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2007 Fiscal Year Annual Research Report

ナノテクノロジーを用いた深紫外半導体発光デバイスの開発とその応用

Research Project

Project/Area Number 15GS0207
Research InstitutionRitsumeikan University

Principal Investigator

青柳 克信  Ritsumeikan University, COE推進機構, 教授 (70087469)

Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) 平山 秀樹  理化学研究所, テラヘルツ量子素子研究チーム, チームリーダー (70270593)
井上 振一郎  九州大学, 先導物質化学研究所, 助教 (20391865)
松本 祐司  東京工業大学, 応用セラミックス研究所, 准教授 (60302981)
鯉沼 秀臣  東京大学, 大学院・新領域創成学研究科, 教授 (70011187)
武内 道一  東京工業大学, 大学院・総合理工学研究科, 研究員 (60284585)
Keywords縦型深紫外LED / 良質AlGaN / 表面核生成機構 / 量子ドットAlInGaN / 非線型フォトニック結晶 / 高効率深紫外波長変換 / フラックス法 / p型ZnO
Research Abstract

深紫外発光素子の有用性は我々が提唱して提唱して以来その重要性がますます認識されてきているが、それを実現するにはまだ多くの解決すべき課題が残されている。しかし本年度は本研究プロジェクト最終年度であることもふまえ、従来全く検討されてこなかったサファイア基板上のAlGaN単結晶の形成過程を明らかにすることを試み、その機構を解明することが分かった。特にエリプソメーター並びに反りメーターの結晶成長中のその場観測により、結晶の微少な初期核形成からその横方向拡大による中大核形成とその後の平坦化過程をとることが良質なAlGaN結晶を得る重要な要素であると同時に、基板の結晶成長中の反りが結晶性に大きく影響しそれを抑える手法が重要であることが分かった。我々はその反りを押さえる方法を明らかにし良質な結晶を選ることに成功した。又大出力の深紫外発光素子を実現するためには縦型構造のデバイス構造形成が必要不可欠であるが、我々は深紫外領域で初めて0.5ミクロン核の縦型構造LEDを作製することに成功し280nm縦型LEDの開発に成功した。又量子ドットを用いたInAlGaN材料で量子ドット型としては最短波長の335nmのLEDの発光に成功した。また深紫外領域のレーザーの実現も重要であるが我々はHe-Cdレーザーに取って代わる非線形フォトニック結晶をLiNbO3で初めて実現しHe-Cdレーザーの発振波長である325nmのレーザーのフォトニックレーザーの実現に成功した。これはまだ表面取り出し法であるが通常の非線形効果の300倍以上の非線形性を得ることに成功し未来のHe-Cdレーザーに置き換わる小型固体レーザー実現への道を開いた。また深紫外光源の他の材料としてZnOが考えられているが我々はその中でも高濃度p型ZnOの実現が困難であることに注目し、新たにフラックス法を導入することにより新たな方法でp型ZnOの作製に成功した。これは将来の高濃度p型ZnO実現につながるものである。又深紫外波長のバイオ、環境への応用に関し具体的な検討をおこない、高出力深紫外LEDの実現が急務であることが明らかになってきた。

  • Research Products

    (45 results)

All 2008 2007

All Journal Article (15 results) (of which Peer Reviewed: 13 results) Presentation (29 results) Book (1 results)

  • [Journal Article] Excitation-Density Dependence of Photoluminescence from Si-doped AlGaN/AlGaN Multiple Quantum Wells at Low Temperature2008

    • Author(s)
      R. Kajitani,
    • Journal Title

      Jpn, J. Appl. Phys. 47

      Pages: 47-50

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] First Operation of AlGaN Channel High Electron Mobility Transistors2008

    • Author(s)
      T. Nanjo
    • Journal Title

      Appl. Phys. Express 1

      Pages: 011101-1-3

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Improvement of Al-Polar AlN Layer Quality by Three-Stage Flow-Modulati on Metalorganic Chemical Vapor Deposition2008

    • Author(s)
      M. Takeuchi
    • Journal Title

      Appl. Phys. Express 1

      Pages: 021102-1-3

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Quaternary InAlGaN quantum-dot ultraviolet light-emitting diode emitting at 335 nm fabricated by an anti-surfactant method2008

    • Author(s)
      H. Hirayama
    • Journal Title

      Phys. Stat. Solidi QDQ0760

      Pages: 1-10

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Direct determination of photonic band structure for waveguiding modes in two-dimensional photonic crystals2008

    • Author(s)
      S. Inoue,
    • Journal Title

      Optics Express Vol.16

      Pages: 2461-2468

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] フラックスエピタキシー:酸化物完全単結晶薄膜への挑戦2008

    • Author(s)
      松本 祐司
    • Journal Title

      機能材料 28

      Pages: 1-10

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] 高効率大面積AlGaN深紫外発光素子実現のためのMOCVD成長2008

    • Author(s)
      武内道一、
    • Journal Title

      日本結晶成長学会特別講演会・日本学術振興会第161委員会第54回研究会資料

      Pages: 21-28

  • [Journal Article] Al-and N-polar AlN layers grown on c-plane sapphire substrates by modified flow-modulation MOCVD2007

    • Author(s)
      M. Takeuchi,
    • Journal Title

      J. Crystal Growth 305

      Pages: 360-365

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Polarity dependence of AlN {0001} decomposition in flowing H_22007

    • Author(s)
      Y. Kumagai
    • Journal Title

      J. Crystal Growth 305

      Pages: 360-365

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Barrier-height and well-width dependence of photoluminescence from AlGaN-based quantum well structures for deep-UV emitters2007

    • Author(s)
      R. Kajitani,
    • Journal Title

      Materials Science & Engineering B 139

      Pages: 186-191

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Defect-free two-dimensional-photonic crystal structures on a nonlinear optical polymer patterned by nanoimprint lithography2007

    • Author(s)
      M. Okinaka,
    • Journal Title

      J. Vac. Sci. Technol. B Vol.25

      Pages: 899-901

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] フラックスエピタキシー法を用いたScAlMgO_4薄膜成長2007

    • Author(s)
      H. Ishii
    • Journal Title

      Journal of Crystal Growth. 2

      Pages: 75-78

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] 「深紫外半導体発光素子およびTHz量子カスケードレーザの開発」2007

    • Author(s)
      平山秀樹
    • Journal Title

      電気学会、光・量子デバイス研究会資料 OQD-07-60

      Pages: 1-10

  • [Journal Article] Binary composition spread approach for parallel pulsed laser deposition synthesis and highthroughput characterization of transparent and semiconducting oxide thin films2007

    • Author(s)
      Joshi, U.S.
    • Journal Title

      Indian Journal of Pure & Applied Physics 45

      Pages: 62-65

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Oxide materials research for global environment and energy with a focus on CO2 fixation into polymers2007

    • Author(s)
      Koinuma, H.
    • Journal Title

      Reactive & Functional Polymers 11

      Pages: 1129-1136

    • Peer Reviewed
  • [Presentation] 深紫外発光デバイス・超高耐圧電子デバイス対応A1GaN層用A1N/サファイアテンプレート2008

    • Author(s)
      武内 道一,
    • Organizer
      第55回応用物理学会関係連合講演会
    • Place of Presentation
      日本大学理工学部
    • Year and Date
      20080327-30
  • [Presentation] A1GaNチャネルHEMTにおける残留キャリアのバッファ層構造依存性2008

    • Author(s)
      南條 拓真,
    • Organizer
      第55回応用物理学会関係連合講演会
    • Place of Presentation
      日本大学理工学部
    • Year and Date
      20080327-30
  • [Presentation] A1GaNチャネルHEMTにおけるドレイン耐圧の向上2008

    • Author(s)
      南條 拓真
    • Organizer
      第55回応用物理学会関係連合講演会
    • Place of Presentation
      日本大学理工学部
    • Year and Date
      20080327-30
  • [Presentation] 「窒化物半導体による深紫外およびテラヘルツ発光素子開発の現状と展望」2008

    • Author(s)
      平山秀樹
    • Organizer
      ワイドギャップ半導体光・電子デバイス、日本学術振興会第162委員会、特別講演会(第56回研究会)
    • Place of Presentation
      主婦会館プラザエフ
    • Year and Date
      2008-01-25
  • [Presentation] MOCVD法による酸化亜鉛薄膜成長2007

    • Author(s)
      角谷正友,
    • Organizer
      東北大学金属材料研究所ワークショップ
    • Place of Presentation
      東北大学多元物質科学研究所
    • Year and Date
      20071220-21
  • [Presentation] Remarkable Breakdown Voltage Enhancement in A1GaN Channel HEMTs operation of A1GaN channel high electron mobility transistors with sufficiently low resistive source/drain contact formed by Si ion implantation2007

    • Author(s)
      T. Nanjo,
    • Organizer
      2007 International Electron Devices Meeting (IEDM2007)
    • Place of Presentation
      Washington, DC, USA
    • Year and Date
      20071210-12
  • [Presentation] Remarkable Breakdown Voltage Enhancement in A1GaN Channel HEMTs operation of A1GaN channel high electron mobility transistors with sufficien tly low resistive source/drain contact formed by Si ion implantation2007

    • Author(s)
      T. Nanjo,
    • Organizer
      2007 International Electron Devices Meeting (IEDM2007)
    • Place of Presentation
      Washington, DC, USA
    • Year and Date
      20071210-12
  • [Presentation] Flux-mediated epitaxy: Application of nano-scale solid-liquid interface in vacuum to vapor phase oxide epitaxy2007

    • Author(s)
      松本 祐司
    • Organizer
      International Symposium on Advanced Nanodevices and Nanotechnology
    • Place of Presentation
      Waikoloa Beach Marriott Re sort & Spa
    • Year and Date
      20071203-07
  • [Presentation] Combinatorial laser processing for high throughput experimentation of oxide and molecular electronics2007

    • Author(s)
      H. Koinuma,
    • Organizer
      Workshop on Molecular Nano-Electronic Devices
    • Place of Presentation
      京都大学
    • Year and Date
      20071119-20
  • [Presentation] GENERAL APPLICATION OF SOLID-LIQUID INTERFACE TO NANO MATERILALS PROCESSING IN VACUUM2007

    • Author(s)
      松本 祐司
    • Organizer
      2th International Symposium on Integrated Molecular and Macromolecular Materials
    • Place of Presentation
      北京化工大学(中国)
    • Year and Date
      20071025-28
  • [Presentation] N-polar A1N sacrificial layers grown by MOCVD for free-standing A1N substrates2007

    • Author(s)
      M. Takeuchi,
    • Organizer
      5th International Workshop on Bulk Nitride Semiconductors (IWBNS-5)
    • Place of Presentation
      Salvador, Brazil
    • Year and Date
      20070924-29
  • [Presentation] First operation of A1GaN channel high electron mobility transistors with sufficiently low resistive source/drain contact formed by Si ion implantation2007

    • Author(s)
      T. Nanjo,
    • Organizer
      2007 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM 2007)
    • Place of Presentation
      Tsukuba, Japan
    • Year and Date
      20070918-21
  • [Presentation] Photoluminescence study of AlGaN/AlGaN quantum well structures for deep UV emitters - barrier height and well width dependence, and growth interruption effect -2007

    • Author(s)
      M. Takeuchi,
    • Organizer
      7th International Conference on Nitride Semiconductores (ICNS-7)
    • Place of Presentation
      Las Vegas, USA
    • Year and Date
      20070916-21
  • [Presentation] Two-dimensional electron gas formation in AlGaN/AlGaN heterostructures grown by MOCVD2007

    • Author(s)
      M. Takeuchi,
    • Organizer
      7th International Conference on Nitride Semiconductores (ICNS-7)
    • Place of Presentation
      Las Vegas, USA
    • Year and Date
      20070916-21
  • [Presentation] "Quaternary InA1GaN quantum-dot UV-LED emitting at 335 nm fabricated by an anti-surfactant method"2007

    • Author(s)
      H. Hirayama,
    • Organizer
      International Conference on Nitride Semiconductors (ICNS-7)
    • Place of Presentation
      Las Vegas, USA
    • Year and Date
      20070916-21
  • [Presentation] 高品質A1Nと流量変調法短周期超格子層を用いた280nm帯深紫外LED2007

    • Author(s)
      武内 道一
    • Organizer
      第68回応用物理学会学術講演会
    • Place of Presentation
      北海道工業大学
    • Year and Date
      20070904-08
  • [Presentation] 280nm帯深紫外LEDのA1反射層による光取り出し効率の向上2007

    • Author(s)
      大塚 匠
    • Organizer
      第68回応用物理学会学術講演会
    • Place of Presentation
      北海道工業大学
    • Year and Date
      20070904-08
  • [Presentation] 280nm帯深紫外LED用n-A1GaN層の考察2007

    • Author(s)
      大石 真
    • Organizer
      第68回応用物理学会学術講演会
    • Place of Presentation
      北海道工業大学
    • Year and Date
      20070904-08
  • [Presentation] レーザーリフトオフ対応超格子吸光層を用いた大面積縦型深紫外LEDの作製2007

    • Author(s)
      前川 倫宏,
    • Organizer
      第68回応用物理学会学術講演会
    • Place of Presentation
      北海道工業大学
    • Year and Date
      20070904-08
  • [Presentation] 終端バリア層厚制御によるA1GaN系深紫外LEDの注入効率の向上2007

    • Author(s)
      武内 道一
    • Organizer
      第68回応用物理学会学術講演会
    • Place of Presentation
      北海道工業大学
    • Year and Date
      20070904-08
  • [Presentation] AlyGa1-yN/AlxGa1-xNショットキーダイオード特性のA1組成依存性2007

    • Author(s)
      南條 拓真
    • Organizer
      第68回応用物理学会学術講演会
    • Place of Presentation
      北海道工業大学
    • Year and Date
      20070904-08
  • [Presentation] 「深紫外発光InA1GaN4元混晶量子ドットの形成と電流注入発光」2007

    • Author(s)
      藤川紗千恵、
    • Organizer
      2007秋応用物理学会(第68回)
    • Place of Presentation
      北海道工業大学
    • Year and Date
      20070904-08
  • [Presentation] MOCVD growth of vertical-type A1GaN deep-UV light emitting diodes2007

    • Author(s)
      武内 道一
    • Organizer
      第26回電子材料シンポジウム(EMS-26)
    • Place of Presentation
      滋賀県守山
    • Year and Date
      20070704-06
  • [Presentation] Improvement in emission intensity of A1GaN deep ultraviolet light-emitting diodes by carrier confinement enhancement in thin quantum well2007

    • Author(s)
      青柳 克信,
    • Organizer
      第26回電子材料シンポジウム(EMS-26)
    • Place of Presentation
      滋賀県守山
    • Year and Date
      20070704-06
  • [Presentation] Combinatorial Laser processing for Oxide and Organic Electronics2007

    • Author(s)
      H. Koinuma,
    • Organizer
      Laserion 2007
    • Place of Presentation
      Tegernsee, Germany
    • Year and Date
      20070701-03
  • [Presentation] Ultra-quality of Bi_4Ti_3O_<12> ferroelectric thin films via flux-mediated epitaxy2007

    • Author(s)
      Yuji Matsumoto
    • Organizer
      European Multifunctional Materials Workshop
    • Place of Presentation
      Haholmen Havstuer Karvag, N-6530 Averoy, Norway
    • Year and Date
      20070617-21
  • [Presentation] 「深紫外半導体発光素子およびTHz量子カスケードレーザの開発」2007

    • Author(s)
      平山秀樹
    • Organizer
      電気学会、光・量子デバイス研究会
    • Place of Presentation
      九州大学
    • Year and Date
      2007-12-14
  • [Presentation] 分極反転ドメインの選択的化学エッチングによるLiNb03非線形フォトニック結晶の作製2007

    • Author(s)
      井上振一郎
    • Organizer
      第68回応用物理学会学術講演会
    • Place of Presentation
      札幌市
    • Year and Date
      2007-09-08
  • [Presentation] "Development of Deep-UV and Terahertz Semiconductor Emitting Devices and their Applications"2007

    • Author(s)
      H. Hirayama
    • Organizer
      The 13Th International Micromachine/Nanotech Symposium, -MEMS Frontier: Innovative Devices by Micro and Nano-Bio Fusion Create New Lifestyles-,
    • Place of Presentation
      Tokyo
    • Year and Date
      2007-07-26
  • [Book] 先端材料光物性2008

    • Author(s)
      青柳克信
    • Total Pages
      1-313
    • Publisher
      コロナ社

URL: 

Published: 2010-02-04   Modified: 2016-04-21  

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