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2015 Fiscal Year Research-status Report

原子レベル平坦ナノ積層膜による強誘電トンネル効果の解明と新規メモリ素子の実現

Research Project

Project/Area Number 15K05999
Research InstitutionFukuoka University

Principal Investigator

西田 貴司  福岡大学, 工学部, 教授 (80314540)

Project Period (FY) 2015-04-01 – 2018-03-31
Keywords強誘電トンネル効果 / スパッタ法 / ナノ結晶 / 次世代メモリ / 強誘電体メモリ
Outline of Annual Research Achievements

誘電材料をナノレベルで超薄膜にするとトンネル効果が起こるが、ここで誘電体として酸化物誘電体のようなイオン結晶を導入すると結晶場の効果がトンネル電流に影響を与える。もし、イオン結晶が強誘電体や圧電体、高誘電体であれば電流が電気分極に依存する特異な効果が見いだされている。この現象はナノサイズの超微細かつ高耐久の次世代メモリ素子への応用が期待されている。しかし、この新規のトンネル効果(強誘電トンネル効果)は電極材料つまり界面の影響を受けるなど、その物理機構は未解明の部分が多く、現象解明に興味が集まるともに、さらにそれを活用してデバイス応用の推進も渇望されている。本研究では、新開発した高精度なスパッタ成膜手法を活用したナノ結晶多層構造の育成技術を開発するとともに、理想的な品質かつよく制御された材料界面でのトンネル接合での分析による現象に関する知見の蓄積を行い、最終的には現象の解明とデバイス応用指針の獲得を目指す。
初年度の平成27年度はトンネル素子の下部電極材料としてZnOナノ結晶の高品質化を行った。ZnOは半導体膜として強誘電トランジスタ型メモリへの応用に期待されており、酸化物強誘電体とは良い界面を形成するとされている。ZnOのナノ結晶育成の最適化により高品質な結晶を得ることに成功したので、さらにZnO/強誘電膜の積層を試み、育成条件の最適化を進めつつある。

Current Status of Research Progress
Current Status of Research Progress

2: Research has progressed on the whole more than it was originally planned.

Reason

過去の研究成果の蓄積と研究装置類の整備により、品質良くナノ結晶の育成が行えている。
しかし、昨年、一昨年に複数の大型装置の故障が相次ぎ、組成分析など一部実験に遅れがあり、実験手法を工夫して代替している。

Strategy for Future Research Activity

ZnO/強誘電膜、さらにはZnO/強誘電膜/ZnOといった積層膜での最適成長を進める。
実際には、高温のエピタキシャル成長によるため、界面での相互拡散や結晶欠陥分析などが重要になり、それらも並行して行う必要がある。

Causes of Carryover

本研究での用いる材料系は多組成系であるため、組成分析が非常に重要な指標となるが組成分析装置の故障と調整により、
これを用いた一連の実験の実施が難しい状況であった。そのため実験に必要となる材料、機材の購入が行えず、次年度使用額が生じた。

Expenditure Plan for Carryover Budget

今年度は、組成分析装置の最終調整が5月中旬に行われる予定であり、それが済み次第、組成分析関連の実験スキームを開始、実験素材などの購入に利用する。

  • Research Products

    (8 results)

All 2016 2015 Other

All Presentation (4 results) (of which Int'l Joint Research: 1 results) Book (2 results) Remarks (2 results)

  • [Presentation] Defects characterization of piezoelectric films2016

    • Author(s)
      Takashi Nishida
    • Organizer
      International Symposium of Ferroelectric Materials Toward Energy Harvesting
    • Place of Presentation
      Ryukoku University Avanti Kyoto Hall, Kyoto
    • Year and Date
      2016-02-24 – 2016-02-24
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Deposition of ZnO nanocrystals on atomically flat sapphire surface by sputtering2015

    • Author(s)
      Takashi Nishida, Hiroki Fure, Hironori Yoshida, Ryotaro Tsujino, Yuta Tominaga, Ryo Kobe
    • Organizer
      第25回日本MRS年次大会
    • Place of Presentation
      横浜開港記念会館
    • Year and Date
      2015-12-08 – 2015-12-08
  • [Presentation] スパッタリング法を用いたα-Al_2O_3基板上へのZnOナノ結晶育成および結晶性・表面構造の解析2015

    • Author(s)
      触 浩貴, 吉田 裕則, 辻野 椋太郎, 冨永 雄太, 小部 椋, 西田 貴司
    • Organizer
      平成27年度(第68回)電気・情報関係学会九州支部連合大会
    • Place of Presentation
      福岡大学, 福岡県
    • Year and Date
      2015-09-27 – 2015-09-27
  • [Presentation] (Ba,Sr)TiO_3非線形誘電体薄膜の作製とマイクロ波チューナブルフィルタ特性の評価2015

    • Author(s)
      西田 貴司, 触 浩貴, 吉田 裕則, 辻野 椋太郎
    • Organizer
      平成27年度(第68回)電気・情報関係学会九州支部連合大会
    • Place of Presentation
      福岡大学, 福岡県
    • Year and Date
      2015-09-27 – 2015-09-27
  • [Book] 熱刺激電流を用いた材料・デバイス開発の最前線2016

    • Author(s)
      岩本光正, 工藤一浩, 中村雅一, 松島敏則, 秦川江, 安達千波矢, 大橋昇, 吉田郵司, 山田俊樹, 大友明, 田口大, 佐藤一石, 串田一雅, 栗山一男, 西田貴司, 田中優実, 佐々木匠, 平山泰生, 吉田福蔵, 与名本欣樹, 秋永広幸, 角谷透, 野田周一, 島久
    • Total Pages
      246
    • Publisher
      シーエムシー出版
  • [Book] 「普及版 圧電材料の基礎と最新応用」 第3章 薄膜材料2015

    • Author(s)
      塩嵜忠、武田博明、木村雅彦、西田 貴司、竹内真一、田實佳郎、柿本健一、小林健、神野伊策、玉井誠一、鎌田弘志、宮入啓、小田切努、江鐘偉、栗原和明、近藤正男、北原強、山下洋八、細野靖晴、逸見和弘、中川亮、松尾泰秀、前野隆司、竹中正
    • Total Pages
      246
    • Publisher
      シーエムシー出版
  • [Remarks] 西田貴司教授

    • URL

      http://e-m.skr.jp/

  • [Remarks] 福岡大学研究者情報 ( 工学部 電気工学科 教授 西田 貴司 )

    • URL

      http://resweb2.jhk.adm.fukuoka-u.ac.jp/FukuokaUnivHtml/info/5888/R107J.html

URL: 

Published: 2017-01-06  

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