2018 Fiscal Year Annual Research Report
Development of alternate pumping microreactors for mass processing
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15K05810
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| Research Institution | Tokyo City University |
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Principal Investigator |
冨士原 民雄 東京都市大学, 工学部, 准教授 (60366846)
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| Project Period (FY) |
2015-04-01 – 2019-03-31
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| Keywords | マイクロ流体 / フォトリソグラフィ / マイクロ加工 / マイクロ流路 |
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| Outline of Annual Research Achievements |
本研究テーマでは，交互送液法を利用した大量処理適応型マイクロリアクタを開発することを目的とし，そのための前段階として，マイクロチャネルの作製法の開発を行った．当技術は，フォトリソグラフィを応用し，厚さ数百ミクロンの厚膜フォトレジスト層を基板上に形成することで，その厚さ相当の深さを持つマイクロチャネルを，高精度かつ自由度の高い形状で製作するものである．フォトレジストには，一般に厚膜用として知られるSU-8を用いる．SU-8の通常の適用範囲は100ミクロン以下であるが，本テーマではこれを用いて400ミクロンの厚膜を形成する手法を確立した．400ミクロン相当の量のSU-8を基板に塗布しても，厚さが一様にはならないことから，当手法では塗布したレジストを機械的に矯正することで，所定の厚さに均一化するものである．
当手法は，以前に一旦確立されたと考えていたが，その後，SU-8のロットによる差や開封後の経年変化等の影響により，矯正が成功しない場合があることが判明した．
最終年度は，SU-8の状態に依存せず，高い再現性で所定の厚膜を形成できるようになるために，繰り返し試作を行い，諸条件の見直しを行った．その結果，矯正成功率を十分に高めることができた．また，矯正された膜厚の偏差は，400ミクロンに対して1%以内に収まるようになった．これにより，十分な実用的な厚膜矯正法を確立した．以上の成果をまとめた以下の論文が査読を経て受理されており，今後発表される予定となっている．
"Formation Method for SU-8 Film With Uniform Thickness of 400 Micrometers", ASME - JSME - KSME Joint Fluids Engineering Conference 2019, Paper No. AJKFLUIDS2019-5014
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