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2015 Fiscal Year Research-status Report

遷移金属の新しい低温化学反応エッチングメカニズムの提案

Research Project

Project/Area Number 15K04712
Research InstitutionTohoku University

Principal Investigator

久保田 智広  東北大学, 流体科学研究所, 准教授 (70322683)

Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) 寒川 誠二  東北大学, 流体科学研究所, 教授 (30323108)
Project Period (FY) 2015-04-01 – 2017-03-31
Keywordsプラズマ・ビーム誘起錯体反応 / 中性粒子ビーム / 遷移金属エッチング / 第一原理計算 / 密度汎関数法 / 酸性度 / 活性化エネルギー / 結合次数解析
Outline of Annual Research Achievements

エタノールガスおよび酸素・アルゴン中性粒子ビームによって起こるタンタルエッチングについて、そのメカニズムの解明を理論計算を中心に検討を行った。東北大学流体科学研究所のスーパーコンピュータおよび理論計算ソフトウェアGaussian09を用いて、密度汎関数法による計算を行った。その結果、吸着したエタノール中の水素がタンタル酸化物へと移動する「水素移動反応」がアルゴン中性粒子ビーム照射によって起こることが分かった。さらに、反応が起こるビームのエネルギー範囲や入射角度分布についても初期的なデータを得ることができた。また、エタノール以外の吸着分子を用いた場合の水素移動反応の起こりやすさを計算によって系統的に調べた。その結果、吸着分子がOH基を持つ場合、物質の酸性度と水素移動反応の活性化エネルギーにはきれいな相関があり、酸性度が高い方が活性化エネルギーが低くなることを見いだした。これは、「水素移動反応」は吸着分子が水素を酸化物に提供する反応であることを考えると妥当な結果であると考えられる。なお、SH基を持つ場合は酸性度の高さにもかかわらず活性化エネルギーが低く、吸着の際のTa-S結合長が長く水素が長距離を移動しなければならいためだと考えられる。
一方、「水素移動反応」に次いで起こる反応プロセスを理論計算により検討するために、密度汎関数法よりも高速な、Tight-Binding量子分子動力学法を用いた検討を始めた。今年度は計算パラメータの最適化を行い、タンタル酸化物のモデルが安定に存在できる条件を確立するとともに、エタノールが吸着することおよび「水素移動反応」後に酸化膜中のTa-O結合が弱まることを示唆する予備的な計算結果が得られた。
鉄・コバルト・銅など応用上重要な遷移金属についても同様な計算を開始している。

Current Status of Research Progress
Current Status of Research Progress

2: Research has progressed on the whole more than it was originally planned.

Reason

理論計算により、タンタルエッチングのメカニズム、特に「水素移動反応」の性質についての理解が予想外に進展した。とくに、理論計算に基づいてエッチング条件の改善を提案できる可能性を示せたことは特筆すべき成果と考える。
今後、計算によって得られた結果を実験によって確かめることが必要である。

Strategy for Future Research Activity

理論計算においては、「水素移動反応」が起こりやすい条件について引き続き検討するとともに、実験的に測定可能なパラメータを予測することに挑戦する。また、「水素移動反応」後に起こる反応を検討することでエッチング反応全体の解明を目指す。また、タンタル以外の遷移金属の計算を確立する。
エッチング実験では、理論計算に基づいて予測された、エタノールよりも「水素移動反応」の活性化エネルギーが低くエッチングが起こりやすいと考えられる条件を、実験的に実証する。
さらに、表面分析やビーム測定をおこない、これらのデータからエッチングのメカニズムを解明する。

Causes of Carryover

理論計算によるメカニズム解明を優先して研究を進めたため、実験関連の予算執行が見込みよりも少なかった。

Expenditure Plan for Carryover Budget

理論計算により予測された吸着分子によるエッチングの起こりやすさを実証するための実験を行うための実験を追加で行うための、実験サンプル準備やエッチング装置運転のために使用する。

  • Research Products

    (6 results)

All 2016 2015

All Presentation (6 results) (of which Int'l Joint Research: 3 results,  Invited: 1 results)

  • [Presentation] 中性粒子ビーム励起錯体反応を用いた遷移金属エッチングにおける吸着分子の影響2016

    • Author(s)
      久保田智広、菊地良幸、伊藤寿、久保百司、寒川誠二
    • Organizer
      第63回 応用物理学会春季学術講演会
    • Place of Presentation
      東京工業大学大岡山キャンパス(東京都目黒区)
    • Year and Date
      2016-03-21 – 2016-03-21
  • [Presentation] 中性粒子ビーム励起錯体反応による遷移金属エッチングメカニズムのTight-binding量子分子動力学法を用いた検討2016

    • Author(s)
      久保田智広, 伊藤寿, 久保百司, 寒川誠二
    • Organizer
      第63回 応用物理学会春季学術講演会
    • Place of Presentation
      東京工業大学大岡山キャンパス(東京都目黒区)
    • Year and Date
      2016-03-19 – 2016-03-19
  • [Presentation] First-Principles Theoretical Investigation on Mechanism of New Transition Metal Etching Process using Oxygen and argon Neutral Beams and Ethanol Gas2015

    • Author(s)
      Tomohiro Kubota, Yoshiyuki Kikuchi, and Seiji Samukawa
    • Organizer
      American Vacuum Society 62nd International Symposium & Exhibition
    • Place of Presentation
      San Jose (USA)
    • Year and Date
      2015-10-20 – 2015-10-20
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Transition Metal Complex Reaction Etching for MRAM Applications using Neutral Beam and Its Mechanism Investigated by First-Principles Calculation2015

    • Author(s)
      Tomohiro Kubota, Yoshiyuki Kikuchi, Toshihisa Nozawa, and Seiji Samukawa
    • Organizer
      2015 International Conference on Solid State Devices and Materials
    • Place of Presentation
      札幌コンベンションセンター(北海道札幌市)
    • Year and Date
      2015-09-29 – 2015-09-29
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] 酸素中性粒子ビームによる酸化及び錯体反応を用いた遷移金属エッチングメカニズム(3)2015

    • Author(s)
      久保田智広, 菊地良幸, 野沢俊久, 伊藤寿, 久保百司, 寒川誠二
    • Organizer
      第72回 応用物理学会秋季学術講演会
    • Place of Presentation
      名古屋国際会議場(愛知県名古屋市)
    • Year and Date
      2015-09-15 – 2015-09-15
  • [Presentation] A new metallic complex reaction etching for MRAM materials by a low-temperature neutral beam process2015

    • Author(s)
      Tomohiro Kubota and Seiji Samukawa
    • Organizer
      Plasma Etch and Strip in Microtechnology 2015
    • Place of Presentation
      Leuven (Belgium)
    • Year and Date
      2015-04-27 – 2015-04-27
    • Int'l Joint Research / Invited

URL: 

Published: 2017-01-06  

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