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2016 Fiscal Year Research-status Report

自立GaN基板・MMC構造を利用したGaN HEMTの信頼性向上へのアプローチ

Research Project

Project/Area Number 15K06013
Research InstitutionUniversity of Fukui

Principal Investigator

ASUBAR JOEL  福井大学, テニュアトラック推進本部, 講師 (10574220)

Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) 葛原 正明  福井大学, 学術研究院工学系部門, 教授 (20377469)
Project Period (FY) 2015-04-01 – 2018-03-31
KeywordsAlGaN-GaN / 窒化物半導体 / 電流コラプス / MIS
Outline of Annual Research Achievements

窒化物半導体ヘテロ界面を利用したAlGaN/GaN高電子移動トランジスタ(HEMT)の電流減少(コラプス)を系統的に評価し、新しく提案する多重台形チャネル(MMC)構造の適用と評価を通して、安定性・信頼性に優れた窒化物半導体トランジスタ構造技術の構築を目的として研究を展開した。本年度の主な成果を以下にまとめる.
(1) リセス+絶縁ゲート構造を有するAlGaN/GaN HEMTにおいて絶縁膜堆積後に電気的+熱的処理を行なったところ、しきい値電圧が正方向にシフトすることが明らかになった。このプロセスにより絶縁膜界面特性が向上し、絶縁ゲート構造を有するMMCデバイスのノーマリーオフ化に有望であることがわかった。
(2) 絶縁ゲート構造を有するMMCデバイスのメサチャネル作製に必要なドライエッチングプロセス条件の絶縁膜/AlGaN界面特性に与える影響について初期的な評価を行なった。パワーを最適化することにより、比較的良好な絶縁膜/AlGaN界面特性が得られることが明らかになった。
(3) AlGaN/GaN HEMTにおける破壊電界の基板(Sapphire、SiC、GaN)依存性について評価を行なった。今年度の研究結果としてはSiC基板上のAlGaN/GaN HEMTが最も絶縁破壊電界が高く、基板の熱伝導率が絶縁破壊電界に関係していることが明らかになった。
(4) MMCデバイスとプレーナーデバイスの伝達特性を評価・比較することにより、MMCデバイスが高い線形性を有することを実証した。

Current Status of Research Progress
Current Status of Research Progress

2: Research has progressed on the whole more than it was originally planned.

Reason

MMCデバイスの高い線形性を実証した。また、より良好なメサチャネル作製に必要なエッチング条件を明らかにし、電気的+熱的処理による、しきい値電圧の正方向シフトを実現することに成功した。研究成果の公表として、査読付き学術誌6編(うち招待論文2)、国内外の学会8(うち招待講演2件)の研究成果の公表があり、順調に研究が進展していると判断した。

Strategy for Future Research Activity

平成29年度は研究期間の最終年度となるため、デバイスの最適化と性能評価を進める。具体的には前年度までに得られたプロセス条件を基盤とし、しきい値電圧と電流コラプスの制御に結び付ける。またパルス測定によるデバイス中のトラップレベルの評価、デバイスシミュレータによるポテンシャル分布の解析を行ない、デバイスの安定性、制御性の向上に取り組む。

Causes of Carryover

AlGaN/GaN基板代として計上していた予算について、効率的に研究が進んだため購入しなかった.研究の進展にあわせて効果的に使用することが望ましいと判断し、次年度使用額が生じた.

Expenditure Plan for Carryover Budget

研究の進展あわせて必要となったデバイスシミュレーターとハロゲン光源装置の購入に充てる計画である。

  • Research Products

    (14 results)

All 2016

All Journal Article (6 results) (of which Int'l Joint Research: 6 results,  Peer Reviewed: 5 results,  Acknowledgement Compliant: 2 results,  Open Access: 2 results) Presentation (8 results) (of which Int'l Joint Research: 6 results,  Invited: 2 results)

  • [Journal Article] AlGaN/GaN MIS-HEMTs with high on/off current ratio of over 5 × 1010 achieved by ozone pretreatment and using ozone oxidant for Al2O3 gate insulator2016

    • Author(s)
      H. Tokuda, J. T. Asubar, and M. Kuzuhara
    • Journal Title

      Japanese Journal of Applied Physics

      Volume: 55 Pages: 120305-1-4

    • DOI

      https://doi.org/10.7567/JJAP.55.120305

    • Peer Reviewed / Int'l Joint Research / Acknowledgement Compliant
  • [Journal Article] 38.Highly-stable and low-state-density Al2O3-GaN interfaces using epitaxial n-GaN layers grown on free-standing GaN substrates2016

    • Author(s)
      S. Kaneki, J. Ohira, S. Toiya, Z. Yatabe, J. T. Asubar, and T. Hashizume
    • Journal Title

      Applied Physics Letters

      Volume: 109 Pages: 162104-1-5

    • DOI

      http://dx.doi.org/10.1063/1.4965296

    • Peer Reviewed / Int'l Joint Research
  • [Journal Article] Z. Yatabe, J. T. Asubar, and T. Hashizume2016

    • Author(s)
      Insulated gate and surface passivation structures for GaN-based power transistors
    • Journal Title

      Journal of Physics D: Applied Physics

      Volume: 49 Pages: 1-19

    • DOI

      https://doi.org/10.1088/0022-3727/49/39/393001

    • Peer Reviewed / Open Access / Int'l Joint Research
  • [Journal Article] Pushing the GaN HEMT towards its theoretical limit2016

    • Author(s)
      J. T. Asubar, J. Ng, H. Tokuda, M, Kuzuhara
    • Journal Title

      Compound Semiconductor Magazine

      Volume: 22 Pages: 26-31

    • Open Access / Int'l Joint Research
  • [Journal Article] 35.AlGaN/GaN HEMT Technology for High-Voltage and Low On-Resistance Operation2016

    • Author(s)
      M. Kuzuhara, J. T. Asubar, H. Tokuda
    • Journal Title

      Japanese Journal of Applied Physics

      Volume: 55 Pages: 070101-1-12

    • DOI

      https://doi.org/10.7567/JJAP.55.070101

    • Peer Reviewed / Int'l Joint Research
  • [Journal Article] Highly Reduced Current Collapse in AlGaN/GaN HEMTs by Combined Application of Oxygen Plasma Treatment and Field-plate Structures2016

    • Author(s)
      J. T. Asubar, S. Yoshida, H. Tokuda, and M. Kuzuhara
    • Journal Title

      Japanese Journal of Applied Physics

      Volume: 55 Pages: 04EG07-1-5

    • DOI

      https://doi.org/10.7567/JJAP.55.04EG07

    • Peer Reviewed / Int'l Joint Research / Acknowledgement Compliant
  • [Presentation] Effects of Electronic States at Insulator/AlGaN Interfaces on Threshold Voltage Instability of Al2O3/AlGaN/GaN Structures2016

    • Author(s)
      Z. Yatabe, J. T. Asubar, Y. Nakamura, and T. Hashizume
    • Organizer
      2016 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM 2016)
    • Place of Presentation
      Tsukuba, Japan
    • Year and Date
      2016-09-26 – 2016-09-29
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] 24.Characterization of Insulators/(Al)GaN Interfaces for Improved Insulated Gate and Surface Passivation Structures of GaN-based Transistors2016

    • Author(s)
      Z. Yatabe, Y. Hori, W.C. Ma, J. T. Asubar, M. Akazawa, T. Sato, and T. Hashizume
    • Organizer
      第77回応用物理学会秋季学術講演会
    • Place of Presentation
      Toki Messe, Niigata, Japan
    • Year and Date
      2016-09-13 – 2016-09-16
    • Invited
  • [Presentation] Improved linearity, stability, and thermal performance of multi-mesa-channel AlGaN/GaN HEMTs2016

    • Author(s)
      J. T. Asubar, H. Tokuda, M, Kuzuhara, Z. Yatabe, K. Nishiguchi, and T. Hashizume
    • Organizer
      34th Samahang Pisika ng Pilipinas Physics Conference
    • Place of Presentation
      University of the Philippines Visayas, Iloilo, Philippines
    • Year and Date
      2016-08-18 – 2016-08-21
    • Invited
  • [Presentation] High on/off ratio AlGaN/GaN MIS-HEMTs with ALD deposited Al2O3 gate dielectric using ozone as an oxidant2016

    • Author(s)
      H. Tokuda, J. T. Asubar, M. Kuzuhara
    • Organizer
      2016 Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Applications of Advanced Semiconductor Devices
    • Place of Presentation
      Hakodate, Japan
    • Year and Date
      2016-07-04 – 2016-07-06
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Impact of Drain Electrode Shape Irregularities on Breakdown Voltage of AlGaN/GaN HEMTs2016

    • Author(s)
      S. Ohi, S. Makino, T. Yamazaki, H. Tokuda, J. T. Asubar, and M. Kuzuhara
    • Organizer
      2016 Compound Semiconductor Week
    • Place of Presentation
      Toyama International Conference Center, Toyama, Japan
    • Year and Date
      2016-06-26 – 2016-06-30
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Breakdown Voltages of AlGaN/GaN HEMTs Breakdown degradation of AlGaN/GaN HEMTs with multi-finger gate patterns2016

    • Author(s)
      S. Makino, S. Ohi, J. T. Asubar, H. Tokuda, and M. Kuzuhara
    • Organizer
      2016 International Meeting for Future of Electron Devices Kansai (IMFEDK 2016)
    • Place of Presentation
      Ryukoku University Avanti Kyoto Hall, Kyoto, Japan
    • Year and Date
      2016-06-23 – 2016-06-24
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] AlGaN/GaN HEMTs on Free-standing GaN Substrates with Breakdown Voltage of 5 kV and Effective Lateral Critical Field of 1 MV/cm2016

    • Author(s)
      J. H. Ng, J. T. Asubar, H. Tokuda, and M. Kuzuhara
    • Organizer
      2016 International Conference on Compound Semiconductor Manufacturing Technology (CS Mantech 2016)
    • Place of Presentation
      Miami, Florida, USA
    • Year and Date
      2016-06-16 – 2016-06-19
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Effect of Metal Electrode Shape Irregularities on AlGaN/GaN HEMTs Breakdown Voltage Revealed by Electroluminescence2016

    • Author(s)
      S. Makino, T. Yamazaki, S. Ohi, H. Tokuda, J. T. Asubar, and M. Kuzuhara
    • Organizer
      40th Workshop on Compound Semiconductor Devices and Integrated Circuits (WOCSDICE) 2016
    • Place of Presentation
      Aveiro, Portugal
    • Year and Date
      2016-06-06 – 2016-06-10
    • Int'l Joint Research

URL: 

Published: 2018-01-16  

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