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2017 Fiscal Year Annual Research Report

Influence of charge delocalization in nanofabrication induced by ionizing radiations

Research Project

Project/Area Number 15K06662
Research InstitutionHokkaido University

Principal Investigator

岡本 一将  北海道大学, 工学研究院, 助教 (10437353)

Project Period (FY) 2015-04-01 – 2018-03-31
Keywords放射線化学 / レジスト / パルスラジオリシス / 放射線、X線、粒子線 / 半導体超微細化 / 芳香族分子 / EUVリソグラフィ
Outline of Annual Research Achievements

リソグラフィ技術分野での露光波長の短波長化は、電離放射線域にまで達し極端紫外線(EUV)リソグラフィが新世代の半導体量産プロセスにおいて実現されようとしている。
そこで用いられるレジスト材料は、EUVの露光による電離により放射線化学反応が誘起される。そして、反応が起きていないナノサイズ領域における、現像液に対する溶解性の差異によって、微細パターンが形成される。半導体の微細化に伴い、10ナノメートルスケールの加工の実現に向け、分子サイズで生じる電離後の電荷のダイナミクスは未だ明らかにされておらず、その解明は重要な課題である。
本研究では、電子線パルスラジオリシス法による過渡吸収分光法により、芳香族分子間の過剰電荷の挙動をはじめとする放射線化学初期過程を直接観察し、EUVレジスト性能との関係性について明らかにすることが目的である。本年度は以下の研究を遂行した。
1.種々の芳香族スルホン化合物をスクリーニングし、化学増幅型レジストに添加することより、そのナノサイズの加工性能への影響を調べた。電子供与性置換基を有するフェニルスルホン化合物が、優れた解像特性の改善を示すことを明らかにした。パルスラジオリシス法を用いることによって添加剤の中間活性種(ラジカルアニオン、ラジカルカチオン)のダイナミクスを明らかにした。
2.ゾルーゲル法により合成したポリスチレン―シリカゲルハイブリッドのポリスチレン鎖中での正電荷の非局在性についてパルスラジオリシス法を用いて調べ、フェニルシランからポリスチレンへのホール移動に基づくダイマーラジカルカチオンの形成について明らかにし、さらにシリルラジカルの形成についても観察することができた。

  • Research Products

    (4 results)

All 2018 2017

All Journal Article (2 results) (of which Peer Reviewed: 2 results,  Open Access: 1 results) Presentation (2 results)

  • [Journal Article] Sensitivity enhancement of chemically amplified EUV resists by adding acid-generating promoters2017

    • Author(s)
      Shinya Fujii, Kazumasa Okamoto, Hiroki Yamamoto, Takahiro Kozawa, Toshiro Itani
    • Journal Title

      Japanese Journal of Applied Physics

      Volume: 56 Pages: 06GD01

    • DOI

      10.7567/JJAP.56.06GD01

    • Peer Reviewed / Open Access
  • [Journal Article] Dynamics of radical Ions of hydroxyhexafluoroisopropyl-substituted benzenes2017

    • Author(s)
      Kazumasa Okamoto, Naoya Nomura, Ryoko Fujiyoshi, Kikuo Umegaki, Hiroki Yamamoto, Kazuo Kobayashi, and Takahiro Kozawa
    • Journal Title

      The Journal of Physical Chemistry A

      Volume: 121 Pages: 9458~9465

    • DOI

      10.1021/acs.jpca.7b09842

    • Peer Reviewed
  • [Presentation] パルスラジオリシスによるフェニルスルホン化合物の放射線化学反応2018

    • Author(s)
      岡本一将, 河合俊平, 山本洋揮, 古澤孝弘
    • Organizer
      日本原子力学会2018年春の大会
  • [Presentation] ポリスチレンのフェニルトリメトキシシラン溶液のパルスラジオリシス2017

    • Author(s)
      堀 成生, 岡本一将, 山本洋揮, 古澤孝弘, 藤吉亮子, 梅垣菊男
    • Organizer
      第60回放射線化学討論会

URL: 

Published: 2018-12-17  

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