2016 Fiscal Year Annual Research Report
スプリットリング共振器配列体の集積化による可視光応答メタマテリアル光学素子の創製
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15J05451
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| Research Institution | Tohoku University |
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Principal Investigator |
上原 卓也 東北大学, 工学研究科, 特別研究員(DC2)
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| Project Period (FY) |
2015-04-24 – 2017-03-31
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| Keywords | ナノインプリントリソグラフィ / メタマテリアル / スクリーン印刷 / 異方性エッチング / リフトオフ法 |
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| Outline of Annual Research Achievements |
本研究では、可視光領域にて特異的な光学特性を有するメタマテリアル光学素子の創製に向けて、５０ナノメートルサイズの微細金属構造体の作製とその集積化について検討を行った。本年度は、下記の２点における成果が得られた。
１．Print&Imprint法を用いたナノインプリント残膜の均一化
光ナノインプリントリソグラフィを用いて微細な金属構造体を作製するためには、ナノインプリント残膜の均一化が求められる。当該年度は、高粘性光硬化性液体を吐出手法としてスクリーン印刷法に着目し、１００ナノメートルサイズ以下のインプリントパターンの残膜厚均一化を試みた。スクリーン印刷とナノインプリント法を併用した「Print&Imprint法」を用いることで、サイズの異なる構造を有したモールドを用いて、光ナノインプリントプロセスを行った場合においてもインプリントパターンの残膜厚均一化に成功した。本研究では、４５－１００ ナノメートルサイズの構造体において残膜厚均一化を実現した。また、独自に開発した異方性ドライエッチング装置を用いてインプリント残膜の均一除去にも成功した。
２．リフトオフ法を用いた多層金属構造体の作製
メタマテリアルを光学素子として展開するためには微細な金属構造体を集積し、３次元構造体を作製する必要がある。当該年度においては、光ナノインプリント法に新たにリフトオフ法を用いた新たな積層手法を提案した。その結果、５０ナノメートルサイズ金属構造体の単層及び多層構造作製に成功し、光ナノインプリント法を用いた微細構造集積手法を確立した。
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| Research Progress Status |
28年度が最終年度であるため、記入しない。
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| Strategy for Future Research Activity |
28年度が最終年度であるため、記入しない。
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[Presentation] Viscosity range of UV-curable resins usable in screen printing with polyimide through-hole membrane masks for sub-100 nm-wide imprint patterns2016
Author(s)
Takuya Uehara, Akiko Onuma, Akira Tanabe, Kazuro Nagase, Hiroaki Ikedo, Nobuya Hiroshiba, Takahiro Nakamura, and Masaru Nakagawa
Organizer
The 60th International Conference on Electron, Ion, and Photon Beam Technology and Nanofabrication
Place of Presentation
Pittsburgh, USA
Year and Date
2016-05-31 – 2016-06-03
Int'l Joint Research / Invited
