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2017 Fiscal Year Research-status Report

銅ダマシン配線細孔埋込み時の一価銅イオンの役割

Research Project

Project/Area Number 15K06511
Research InstitutionOsaka Prefecture University

Principal Investigator

近藤 和夫  大阪府立大学, 研究推進機構, 教授 (50250478)

Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) 金子 豊  京都大学, 情報学研究科, 助教 (00169583) [Withdrawn]
齊藤 丈靖  大阪府立大学, 工学(系)研究科(研究院), 准教授 (70274503) [Withdrawn]
横井 昌幸  大阪府立大学, 工学(系)研究科(研究院), 研究員 (80359348) [Withdrawn]
Project Period (FY) 2015-04-01 – 2019-03-31
Keywords銅めっき / 穴埋め / 添加剤 / 塩素 / SPS / 電極反応速度解析 / 一価銅
Outline of Annual Research Achievements

回転リング-デイスクを用いて塩素と臭素との共存下でのSPSとその誘導体の促進作用を検討した。デイスクの銅を溶解して一価銅を発生させると促進剤量の増大に伴いリングの正電流が増大する。塩素の共存下ではSPSとMPSとがよい促進効果を、また臭素の共存下ではPDSHが促進効果を示す。PDSHが4ppmで臭素が50ppmの時促進効果が最大となる。Ion = - 20 mA/cm2のパルスリバース電流でPDSH 2 ppm 、塩素50 ppmの時ビアが完全充填してリングの正電流の増大と対応する。

Current Status of Research Progress
Current Status of Research Progress

2: Research has progressed on the whole more than it was originally planned.

Reason

・促進剤SPSに代わる新促進剤の探索とその有効性の確認
・回転リングディスクを用いた促進作用のモニター
などおおむね順調に進捗してる

Strategy for Future Research Activity

前項の現在までの進捗状況にて記載しております方策。 また本研究の継続内容で申請いたしました新科研が新規採択されました。 継続研究していきます。

Causes of Carryover

回転リングディスクによるSPSの促進作用検出に不十分なところがあるため、来年度も継続検証したい。リング電圧が酸化のみでなく還元電圧でも検出できる可能性がでてきたため。また本手法を完成させると従来法のCVS法の促進剤モニター法よりもより高精度のモニター技術が完成する可能性が大なため。

  • Research Products

    (4 results)

All 2018 2017

All Presentation (2 results) Book (1 results) Patent(Industrial Property Rights) (1 results)

  • [Presentation] Reduction of stress due to annealing of copper TSV by the low TCE Copper2018

    • Author(s)
      Van Quy Dinh・近藤和夫・平藤哲司
    • Organizer
      表面技術協会
  • [Presentation] Monitoring of SPS concentration in copper electroplating bath by cyclic voltammetry stripping using a rotating ringdisk electrode2018

    • Author(s)
      Anh Van Nhat Tran・近藤和夫・平藤哲司
    • Organizer
      表面技術協会
  • [Book] Cuprous is key to acceleration in Copper bottom up filling2017

    • Author(s)
      Kazuo Kondo
    • Total Pages
      50
    • Publisher
      Lambert
  • [Patent(Industrial Property Rights)] 銅メッキ液分析装置、銅メッキ液分析システムおよび銅メッキ液分析方法2018

    • Inventor(s)
      近藤和夫・中山直
    • Industrial Property Rights Holder
      近藤和夫・中山直
    • Industrial Property Rights Type
      特許
    • Industrial Property Number
      特願2018-034883

URL: 

Published: 2018-12-17  

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