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2016 Fiscal Year Annual Research Report

複合マイクロ粒子機能構造体生産のための局在光制御セルインマイクロファクトリの開発

Research Project

Project/Area Number 15H02214
Research InstitutionThe University of Tokyo

Principal Investigator

高橋 哲  東京大学, 先端科学技術研究センター, 教授 (30283724)

Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) 高増 潔  東京大学, 大学院工学系研究科(工学部), 教授 (70154896)
道畑 正岐  東京大学, 先端科学技術研究センター, 助教 (70588855)
Project Period (FY) 2015-04-01 – 2019-03-31
Keywordsマイクロファクトリ / ナノマイクロ加工
Outline of Annual Research Achievements

光エネルギーが本来有している遠隔制御性・並列処理性・多重情報伝搬性と対象物体との相互作用で局在生成される近接場フォトンの能動的作用・受動的応答を利用して,数マイクロメートル程度の精密機能部品・デバイスを自律的に製造可能な数mm~数10mmスケールの超小型工場(セルインマイクロファクトリ)コンセプトの実現を目指す.具体的には化学的アプローチでは困難な多種マイクロ粒子複合による多機能マイクロデバイス(複合マイクロ粒子機能構造体)生産を実現する動的局在光場並列制御型セルインマクロファクトリの開発を目的とする.本年度の具体的な研究実績を羅列すると以下のようになる.
(28-1) 多光束定在エバネッセント波による面内局在分布一括制御の理論解析:セルインマイクロファクトリを実現する上で,不可欠なナノ,マイクロ粒子の一括位置制御法として,多光束のエバネッセント波干渉分布の適用可能性を理論的に検討した.結果,構造周期を複数有する複雑面内分布や,特殊な染み出し分布を,比較的高い制御性をもって実現可能であることが分かった.
(28-2) 複数粒子一括マルチトラップモジュールの設計:理論解析の知見を融合しながら,並行して実施した.サファイアプリズムと,多分岐ファイバを適用した,新しい複数粒子一括マルチトラップモジュールの現状最適案の設計を完了した.
(28-3) ナノ粒子位置インプロセスモニタリングモジュールの試作および検証実験:前年度の理論知見に基づき,後側焦点面干渉法によるナノ粒子位置モニタリング法を実現する実験装置の試作を行い,提案手法の有効性を実証した.合わせて,一括観察を実現する無限遠観察系についても適用有効性の検討を行った.

Current Status of Research Progress
Current Status of Research Progress

2: Research has progressed on the whole more than it was originally planned.

Reason

前述のように多光束での定在エバネッセント波において,多彩な一括局在分布制御が可能となることを理論的に確認できた.また,単ナノ粒子の位置測定法として,従来の後側焦点面干渉法に比べて感度を2倍以上向上させることが可能な,中央マスク遮断法について,実験的にもその有効性が検証できたため.

Strategy for Future Research Activity

前述のように多光束での定在エバネッセント波において,多彩な一括局在分布制御が可能となることが理論的に確認できた.その際,理論的に高屈折率プリズムが要求されていることから,サファイア製のプリズムを適用した複数粒子一括マルチトラップモジュールの試作を進める.また,粒子位置の一括計測用に,無限遠補正型顕微ユニットの実装も検討する.

  • Research Products

    (11 results)

All 2017 2016

All Journal Article (1 results) (of which Peer Reviewed: 1 results,  Open Access: 1 results) Presentation (9 results) (of which Int'l Joint Research: 4 results,  Invited: 1 results) Patent(Industrial Property Rights) (1 results) (of which Overseas: 1 results)

  • [Journal Article] Evanescent Light Exposing System under Nitrogen Purge for Nano- Stereolithography2016

    • Author(s)
      Yuki Suzuki, Hiroyuki Tahara, Masaki Michihata, Kiyoshi Takamasu, Satoru Takahashi
    • Journal Title

      Procedia CIRP

      Volume: 42 Pages: 77-80

    • DOI

      https://doi.org/10.1016/j.procir.2016.02.192

    • Peer Reviewed / Open Access
  • [Presentation] Highly Sensitive Back-Focal-Plane Interferometry for Tracking Nanoparticle Position2017

    • Author(s)
      Shuzo Masui, Masaki Michihata, Kiyoshi Takamasu, and Satoru Takahashi
    • Organizer
      Conference on Lasers and Electro-Optics (CLEO2017)
    • Place of Presentation
      San Jose, USA
    • Year and Date
      2017-05-14 – 2017-05-19
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] エバネッセント露光型ナノ光造形法に関する研究(第26報)ー多光束干渉によるミリオーダ領域のサブミクロン表面微細構造創製ー2017

    • Author(s)
      鈴木裕貴,松本侑己,道畑正岐,高増潔,高橋哲
    • Organizer
      2017年度精密工学会春季学術講演会
    • Place of Presentation
      神奈川
    • Year and Date
      2017-03-13 – 2017-03-15
  • [Presentation] エバネッセント露光型ナノ光造形法に関する研究(第27報)-エバネッセント光による面内形状制御性の解析-2017

    • Author(s)
      松本侑己,鈴木裕貴,道畑正岐,高増潔,高橋哲,工藤宏人
    • Organizer
      2017年度精密工学会春季学術講演会
    • Place of Presentation
      神奈川
    • Year and Date
      2017-03-13 – 2017-03-15
  • [Presentation] Improved back-focal-plane interferometry for monitoring nanoparticle position2016

    • Author(s)
      Shuzo Masui, Yousuke Horita, Masaki Michihata, Kiyoshi Takamasu, and Satoru Takahashi
    • Organizer
      International Symposium on Optomechatronic Technology 2016
    • Place of Presentation
      Tokyo, Japan
    • Year and Date
      2016-11-07 – 2016-11-09
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Theoretical Analysis of Improved Back-Focal-Plane Interferometry for Monitoring Nanoparticle Position2016

    • Author(s)
      Shuzo Masui, Yousuke Horita, Masaki Michihata, Kiyoshi Takamasu, and Satoru Takahashi
    • Organizer
      ASPE2016 Annual Meeting
    • Place of Presentation
      Portland, USA
    • Year and Date
      2016-10-23 – 2016-10-28
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] エバネッセント露光型ナノ光造形法に関する研究―エバネッセント露光用光硬化性樹脂の開発―2016

    • Author(s)
      松本侑己,鈴木裕貴,道畑正岐,高増潔,高橋哲
    • Organizer
      日本機械学会 第11回生産加工・工作機械部門講演会
    • Place of Presentation
      愛知
    • Year and Date
      2016-10-22 – 2016-10-23
  • [Presentation] Challenge of Evanescent Light Exposing Micro-Stereolithography2016

    • Author(s)
      S. Takahashi
    • Organizer
      JSAP-OSA Joint Symposia 2016
    • Place of Presentation
      Niigata, Japan
    • Year and Date
      2016-09-14 – 2016-09-14
    • Int'l Joint Research / Invited
  • [Presentation] 後側焦点面干渉法を用いた光触媒ナノ加工粒子変位計測の高感度化2016

    • Author(s)
      増井周造,堀田陽亮,道畑正岐,高増潔,高橋哲
    • Organizer
      日本機械学会年次大会2016
    • Place of Presentation
      福岡
    • Year and Date
      2016-09-12 – 2016-09-14
  • [Presentation] エバネッセント露光型ナノ光造形法に関する研究(第25報)ー機能性評価に向けた表面微細構造創製装置の開発ー2016

    • Author(s)
      鈴木裕貴,松本侑己,道畑正岐,高増潔,高橋哲
    • Organizer
      2016年度精密工学会春秋学術講演会
    • Place of Presentation
      茨城
    • Year and Date
      2016-09-06 – 2016-09-08
  • [Patent(Industrial Property Rights)] 母型の製造方法2016

    • Inventor(s)
      高橋哲,鈴木裕貴,鈴木邦和,道畑正岐,高増潔,田中大直,西村涼
    • Industrial Property Rights Holder
      東京大学,JXエネルギー株式会社
    • Industrial Property Rights Type
      特許
    • Industrial Property Number
      PCT/JP2016/074037
    • Filing Date
      2016-08-17
    • Overseas

URL: 

Published: 2018-01-16  

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