成を調べたところ、いずれも用量依存的に生成し、ニトロソ化合物のUV吸収スペクトラムとよく一致して生成することがわかった。また、小核形成とNO産生は相関的に増加した。また、微生物におけるニトロソ化合物の近紫外光照射による変異原性誘起とNO生成にも相関性が見られ、波長依存性も同様によく一致した。
さらに、NPROをデオキシグアノシン(dG)存在下、中性もしくは酸性のリン酸緩衝液中でUVA照射し、反応生成物を高速液クロで分離したところ、少なくとも四つの生成物ピークが見られ、一つは8-oxo-dGと一致した。また、ほかのピークについても液クローマス(LC/MSMS)分析を行ったところ、dG付加体と思われることが分かった。
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