2004 Fiscal Year Annual Research Report
スーパーDWDMフォトニックネットワーク用超多チャネル光合分波器の特性向上
| Project/Area Number |
15560028
|
|---|
| Research Institution | Gunma University |
|---|
Principal Investigator |
高田 和正 群馬大学, 工学部, 教授 (20359590)
|
|---|
| Keywords | DWDM / アレイ導波路型回折格子 / AWG / 位相誤差 / 波長可変レーザ / 光干渉 / クロストーク / エッチング |
|---|
| Research Abstract |
(1)前段AWGのクロストーク低減
チャンネル間隔の広い前段AWGの位相誤差を0.1radの精度で測定できる技術を確立した。本技術で得られた位相誤差データをもとに前回報告したインクジェットプリンタで位相誤差低減用金属マスクを作製し、本マスクを介してUVレーザ光をAWGに照射した。この結果、透過バンドの両端に存在したサイドローブを7dB低減することに成功した。
(2)後段AWGのクロストーク低減
(i)周波数領域光ネットワークアナライザの開発
ファイバ型マッハ・ツェンダー干渉計と波長掃引レーザを用いて周波数領域におけるAWG位相誤差測定系を構築した。波長を高速掃引(50nm/s)して外乱によるファイバ干渉計への位相雑音混入を避け、レーザ光に内在する低周波帯での強度雑音をバランス検波回路で相殺した。この結果、当初計画していたモニタ干渉計を利用しなくてもAWGの位相誤差を0.05radの精度で測定でき、周波数領域における位相誤差測定技術を確立できた。
(ii)タンデム構成超多チャンネル光合分波器のクロストーク低減
上記の金属マスク作製法において、エッチング条件を最適化することにより、微細なパターンをマスクに再現できるようになった。この技術を用いて後段用25GHz間隔200チャンネルAWGの金属マスクを作製し、UVレーザ光を照射したところ、中心チャンネル(#100)に対してはクロストークを-39dBまで低減できた。しかしながら、クロストークは端のチャンネルで増大してしまった(例えば#50チャンネルで-33dB、#200チャンネルで-23dB)。本AWGで1,000チャンネル光合分波器を構築すると、累積クロストークを従来値に比べて5dB改善できることが分かった。端チャンネルでのクロストーク増大は、AWGのスラブ導波路上に屈折率分布が存在するためであり、一層の累積クロストーク低減にはこの不均質性改善のためのレーザ照射トリミング技術の開発が不可欠である。
|
