化学気相堆積法における進化論を用いた反応機構モデル自動解析システムの開発

2003 Fiscal Year Annual Research Report

• Project/Area Number: 15760567
• Research Institution: Shizuoka University
• Principal Investigator: 高橋 崇宏 静岡大学, 工学部, 助手 (50324330)
• Keywords: CVD / 反応機構 / 進化論 / 遺伝的アルゴリズム / 薄膜

Research Abstract

本年度は、化学気相堆積法(CVD)の実験データを自動的に解析し、反応モデルを究明するシステム(自動モデリングシステム)の開発、改良を中心に行った。従来は、Macrocavityと呼ばれる反応装置の内部に生じる製膜速度分布(膜厚分布)を解析対象としてきたが、本研究では、半導体デバイスなどの作製過程で良く用いられるMicro cavity, Viaホールなど、マイクロメータからナノメータサイズの微細構造上に製膜した「膜の形状」(基盤破断面のSEM画像など)も解析対象となるようにシステムの改良を行った。この改良により、自動モデリングシステムの適用範囲をより大きくすることができた。さらに、様々な実験データが解析可能となっただけでなく、これらの異種データを統合的かつ、自動的に解凍する手法も開発し、異種データの統合解析が、究明されたモデルの信頼性をより高めることを示すことができた。
一方、システムの開発効率を高めるためにマルチエージェント化を行うことを提案し、様々な開発すべきソフトウェアエージェシトの中でも、特に、ユーザの利用効率を高める効果が期待できるGUIによるインターフェイスエージェントの開発を行い、実現することができた。このGUIエージェントの実現によって、反応工学や情報工学についての知織の少ない技術者でも本システムがより容易に利用できるようになったと考えられる。以上、上記の反応工学的な観点からのシステム改良に加えて、これらの情報工学的な観点からの改良も行うことができた。
また、従前の研究計画に則り、自動モデリングシステムを用いて実際にプロセス開発を行うため、CVD装置の作製を開始した。

Research Products

• [Publications] T.Takahashi, K.Funatsu, Y.Ema: "Study of the automatic modeling of reaction systems for chemical vapor deposition processes using genetic algorithms"Proceeding of CVD XVI and EUROCVD 14. Vol.1. 272-278 (2003)
• [Publications] T.Takahashi, K.Funatsu, Y.Ema: "Automatic Reaction Modeling in Chemical Vapor Depositions Using Multiple Process Simulators"Proceedings of 2003 MRS Fall Meeting. (in press). (2004)
• [Publications] 高橋崇宏, 稲垣泰晴, 船津公人, 江間義則: "反応モデル自動解析システムにおけるインターフェースエージェントの開発"第64回応用物理学会学術講演会講演予稿集. 2. 805 (2003)
• [Publications] 高橋崇宏, 稲垣泰晴, 船津公人, 江間義則: "反応機構自動モデリングシステムにおけるインターフェースエージェントの開発"第26回情報化学討論会講演要旨集. JP32 (2003)