2015 Fiscal Year Annual Research Report
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15H03592
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| Research Institution | University of Hyogo |
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Principal Investigator |
木下 博雄 兵庫県立大学, 産学連携・研究推進機構, 特任教授 (50285334)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
原田 哲男 兵庫県立大学, 高度産業科学技術研究所, 助教 (30451636)
村松 康司 兵庫県立大学, 工学研究科, 教授 (50343918)
渡邊 健夫 兵庫県立大学, 高度産業科学技術研究所, 教授 (70285336)
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| Project Period (FY) |
2015-04-01 – 2018-03-31
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| Keywords | 軟X線 / 光学定数 / 多層膜 / 偏光 / 極端紫外線 |
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| Outline of Annual Research Achievements |
平成２７年度は光学定数測定に向けた環境整備に取り組んだ。
分光器における高次光の混入は光学定数の測定誤差の大きな要素であり、高次光除去機構を設置する必要がある。従来は透過型のフィルターを利用する一般的な手法を用いていたが、除去しきれない成分が多くあった。たとえば、波長13.5 nmのEUV領域ではSiフィルターを高次光除去に用いていた。しかし、Mo/Si多層膜の反射率測定において、最大で10%程度の高次光による測定誤差が生じていた。本研究では反射方式の高次光除去機構を製作した。具体的には、Mo単層膜２枚を入射角20度の２枚反射ミラーとしてビームラインに挿入し、波長10 nm以下の短波長領域の光量を1/100以下に低減できた。放射光ビームラインにおいて、他利用者と排他的に利用することは重要であり、高次光除去機構を再現性よく出し入れする必要がある。そこで、キネマティックマウントを利用した位置再現性の高い挿入機構を開発した。
ビームラインの偏光状態は測定誤差のもう一つの大きな要因である。特にEUV領域では、光軸からずれてしまうと数10%オーダーの大きな垂直偏光成分が混ざってしまい、測定誤差となる。そこで、ビームラインの横集光ミラーであるM0ミラーにあおり角度調整機構を追加し、あおり角度により偏光度を制御した。その結果、粗い調整において直線偏光度を0.4から0.97まで制御できた。今後は、直線偏光度1.0が得られるように調整を進める。
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| Current Status of Research Progress |
Current Status of Research Progress
2: Research has progressed on the whole more than it was originally planned.
Reason
光学定数測定のためのビームライン環境整備
研究実績の概要で述べたように、高次光除去と偏光度の制御を整備した。光学定数を高精度にするための研究基盤が整った。
評価対象
28年度評価対象とするMo,Si,Nb,C等の6インチターゲットの購入を終え、Nbなどのスパッタの経験のない材料の条件出しを開始している。
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| Strategy for Future Research Activity |
従来の手法は表面反射と基板面反射の干渉を利用した方法（反射法）と、透過法により測定した吸収係数からKK変換により屈折率を導出する方法が広く用いられてきた。反射法は、表面状態に非常に敏感であるため、バルクの状態の導出が難しい。一方、吸収係数から導出する方法は間接的であり、精度が低かった。バルクの光学定数を導出するには透過で干渉を利用する方法が最も適している。
そこで、今後はメンブレン基板上に1 um程度のホールパタンを描画し、透過光の干渉状態を測定し、屈折率を導出する手法を採用する。吸収係数はパタンのない領域の透過率から導出する。
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