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2015 Fiscal Year Annual Research Report

異種酸化物界面の分極を予測するマテリアル・インフォマティクスの開拓

Research Project

Project/Area Number 15H03979
Research InstitutionWaseda University

Principal Investigator

渡邉 孝信  早稲田大学, 理工学術院, 教授 (00367153)

Project Period (FY) 2015-04-01 – 2018-03-31
Keywords電子・電気材料 / 計算物理 / 表面・界面物性 / ナノ材料
Outline of Annual Research Achievements

高誘電率絶縁膜を含むMOSゲートスタックにおいて注目されている異種酸化物界面の分極層について、その発現メカニズムを分子動力学シミュレーションで調査した。Al2O3/SiO2界面、MgO/SiO2界面、ならびにSrO/SiO2界面の分子動力学シミュレーションを完全イオンモデルポテンシャルを用いて実施し、3つ全てのケースで界面分極の実験結果を再現することに成功した。MgO/SiO2界面は従来の酸素密度差緩和モデルで説明できない例外的なケースであるが、単純な2体イオン相互作用ポテンシャルで他の系と同様に再現できたことは期待以上の成果といえる。MgO/SiO2界面とSrO/SiO2界面の界面分極は同じ方向でフラットバンド電圧を負方向にシフトさせる方向となるが、分極の程度は後者の方が大きい。詳しい解析の結果、MgO/SiO2界面およびSrO/SiO2界面ではシリケート層が生じ、シリケート層の厚さと界面分極の強さに相関がみられた。シリケート層の生成によるエネルギー利得はAlSiO、MgSiO、SrSiOの順で大きくなり、界面におけるシリケート層の形成のしやすさが、負方向のフラットバンド電圧シフトの要因と考えられる。シリケート層の形成に際して高誘電率酸化物側のカチオンが優先的に移動し、これが界面分極の原因となっていると結論づけた。
また、理論体系化が困難と予想される多元酸化物同士の界面分極の発見的予測に挑戦するため、階層構造ニューラルネットによる機械学習法を導入した。まずは当グループで実施してきたナノデバイスのキャリア輸送シミュレーションの計算結果の学習を試した。デバイス内の不純物原子位置分布と電流の関係を学習させたところ、階層構造ニューラルネットモデルでシミュレーション結果をある程度予測できることが判明した。

Current Status of Research Progress
Current Status of Research Progress

2: Research has progressed on the whole more than it was originally planned.

Reason

当初は変動電荷分子動力学法の導入を予定していたが、単純な固定電荷分子動力学法でAl2O3/SiO2界面、MgO/SiO2界面、SrO/SiO2界面の界面分極が再現できることが判明したため、こちらの解析を優先した。フラットバンド電圧を負方向にシフトさせる分極が界面におけるシリケート層の出来やすさと相関があることを初年度中に突き止められたことは、期待を上回る成果と言える。ただし、フラットバンド電圧を正方向にシフトさせる分極を引き起こす原因はまだ特定できておらず、次年度の課題として残った。
機械学習による多元酸化物同士の界面分極の発見的予測については、学習に用いる分子動力学シミュレーションのデータが揃っていなかったため、別のシミュレーションの結果を用いたテストにとどまったが、こちらの進捗度は当初の予定通りである。

Strategy for Future Research Activity

単純な固定電荷分子動力学法で様々な系の界面分極を再現できることが判明したことから、なぜ再現できたのか、その理由の解明に焦点を当てる。特にAl2O3/SiO2界面における酸素イオンの移動の駆動力の特定に注力する。
また、多元酸化物同士の界面分極のシミュレーションデータが蓄積されつつあるので、今後はこれらを用いた機械学習に挑戦する。

  • Research Products

    (14 results)

All 2016 2015 Other

All Journal Article (2 results) (of which Peer Reviewed: 2 results,  Acknowledgement Compliant: 1 results) Presentation (11 results) (of which Int'l Joint Research: 5 results) Remarks (1 results)

  • [Journal Article] Positive and Negative Dipole Layer Formation at High-k/SiO2 Interfaces Simulated by Classical Molecular Dynamics2016

    • Author(s)
      Kosuke Shimura, Ryota Kunugi, Atsushi Ogura, Shinichi Satoh, Jiayang Fei, Koji Kita, Takanobu Watanabe
    • Journal Title

      Japanese Journal of Applied Physics

      Volume: 55 Pages: 04EB03 1-5

    • DOI

      10.7567/JJAP.55.04EB03

    • Peer Reviewed / Acknowledgement Compliant
  • [Journal Article] Understanding the impact of interface reaction on dipole strength at MgO/SiO2 and Y2O3/SiO2 interfaces2016

    • Author(s)
      Jiayang Fei and Koji Kita
    • Journal Title

      Japanese Journal of Applied Physics

      Volume: 55 Pages: 04EB11 1-6

    • DOI

      http://dx.doi.org/10.7567/JJAP.55.04EB11

    • Peer Reviewed
  • [Presentation] Anomalous Flatband Voltage Shift of AlFxOy/Al2O3 MOS Capacitors: Dipole Layer Formation at Dielectric Interfaces with Different Anions2016

    • Author(s)
      Jiayang Fei and Koji Kita
    • Organizer
      第63回応用物理学会春季学術講演会
    • Place of Presentation
      東工大大岡山キャンパス
    • Year and Date
      2016-03-20
  • [Presentation] ニューラルネットワークを用いたナノデバイス特性の機械学習2016

    • Author(s)
      古林 せなみ, 中根 滉稀, 小川 雄己, 富田 基裕, 渡邉 孝信
    • Organizer
      第63回応用物理学会春季学術講演会
    • Place of Presentation
      東工大大岡山キャンパス
    • Year and Date
      2016-03-19
  • [Presentation] 分子動力学法によるhigh-k/SiO2界面ダイポールのアニール温度依存性の検討2016

    • Author(s)
      功刀 遼太, 志村 昴亮, 中川 宣拓, 渡邉 孝信
    • Organizer
      電子デバイス界面テクノロジー研究会
    • Place of Presentation
      東レ研修センター
    • Year and Date
      2016-01-22
  • [Presentation] SiC の酸化シミュレーションのための超離散ダイ ナミックボンドオーダー・ポテンシャルの開発2015

    • Author(s)
      橋本 修一郎, 渡邉 孝信
    • Organizer
      第 29 回分子シミュレーション討論会
    • Place of Presentation
      新潟朱鷺メッセ
    • Year and Date
      2015-12-01
  • [Presentation] A New Reactive Force Field for Study on the Formation of SiC/SiO2 Interface2015

    • Author(s)
      Shuichiro Hashimoto, and Takanobu Watanabe
    • Organizer
      2015 International Workshop on Dielectric Thin Films For Future Electron Devices: Science and Technology (IWDTF 2015)
    • Place of Presentation
      日本科学未来館
    • Year and Date
      2015-11-04
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Molecular Dynamics Study on Dipole Layer Formation at MgxAlyOx+1.5y/SiO2 Interfaces2015

    • Author(s)
      Ryota Kunugi, Kosuke Shimura, Takanobu Watanabe
    • Organizer
      2015 International Workshop on Dielectric Thin Films For Future Electron Devices: Science and Technology (IWDTF 2015)
    • Place of Presentation
      日本科学未来館
    • Year and Date
      2015-11-02
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Consideration on the Origin of Dipole Layer Formation at Chemically Reactive and Non-Reactive Oxide/SiO2 Interfaces2015

    • Author(s)
      Jiayang Fei and Koji Kita
    • Organizer
      2015 International Workshop on Dielectric Thin Films For Future Electron Devices: Science and Technology (IWDTF 2015)
    • Place of Presentation
      日本科学未来館
    • Year and Date
      2015-11-02
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Positive and Negative Dipole Layer Formation at High-k/SiO2 Interfaces Simulated by Classical Molecular Dynamics2015

    • Author(s)
      Kosuke Shimura, Ryota Kunugi, Atsushi Ogura, Shinichi Satoh, Jiayang Fei, Koji Kita, and Takanobu Watanabe
    • Organizer
      2015 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM 2015)
    • Place of Presentation
      Sapporo Convention Center, Sapporo
    • Year and Date
      2015-09-29
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Understanding on the Impact of Interface Reactions on Dipole Strengths at MgO/SiO2 and Y2O3/SiO2 Interfaces2015

    • Author(s)
      Jiayang Fei and Koji Kita
    • Organizer
      2015 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM 2015)
    • Place of Presentation
      Sapporo Convention Center, Sapporo
    • Year and Date
      2015-09-29
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] SiC/SiO2界面モデリングのためのダイナミックボンドオーダー・ポテンシャルの開発2015

    • Author(s)
      橋本修一郎, 渡邉孝信
    • Organizer
      第76回応用物理学会秋季学術講演会
    • Place of Presentation
      名古屋国際会議場
    • Year and Date
      2015-09-16
  • [Presentation] 有効電荷ポテンシャルを用いた分子動力学シミュレーションによるhigh-k/SiO2界面ダイポールの定量的再現2015

    • Author(s)
      功刀 遼太, 志村 昴亮, 渡邉 孝信
    • Organizer
      第76回応用物理学会秋季学術講演会
    • Place of Presentation
      名古屋国際会議場
    • Year and Date
      2015-09-13
  • [Remarks] High-k絶縁膜シミュレーション

    • URL

      http://www.watanabe.nano.waseda.ac.jp/dipole.html

URL: 

Published: 2017-01-06  

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