• Search Research Projects
  • Search Researchers
  • How to Use
  1. Back to project page

2016 Fiscal Year Annual Research Report

電子線励起・深紫外窒化物半導体レーザ

Research Project

Project/Area Number 15H02019
Research InstitutionMeijo University

Principal Investigator

岩谷 素顕  名城大学, 理工学部, 准教授 (40367735)

Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) 上山 智  名城大学, 理工学部, 教授 (10340291)
松本 貴裕  名古屋市立大学, 大学院芸術工学研究科, 教授 (10422742)
竹内 哲也  名城大学, 理工学部, 教授 (10583817)
Project Period (FY) 2015-04-01 – 2018-03-31
Keywords窒化物半導体 / レーザ / 紫外 / 電子線励起 / 電子線 / キャリア注入
Outline of Annual Research Achievements

本研究課題では、未踏領域波長である深紫外領域の電子線励起の半導体レーザを実現することを目標に研究を進めてきた。半導体レーザを実現するためには、材料自体が光学的な利得を有していること、光共振器を形成することが可能であること、さらにキャリア(電子・正孔)を活性層中に注入することが必要である。紫外発光材料として、窒化物半導体(GaN、AlN、InNおよびそれらの混晶)は高いポテンシャルを有しており、既に高効率な紫外LEDが実現され、現在社会実装が進められつつある。その一方で、同材料は直接遷移型半導体であるため、半導体レーザとしての高いポテンシャルがあるとされ、世界的に研究化が進められている。これまでに、光励起の手法により、同材料は光学的な利得を有していること、また光共振器を形成することが可能であることが確認されてきた。その一方で、キャリアの注入に関しては、高い正孔濃度を持つp型AlGaN結晶を得ることが非常に困難であるため、一般的な半導体レーザで用いられているpn接合による方法が用いられていない。本研究課題では、それらの問題を打破するために、電子線励起という新しい方法を適用することを検討してきた。
平成27年から電子線励起の装置を導入し、紫色領域でのレーザ発振を確認し、平成28年度は紫外領域の電子線励起を検討してきた。また、加速電圧によって、注入されるキャリアの効率が変化することが確認されたため、電子線シミュレータを導入し、電子線の軌跡を解析することによって効率よく発光層を励起できる方法を検討してきた。結果として、350nm帯の紫外線レーザを実現することが確認できた。さらに光励起の方法を活用することによって、200nm帯の低閾値化にも成功した。最終年度となる平成29年度は、これらの成果を活用し、200nm帯の電子線励起レーザおよびその学理を探求する予定である。

Current Status of Research Progress
Current Status of Research Progress

2: Research has progressed on the whole more than it was originally planned.

Reason

本研究課題では、電子線励起による紫外線レーザを実現することを目的としてきた。初年度は、レーザ発振に必要な電子線源の設計から装置導入を進め、電流注入実績のあるGaInN活性層を用いたレーザの実証まで確認をした。その結果を用いて、平成28年度は電子線励起による紫外線レーザを検討し、結果としてGaN/AlGaN活性層を用いた紫外線レーザを実現するに至っており、当初予定していた研究内容を順調に進めてきたと考えている。また、学理に関しても検討を進めており、加速電圧や電子線パルス幅、スポットサイズの依存性を検討した結果から、これまでに加速電圧の違いによって活性層の励起効率が変化することを確認した。それらを学術的に理解且つ制御することをめざし、電子線シミュレータを導入し、解析を行った結果、電子線の軌跡を理解することによって最適な加速電圧、さらに電子線励起レーザを実現するのに最適な構造に関しての知見を深めた。さらに最終年度に向けて光励起法を用いて200nm帯のレーザ構造の最適化を進めており、サファイア基板上に作製したAlNテンプレート、およびAlN基板上に作製したAlNテンプレートなどを用いて低閾値レーザの実現を進めており、最終年度で実現を目指す200nm帯の電子線励起・深紫外レーザを実現するうえで非常に良い知見を得たと考えている。
これらの結果は、学術論文や国内・国際学会で発表しており、国際学会の招待講演にも3回選出されており、高い学術的な評価を得ていると考えられる。

Strategy for Future Research Activity

現在までの進捗状況にも記載したように、これまでの検討でGaN/AlGaN活性層を用いた電子線励起による紫外線レーザは実現を実証した。また、光励起法による200nm帯のレーザの構造最適化はほぼ完了している。さらに、シミュレータおよび実験を組み合わせることによって電子線励起による最適なデバイス構造に関する知見を得てきた。これらの成果を活用することによって、未踏である200nm帯の電子線励起のレーザの実現を検討するのが本年の課題である。また、これまでの検討でAlGaNの結晶性とレーザ特性には相関があることがわかっており、高品質結晶化が可能である、バルクAlN基板やスパッタAlN薄膜をアニールする手法を適用し、レーザ性能の向上を検討する予定である。
さらに完成年度である平成29年度は学理の追及に関しても進める予定であり、博士研究員として雇用しているHanはデバイス物理の専門家であることから、彼がこれまで培ってきたLEDをはじめとしたデバイス物理の学理を活用して、電子線励起のレーザの学理を追及し、学術的な成果を追求していく予定である。さらに、現状エッジエミッティングレーザが研究の中心となっているが、デバイス応用を考えると面発光型のレーザも検討が必要であることから、可能であれば面発光型の電子線励起レーザも検討を進める予定である。
これらの結果を学術論文としてまとめ、最終的な成果をまとめるのが本年の研究内容となる。

  • Research Products

    (62 results)

All 2017 2016

All Journal Article (12 results) (of which Peer Reviewed: 11 results,  Acknowledgement Compliant: 8 results,  Open Access: 1 results) Presentation (49 results) (of which Int'l Joint Research: 24 results,  Invited: 6 results) Patent(Industrial Property Rights) (1 results)

  • [Journal Article] Reduction of contact resistance in V-based electrode for high AlN molar fraction n-type AlGaN by using thin SiNx intermediate layer2017

    • Author(s)
      Noriaki Nagata, Takashi Senga, Motoaki Iwaya, Tetsuya Takeuchi, Satoshi Kamiyama, Isamu Akasaki
    • Journal Title

      Physica Status Solidi C

      Volume: 14 Pages: 1600243

    • DOI

      10.1002/pssc.201600243

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] High quality Al0.99Ga0.01N layers on sapphire substrates grown at 1150 °C by metalorganic vapor phase epitaxy2017

    • Author(s)
      Shota Katsuno, Toshiki Yasuda, Koudai Hagiwara, Norikatsu Koide, Motoaki Iwaya, Tetsuya Takeuchi, Satoshi Kamiyama, Isamu Akasaki, Hiroshi Amano
    • Journal Title

      Japanese Journal of Applied Physics

      Volume: 56 Pages: 015504

    • DOI

      10.7567/JJAP.56.015504

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Relationship between lattice relaxation and electrical properties in polarization doping of graded AlGaN with high AlN mole fraction on AlGaN template2017

    • Author(s)
      Toshiki Yasuda, Tetsuya Takeuchi, Motoaki Iwaya, Satoshi Kamiyama, Isamu Akasaki, Hirsoshi Amano
    • Journal Title

      Applied Physics Express

      Volume: 10 Pages: 025502

    • DOI

      10.7567/APEX.10.025502

    • Peer Reviewed / Acknowledgement Compliant
  • [Journal Article] GaInN-based tunnel junctions with graded layers2016

    • Author(s)
      Daiki Takasuga, Yasuto Akatsuka, Masataka Ino, Norikatsu Koide, Tetsuya Takeuchi, Motoaki Iwaya, Satoshi Kamiyama, Isamu Akasaki
    • Journal Title

      Applied Physics Express

      Volume: 9 Pages: 081005

    • DOI

      10.7567/APEX.9.081005

    • Peer Reviewed / Acknowledgement Compliant
  • [Journal Article] Room-temperature continuous-wave operation of GaN-based vertical-cavity surface-emitting lasers with n-type conducting AlInN/GaN distributed Bragg reflectors2016

    • Author(s)
      Kazuki Ikeyama, Yugo Kozuka, Kenjo Matsui, Shotaro Yoshida, Takanobu Akagi, Yasuto Akatsuka, Norikatsu Koide, Tetsuya Takeuchi, Satoshi Kamiyama, Motoaki Iwaya, Isamu Akasaki
    • Journal Title

      Applied Physics Express

      Volume: 9 Pages: 102101

    • DOI

      10.7567/APEX.9.102101

    • Peer Reviewed / Open Access / Acknowledgement Compliant
  • [Journal Article] 窒化物半導体面発光レーザーの現状2016

    • Author(s)
      竹内哲也、岩谷素顕、上山 智、赤﨑 勇
    • Journal Title

      照明学会誌

      Volume: 100 Pages: 189

  • [Journal Article] GaN-based vertical cavity surface emitting lasers with periodic gain structures2016

    • Author(s)
      Kenjo Matsui, Yugo Kozuka, Kazuki Ikeyama, Kosuke Horikawa, Takashi Furuta, Takanobu Akagi, Tetsuya Takeuchi, Satoshi Kamiyama, Motoaki Iwaya and Isamu Akasaki
    • Journal Title

      Japanese Journal of Applied Physics

      Volume: 55 Pages: 05FJ08

    • DOI

      http://doi.org/10.7567/JJAP.55.05FJ11

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Electrical properties of n-type AlGaN with high Si concentration2016

    • Author(s)
      Kunihiro Takeda, Motoaki Iwaya, Tetsuya Takeuchi, Satoshi Kamiyama and Isamu Akasaki
    • Journal Title

      Japanese Journal of Applied Physics

      Volume: 55 Pages: 05FE02

    • DOI

      http://doi.org/10.7567/JJAP.55.05FE02

    • Peer Reviewed / Acknowledgement Compliant
  • [Journal Article] GaN barrier layer dependence of critical thickness in GaInN/GaN superlattice on GaN characterized by in situ X-ray diffraction2016

    • Author(s)
      Junya Osumi, Koji Ishihara, Taiji Yamamoto, Motoaki Iwaya, Tetsuya Takeuchi, Satoshi Kamiyama and Isamu Akasaki
    • Journal Title

      Japanese Journal of Applied Physics

      Volume: 55 Pages: 05FD11

    • DOI

      http://doi.org/10.7567/JJAP.55.05FD11

    • Peer Reviewed / Acknowledgement Compliant
  • [Journal Article] Realization of high-performance hetero-field-effect-transistor-type ultraviolet photosensors using p-type GaN comprising three-dimensional island crystals2016

    • Author(s)
      Yuma Yamamoto, Akira Yoshikawa, Toshiki Kusafuka, Toshiki Okumura, Motoaki Iwaya, Tetsuya Takeuchi, Satoshi Kamiyama and Isamu Akasaki
    • Journal Title

      Japanese Journal of Applied Physics

      Volume: 55 Pages: 05FJ07

    • DOI

      http://doi.org/10.7567/JJAP.55.05FJ07

    • Peer Reviewed / Acknowledgement Compliant
  • [Journal Article] High-photosensitivity AlGaN-based UV heterostructure-field-effect-transistor-type photosensors2016

    • Author(s)
      Akira Yoshikawa, Yuma Yamamoto, Takuya Murase, Motoaki Iwaya, Tetsuya Takeuchi, Satoshi Kamiyama and Isamu Akasaki
    • Journal Title

      Japanese Journal of Applied Physics

      Volume: 55 Pages: 05FJ04

    • DOI

      http://doi.org/10.7567/JJAP.55.05FJ04

    • Peer Reviewed / Acknowledgement Compliant
  • [Journal Article] Low-ohmic-contact-resistance V-based electrode for n-type AlGaN with high AlN molar fraction2016

    • Author(s)
      Kazuki Mori, Kunihiro Takeda, Toshiki Kusafuka, Motoaki Iwaya, Tetsuya Takeuchi, Satoshi Kamiyama, Isamu Akasaki and Hiroshi Amano
    • Journal Title

      Japanese Journal of Applied Physics

      Volume: 55 Pages: 05FL03

    • DOI

      http://doi.org/10.7567/JJAP.55.05FL03

    • Peer Reviewed / Acknowledgement Compliant
  • [Presentation] 高効率GaN面発光レーザの現状と展望2017

    • Author(s)
      竹内哲也・上山 智・岩谷素顕・赤﨑 勇
    • Organizer
      電子情報通信学会 総合大会
    • Place of Presentation
      名城大学
    • Year and Date
      2017-03-22 – 2017-03-26
    • Invited
  • [Presentation] GaNナノワイヤを用いた高出力LED作製に向けた検討2017

    • Author(s)
      軒村 恭平、栗崎 湧気、上山 智、竹内 哲也、岩谷 素顕、赤崎 勇
    • Organizer
      第77回応用物理学会秋季講演会
    • Place of Presentation
      パシフィコ横浜
    • Year and Date
      2017-03-14 – 2017-03-17
  • [Presentation] r面サファイア基板上スパッタリング成膜AlNバッファ層の結晶品質と熱処理効果2017

    • Author(s)
      大槻 隼也、神野 大樹、大長 久芳、上山 智、竹内 哲也、岩谷 素顕、赤﨑 勇
    • Organizer
      第77回応用物理学会秋季講演会
    • Place of Presentation
      パシフィコ横浜
    • Year and Date
      2017-03-14 – 2017-03-17
  • [Presentation] X線マイクロビームを用いた窒化物系単一ナノワイヤ上Ga1-xInxN/GaN量子井戸の構造評価2017

    • Author(s)
      清木 良麻、澁谷 弘樹、今井 康彦、隅谷 和嗣、木村 滋、岩瀬 航平、宮嶋 孝夫、上山 智、今井 大地、竹内 哲也、岩谷 素顕、赤崎 勇
    • Organizer
      第77回応用物理学会秋季講演会
    • Place of Presentation
      パシフィコ横浜
    • Year and Date
      2017-03-14 – 2017-03-17
  • [Presentation] 紫外発光素子に向けたp層側光吸収低減の検討2017

    • Author(s)
      安田 俊輝、桑原 奈津子、竹内 哲也、岩谷 素顕、上山 智、赤﨑 勇、天野 浩
    • Organizer
      第77回応用物理学会秋季講演会
    • Place of Presentation
      パシフィコ横浜
    • Year and Date
      2017-03-14 – 2017-03-17
  • [Presentation] アニール処理したスパッタ AlN膜上に形成したAlGaNの特性2017

    • Author(s)
      袴田 淳哉、川瀬 雄太、岩山 章、岩谷 素顕、上山 智、竹内 哲也、赤﨑 勇、三宅 秀人
    • Organizer
      第77回応用物理学会秋季講演会
    • Place of Presentation
      パシフィコ横浜
    • Year and Date
      2017-03-14 – 2017-03-17
  • [Presentation] スパッタ法AlN膜の高温アニールとHVPE法によるホモエピ成長・口頭2017

    • Author(s)
      劉 怡康、三宅 秀人、平松 和政、岩谷 素顕、赤崎 勇
    • Organizer
      第77回応用物理学会秋季講演会
    • Place of Presentation
      パシフィコ横浜
    • Year and Date
      2017-03-14 – 2017-03-17
  • [Presentation] 電子線励起法によるGaN/AlGaN-MQW レーザ2017

    • Author(s)
      林 貴文、永田 訓章、千賀 崇史、岩山 章、岩谷 素顕、竹内 哲也、上山 智、赤﨑 勇
    • Organizer
      第77回応用物理学会秋季講演会
    • Place of Presentation
      パシフィコ横浜
    • Year and Date
      2017-03-14 – 2017-03-17
  • [Presentation] 横方向光閉じ込め構造を有するGaN系面発光レーザ2017

    • Author(s)
      林 菜摘、松井 健城、古田 貴士、赤木 孝信、竹内 哲也、上山 智、岩谷素顕、赤﨑 勇
    • Organizer
      第77回応用物理学会秋季講演会
    • Place of Presentation
      パシフィコ横浜
    • Year and Date
      2017-03-14 – 2017-03-17
  • [Presentation] GaNナノワイヤ結晶の限定領域形成に関する基礎検討2017

    • Author(s)
      林 菜摘、松井 健城、古田 貴士、赤木 孝信、竹内 哲也、上山 智、岩谷素顕、赤﨑 勇
    • Organizer
      第77回応用物理学会秋季講演会
    • Place of Presentation
      パシフィコ横浜
    • Year and Date
      2017-03-14 – 2017-03-17
  • [Presentation] AlN系窒化物半導体のウェハ接合技術の検討2017

    • Author(s)
      高橋 一矢、篠田 涼二、岩谷 素顕、竹内 哲也、上山 智、服部 友一、赤崎 勇、片山 竜二、上向井 正裕
    • Organizer
      第77回応用物理学会秋季講演会
    • Place of Presentation
      パシフィコ横浜
    • Year and Date
      2017-03-14 – 2017-03-17
  • [Presentation] Demonstration of AlGaN/GaN UV lasers by electron beam pumping2017

    • Author(s)
      Motoaki Iwaya, Takafumi Hayashi, Noriaki Nagata, Takashi Senga, Sho Iwayama, Tetsuya Takeuchi, Satoshi Kamiyama, Isamu Akasaki, and Takahiro Matsumoto
    • Organizer
      Workshop on Frontier Photonic and Electronic Materials and Devices
    • Place of Presentation
      Mallorca, Spain
    • Year and Date
      2017-03-05 – 2017-03-08
    • Int'l Joint Research / Invited
  • [Presentation] GaN-based VCSELs with lateral optical confinement structures2017

    • Author(s)
      N. Hayashi, K. Matsui, T. Furuta, T. Akagi, T. Takeuchi, S. Kamiyama, M. Iwaya, and I. Akasaki
    • Organizer
      ISPlasma 2017
    • Place of Presentation
      Chubu University, Japan
    • Year and Date
      2017-02-28 – 2017-03-03
    • Int'l Joint Research / Invited
  • [Presentation] Demonstration of AlGaN/GaN-based UV lasers excited by electron beam2017

    • Author(s)
      Motoaki Iwaya, Takafumi Hayashi, Noriaki Nagata, Takashi Senga, Sho Iwayama, Tetsuya Takeuchi, Satoshi Kamiyama, Isamu Akasaki, and Takahiro Matsumoto
    • Organizer
      SPIE Photonics west
    • Place of Presentation
      San Fransisco, USA
    • Year and Date
      2017-01-29 – 2017-02-02
    • Int'l Joint Research / Invited
  • [Presentation] GaN-based VCSELs with AlInN/GaN DBRs2017

    • Author(s)
      Tetsuya Takeuchi, Motoaki Iwaya, Satoshi Kamiyama, Isamu Akasaki
    • Organizer
      SPIE Photonics west
    • Place of Presentation
      San Fransisco
    • Year and Date
      2017-01-29 – 2017-02-02
    • Int'l Joint Research / Invited
  • [Presentation] 3-mW RT-CW GaN-Based VCSELs and Their Temperature Dependence2016

    • Author(s)
      Kenjo Matsui, Takashi Furuta, Natsumi Hayashi, Yugo Kozuka, Takanobu Akagi, Tetsuya Takeuchi, Satoshi Kamiyama, Motoaki Iwaya and Isamu Akasaki,
    • Organizer
      International Workshop on Nitride Semiconductors (IWN 2016)
    • Place of Presentation
      Florida, USA
    • Year and Date
      2016-10-02 – 2016-10-07
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] High Temperature Annealing of Sputtered AlN Buffer Layer on r-Plane Sapphire Substrate and its Effect on Crystalline Quality of a-Plane GaN2016

    • Author(s)
      Daiki Jinno, Shun Otsuki, Teruyuki Niimi, Hisayoshi Daicho, Motoaki Iwaya, Tetsuya Takeuchi, Satoshi Kamiyama and Isamu Akasaki
    • Organizer
      International Workshop on Nitride Semiconductors (IWN 2016)
    • Place of Presentation
      Florida, USA
    • Year and Date
      2016-10-02 – 2016-10-07
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Low Temperature Photoluminescence in Highly Si-Doped AlxGa1-xN with x < 0.092016

    • Author(s)
      Bo Monemar, Plamen P. Paskov, K. Takeda, Motoaki Iwaya, Tetsuya Takeuchi, Satoshi Kamiyama and Isamu Akasaki
    • Organizer
      International Workshop on Nitride Semiconductors (IWN 2016)
    • Place of Presentation
      Florida, USA
    • Year and Date
      2016-10-02 – 2016-10-07
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Theoretical Investigation of Nitride Nanowire-Based QuantumShell Lasers2016

    • Author(s)
      Yuki Kurisaki, Satoshi Kamiyama, Tetsuya Takeuchi, Motoaki Iwaya and Isamu Akasaki
    • Organizer
      International Workshop on Nitride Semiconductors (IWN 2016)
    • Place of Presentation
      Florida, USA
    • Year and Date
      2016-10-02 – 2016-10-07
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Local Structural Analysis around In Atoms in Al0.82In0.18N alloy by Using X-Ray Absorption Fine-Structure Measurements2016

    • Author(s)
      Ryoma Seiki, Daisuke Komori, Kazuki Ikeyama, Toshiaki Ina, Takeyoshi Onuma, Takao Miyajima, Tetsuya Takeuchi, Satoshi Kamiyama, Motoaki Iwaya and Isamu Akasaki
    • Organizer
      International Workshop on Nitride Semiconductors (IWN 2016)
    • Place of Presentation
      Florida, USA
    • Year and Date
      2016-10-02 – 2016-10-07
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Characterization of AlGaN/GaN Heterostructure by In Situ X-Ray Diffraction Attached Metal Organic Vapor Phase Epitaxy2016

    • Author(s)
      Ryousuke Kanayama, Junya Osumi, Motoaki Iwaya, Tetsuya Takeuchi, Satoshi Kamiyama and Isamu Akasaki
    • Organizer
      International Workshop on Nitride Semiconductors (IWN 2016)
    • Place of Presentation
      Florida, USA
    • Year and Date
      2016-10-02 – 2016-10-07
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Determination of the Site of Sb Occupation in MOCVD-Grown GaN1xSbx Using X-Ray Absorption Fine-Structure Measurements2016

    • Author(s)
      Takao Miyajima, Daisuke Komori, Toshiaki Ina, Ryoma Seiki, Kiyofumi Nitta, Tetsuya Takeuchi, Tomoya Uruga, Satoshi Kamiyama, Motoaki Iwaya and Isamu Akasaki,
    • Organizer
      International Workshop on Nitride Semiconductors (IWN 2016)
    • Place of Presentation
      Florida, USA
    • Year and Date
      2016-10-02 – 2016-10-07
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Buried Tunnel Junctions Using Low Resistive GaInN Tunnel Junctions with High Si Concentrations2016

    • Author(s)
      Yasuto Akatsuka, Daiki Takasuka, Takanobu Akagi, Tetsuya Takeuchi, Motoaki Iwaya, Satoshi Kamiyama and Isamu Akasaki
    • Organizer
      International Workshop on Nitride Semiconductors (IWN 2016)
    • Place of Presentation
      Florida, USA
    • Year and Date
      2016-10-02 – 2016-10-07
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Physical Property of the High Photosensitive Field Effect Transistor Type UV Photosensors with AlGaN/AlGaN Hetero Structure2016

    • Author(s)
      Akira Yoshikawa, Saki Ushida, Motoaki Iwaya, Tetsuya Takeuchi, Satoshi Kamiyama and Isamu Akasaki
    • Organizer
      International Workshop on Nitride Semiconductors (IWN 2016)
    • Place of Presentation
      Florida, USA
    • Year and Date
      2016-10-02 – 2016-10-07
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Temperature Dependence in AlGaN-Based Heterostructure Field-Effect Transistor Type UV Photosensors2016

    • Author(s)
      Saki Ushida, Akira Yoshikawa, Motoaki Iwaya, Satoshi Kamiyama, Tetsuya Takeuchi and Isamu Akasaki
    • Organizer
      International Workshop on Nitride Semiconductors (IWN 2016)
    • Place of Presentation
      Florida, USA
    • Year and Date
      2016-10-02 – 2016-10-07
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Hole Accumulations to Polarization Charges in Relaxed AlGaN Heterostructures with High AlN Mole Fractions2016

    • Author(s)
      Toshiki Yasuda, Tetsuya Takeuchi, Motoaki Iwaya, Satoshi Kamiyama, Isamu Akasaki
    • Organizer
      International Workshop on Nitride Semiconductors (IWN 2016)
    • Place of Presentation
      Florida, USA
    • Year and Date
      2016-10-02 – 2016-10-07
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Low Resistivity Ohmic Contact V-Based Electrode Contributed by Using Thin SiNx Intermediate Layer for High AlN Molar Fraction n-Type AlGaN2016

    • Author(s)
      Noriaki Nagata, Takashi Senga, Motoaki Iwaya, Tetsuya Takeuchi, Satoshi Kamiyama and Isamu Akasaki
    • Organizer
      International Workshop on Nitride Semiconductors (IWN 2016)
    • Place of Presentation
      Florida, USA
    • Year and Date
      2016-10-02 – 2016-10-07
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] 窒化物系ナノワイヤーおよび量子殻構造の作製と、光デバイス応用2016

    • Author(s)
      上山 智、竹内 哲也、岩谷 素顕、赤﨑 勇
    • Organizer
      第77回応用物理学会秋季講演会
    • Place of Presentation
      朱鷺メッセ
    • Year and Date
      2016-09-13 – 2016-09-16
    • Invited
  • [Presentation] AlGaN系HFET型光センサのSiNxパッシベーション効果2016

    • Author(s)
      牛田 彩希、吉川 陽、岩谷 素顕、竹内 哲也、上山 智、赤﨑 勇
    • Organizer
      第77回応用物理学会秋季講演会
    • Place of Presentation
      朱鷺メッセ
    • Year and Date
      2016-09-13 – 2016-09-16
  • [Presentation] 分極電荷による高ホール濃度を有するp型AlGaNの作製2016

    • Author(s)
      安田 俊輝、竹内 哲也、岩谷 素顕、上山 智、赤﨑 勇、天野 浩
    • Organizer
      第77回応用物理学会秋季講演会
    • Place of Presentation
      朱鷺メッセ
    • Year and Date
      2016-09-13 – 2016-09-16
  • [Presentation] 低温下におけるⅢ族窒化物ナノワイヤの埋め込み成長に関する研究2016

    • Author(s)
      澁谷 弘樹、上山 智、岩谷 素顕、竹内 哲也、赤﨑 勇
    • Organizer
      第77回応用物理学会秋季講演会
    • Place of Presentation
      朱鷺メッセ
    • Year and Date
      2016-09-13 – 2016-09-16
  • [Presentation] X線その場観察MOVPEによるAlGaN/GaNヘテロ構造評価2016

    • Author(s)
      金山 亮介、大角 純也、岩谷 素顕、竹内 哲也、上山 智、赤﨑 勇
    • Organizer
      第77回応用物理学会秋季講演会
    • Place of Presentation
      朱鷺メッセ
    • Year and Date
      2016-09-13 – 2016-09-16
  • [Presentation] X線吸収微細構造測定によるAl0.82In0.18Nの局所構造解析2016

    • Author(s)
      清木 良麻、小森 大資、池山 和希、伊奈 稔哲、小沼 猛儀、宮嶋 孝夫、竹内 哲也、上山 智、岩谷 素顕、赤崎 勇
    • Organizer
      第77回応用物理学会秋季講演会
    • Place of Presentation
      朱鷺メッセ
    • Year and Date
      2016-09-13 – 2016-09-16
  • [Presentation] 電子線励起法によるGaInN/GaN-MQW レーザ2016

    • Author(s)
      林 貴文、永田 訓章、千賀 崇史、金山 亮介、岩山 章、岩谷 素顕、竹内 哲也、上山 智、赤﨑 勇
    • Organizer
      第77回応用物理学会秋季講演会
    • Place of Presentation
      朱鷺メッセ
    • Year and Date
      2016-09-13 – 2016-09-16
  • [Presentation] XAFS法を用いたGaN1-xSbx混晶半導体中のSb占有位置評価2016

    • Author(s)
      宮嶋 孝夫、小森 大資、清木 良麻、伊奈 稔哲、新田 清文、鈴木 健太、竹内 哲也、宇留賀 朋哉、上山 智、岩谷 素顕、赤﨑 勇
    • Organizer
      第77回応用物理学会秋季講演会
    • Place of Presentation
      朱鷺メッセ
    • Year and Date
      2016-09-13 – 2016-09-16
  • [Presentation] Si concentration dependence of laser oscillation characteristics in AlGaN multiple quantum well active layer2016

    • Author(s)
      T. Senga, N. Nagata, M. Iwaya, T. Takeuchi, S. Kamiyama, I. Akasaki
    • Organizer
      18th International Conference on Crystal Growth and Epitaxy (ICCGE-18)
    • Place of Presentation
      Nagoya/Japan
    • Year and Date
      2016-08-07 – 2016-08-12
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Observation of AlGaN/GaN heterostructure by in situ XRD attached metalorganic vapor phase epitaxial equipment2016

    • Author(s)
      J. Osumi, R. Kanayama, M. Iwaya, T. Takeuchi, S. Kamiyama, I. Akasaki,
    • Organizer
      18th International Conference on Crystal Growth and Epitaxy (ICCGE-18)
    • Place of Presentation
      Nagoya/Japan
    • Year and Date
      2016-08-07 – 2016-08-12
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Low resistiveGaInN tunneljunctionswith high Si concentrations2016

    • Author(s)
      Y. Akatsuka, D. Takasuka, M. Ino, T. Akagi, T. Takeuchi, M. Iwaya, S. Kamiyama, I. Akasak
    • Organizer
      18th International Conference on Crystal Growth and Epitaxy (ICCGE-18)
    • Place of Presentation
      Nagoya/Japan
    • Year and Date
      2016-08-07 – 2016-08-12
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] GaN-based VCSEL using a periodic gain structure consisting of two GaInN 5QWs2016

    • Author(s)
      K. Matsui, T. Furuta, Y. Kozuka, T. Akagi, T. Takeuchi, S. Kamiyama, M. Iwaya and I. Akasaki
    • Organizer
      35th Electronic Materilas Symposium
    • Place of Presentation
      Moriyama, Japan
    • Year and Date
      2016-07-06 – 2016-07-08
  • [Presentation] Improvement of p-type electrical property by polarization-doping in graded-AlGaN layer2016

    • Author(s)
      Y. . Yasuda, S. Katsuno, N. Kuwabara, T. Takeuchi, M. Iwaya, S. Kamiyama, I. Akasaki
    • Organizer
      35th Electronic Materilas Symposium
    • Place of Presentation
      Moriyama, Japan
    • Year and Date
      2016-07-06 – 2016-07-08
  • [Presentation] Polarization Induced Hole Accumulations in Nitride Semiconductor Heterostructures2016

    • Author(s)
      T. Yasuda, S. Yoshida, T. Takeuchi, M. Iwaya, S. Kamiyama, I. Akasaki, and H. Amano
    • Organizer
      The 4th International Conference on Light- Emitting Devices and Their Industrial Applications
    • Place of Presentation
      Yokohama/Japan
    • Year and Date
      2016-05-18 – 2016-05-20
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] GaN-based VCSELs using Periodic Gain Structures2016

    • Author(s)
      K. Matsui, K. Ikeyama, T. Furuta, Y. Kozuka, T. Akagi, T. Takeuchi, S. Kamiyama, M. Iwaya, and I. Akasaki
    • Organizer
      The 4th International Conference on Light- Emitting Devices and Their Industrial Applications
    • Place of Presentation
      Yokohama/Japan
    • Year and Date
      2016-05-18 – 2016-05-20
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] ITO/Ga2O3 Multilayer Electrodes Towards Deep UV-LEDs2016

    • Author(s)
      N. Kuwabara, T. Yasuda, S. Katsuno, N. Koide, T. Takeuchi, M. Iwaya, S. Kamiyama, and I. Akasaki,
    • Organizer
      The 4th International Conference on Light- Emitting Devices and Their Industrial Applications
    • Place of Presentation
      Yokohama/Japan
    • Year and Date
      2016-05-18 – 2016-05-20
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Temperature Dependence of the Nitride-based HFET Structure Photosensors2016

    • Author(s)
      S. Ushida, A. Yoshikawa, M. Iwaya, T. Takeuchi, S. Kamiyama, and I. Akasaki
    • Organizer
      The 4th International Conference on Light- Emitting Devices and Their Industrial Applications
    • Place of Presentation
      Yokohama/Japan
    • Year and Date
      2016-05-18 – 2016-05-20
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Low-Temperature Grown p-Side Structure with GaInN Tunnel Junction and n-GaNSb2016

    • Author(s)
      281.K. Suzuki, K. Takarabe, D. Komori, D. Takasuka, N. Koide, T. Takeuchi, M. Iwaya, S. Kamiyama, and I. Akasaki
    • Organizer
      The 4th International Conference on Light- Emitting Devices and Their Industrial Applications
    • Place of Presentation
      Yokohama/Japan
    • Year and Date
      2016-05-18 – 2016-05-20
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] 高温アニール処理のスパッタ AlN 層における効果2016

    • Author(s)
      袴田 淳哉、岩谷 素顕、上山 智、竹内 哲也、三宅 秀人、赤﨑 勇
    • Organizer
      第8回 窒化物半導体結晶成長講演会
    • Place of Presentation
      京都大学
    • Year and Date
      2016-05-09 – 2016-05-10
  • [Presentation] GaInN トンネル接合と n 型 GaNSb による低温 p 側構造の作製2016

    • Author(s)
      鈴木 健太、財部 覚、高須賀 大貴、小出 典克、 竹内 哲也、岩谷 素顕、上山 智、赤﨑 勇
    • Organizer
      第8回 窒化物半導体結晶成長講演会
    • Place of Presentation
      京都大学
    • Year and Date
      2016-05-09 – 2016-05-10
  • [Presentation] Nano-size concavo-convex (NCC)サファイア基板を用いた高品質 AlN 膜成長2016

    • Author(s)
      吉川 陽、岩谷 素顕、竹内 哲也、上山 智、赤﨑 勇
    • Organizer
      第8回 窒化物半導体結晶成長講演会
    • Place of Presentation
      京都大学
    • Year and Date
      2016-05-09 – 2016-05-10
  • [Presentation] 窒化物半導体 HFET 型光センサの動作に関する温度依存性2016

    • Author(s)
      牛田 彩希、吉川 陽、岩谷 素顕、上山 智、竹内 哲也、赤﨑 勇
    • Organizer
      第8回 窒化物半導体結晶成長講演会
    • Place of Presentation
      京都大学
    • Year and Date
      2016-05-09 – 2016-05-10
  • [Patent(Industrial Property Rights)] 窒化物半導体AlGaN系紫外半導体レーザ2016

    • Inventor(s)
      岩谷素顕、竹内哲也、上山智、赤崎勇、川瀬祐太、安田俊樹
    • Industrial Property Rights Holder
      名城大学
    • Industrial Property Rights Type
      特許
    • Industrial Property Number
      特願2016-242891
    • Filing Date
      2016-12-15

URL: 

Published: 2018-01-16  

Information User Guide FAQ News Terms of Use Attribution of KAKENHI

Powered by NII kakenhi