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2016 Fiscal Year Research-status Report

理想的ヘテロナノ界面を用いた界面伝導の物理に基づくフォノン・電子伝導の独立操作

Research Project

Project/Area Number 15K13276
Research InstitutionOsaka University

Principal Investigator

中村 芳明  大阪大学, 基礎工学研究科, 教授 (60345105)

Project Period (FY) 2015-04-01 – 2018-03-31
Keywordsエピタキシー / Si / 熱電材料 / ナノドット
Outline of Annual Research Achievements

昨年度、SiGe/Si層の波数保存を行うためには、通常行っている組成比制御をより精度よく、しかも蒸着中に安定させる必要があることがわかった。本年度は、蒸着速度の安定度の低い電子蒸着源ではなく、安定度の高いクヌーセンセルを使用することで、成長を行うという戦略で研究を行った。そこで、まず、電子蒸着源から高温クヌーセンセルを用いた蒸着装置へと改造を行った。その後、SiGeナノドット/Siを極薄Si酸化膜技術を用いて、試料を成長する前に、予備的にSiGe/Si超格子を形成することにした。これにより、まず、組成制御してSiGe/Si構造が形成できるかどうかを確認を行った、その結果、制御して形成できていることがわかった。
次に、ナノドット形成実験に移る予定であったが、ここで、この予備的に作製した超格子に着目した。その理由は、歪の効果がナノドットの場合とは異なるものの、SiGe/Si超格子構造の電気特性評価を行うことで、SiGe/Si層の間の波数保存効果の知見がある程度得られる可能性があると考えたからである。そこで、本超格子の電気特性を詳細に調べる方向に舵を切って研究を行った。まず、SiGe/Si超格子を作製し、本試料にイオン注入を行ってドーピングを施した。様々にドーピング条件を変えて実験を行い、構造を維持しながら、電気特性評価可能にするドーピング条件の探索を行い、その結果、電気特性評価のできる条件を見出すことに成功した。また、予備的に熱伝導率を測定して、本試料において、測定が可能であることを確認した。

Current Status of Research Progress
Current Status of Research Progress

3: Progress in research has been slightly delayed.

Reason

当初は、SiGeナノドット/Si積層構造であったが、ナノドットの部分を超格子に変える方針にした。ナノドットではない点では、遅れている。しかし、波数保存を行い、電気特性制御を行って、熱伝導率低減を行えるかという挑戦的な課題は、ある程度、この方針でも解決する可能性がある。それと、現在、本構造において特性を調べることのできる状態となっていることを考えると、本年度までの知見を使って、来年度に一気に研究が進むと予想される。それらをすべて加味して、”やや遅れている”と判断した。上で述べたように、来年度は、その特性評価のみで結果が出せるものと考えられる。

Strategy for Future Research Activity

来年度は、超格子構造において、電気特性と熱伝導率の評価を行う。その際、電気特性のキャリア依存性を取得するようにする。そのため、イオン注入が研究推進の重要なファクターとなる。その条件は、本年度見出している。その後、SiGeの組成を変えて波数保存されていない組成の量を作製し、同様の実験を行う。これにより、当初の目的を達成できるものと考える。また、ナノドット作製においても実験を行い、その知見も同時に得ることを行う。

Causes of Carryover

本年度は装置改造を行い、それにより実験的な遅れが年度の初めにあった。これは、予想していたよりも、蒸着の安定性が必要であることが、昨年度わかったからである。しかし、ナノドット形成から、超格子形成の波数保存則の実験に切り替えることで、研究を進めることができることがわかった。そのために、来年度行う予定の研究に必要な知見を得ることに、本年度すでに成功している。そうした状況のため、SiGe組成依存性、キャリア濃度依存性の実験をいっきに来年度行う予定である。そのため、本年度までに使用する予定であった研究費を来年度に回すという大幅な変更が必要である。逆にそうすることで、本研究の成果を来年度にとりまとめて得られる効果が期待できる。

Expenditure Plan for Carryover Budget

上記で記載したように、、SiGe組成依存性、キャリア濃度依存性の実験をいっきに来年度行うことになるため、そのための、実験に必要な、消耗品・備品に使用する予定である。具体的には、組成等を変えて、成長する際に必要な消耗品や超高真空部品、計測部品などへの使用を考えている。

  • Research Products

    (35 results)

All 2017 2016

All Journal Article (6 results) (of which Peer Reviewed: 6 results,  Acknowledgement Compliant: 3 results) Presentation (28 results) (of which Int'l Joint Research: 8 results,  Invited: 3 results) Book (1 results)

  • [Journal Article] Thermal Conductivity Measurement of Thermoelectric Thin Films by a Versatility-Enhanced 2ω Method2017

    • Author(s)
      Okuhata Ryo、Watanabe Kentaro、Ikeuchi Satoaki、Ishida Akihiro、Nakamura Yoshiaki
    • Journal Title

      Journal of Electronic Materials

      Volume: 46 Pages: 3089~3096

    • DOI

      10.1007/s11664-016-5170-5

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Embedded-ZnO Nanowire Structure for High-Performance Transparent Thermoelectric Materials2017

    • Author(s)
      Ishibe Takafumi、Tomeda Atsuki、Watanabe Kentaro、Kikkawa Jun、Fujita Takeshi、Nakamura Yoshiaki
    • Journal Title

      Journal of Electronic Materials

      Volume: 46 Pages: 3020~3024

    • DOI

      10.1007/s11664-016-5111-3

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Thermoelectric properties of epitaxial β-FeSi2 thin films/Si(111) and enhancement approach of its thermoelectric performance2017

    • Author(s)
      Tatsuhiko Taniguchi, Shunya Sakane, Shunsuke Aoki, Ryo Okuhata, Takafumi Ishibe, Kentaro Watanabe, Takeyuki Suzuki, Takeshi Fujita, Kentarou Sawano, and Yoshiaki Nakamura
    • Journal Title

      Journal of Electronic Materials

      Volume: 46 Pages: 3235-3241

    • DOI

      10.1007/s11664-016-4997-0

    • Peer Reviewed / Acknowledgement Compliant
  • [Journal Article] Thermoelectric properties of epitaxial β-FeSi2 thin films grown on Si(111) substrates with various film qualities2017

    • Author(s)
      Kentaro Watanabe, Tatsuhiko Taniguchi, Shunya Sakane, Shunsuke Aoki, Takeyuki Suzuki, Takeshi Fujita, and Yoshiaki Nakamura
    • Journal Title

      Japanese Journal of Applied Physics

      Volume: 56 Pages: 05DC04-1-5

    • DOI

      10.7567/JJAP.56.05DC04

    • Peer Reviewed / Acknowledgement Compliant
  • [Journal Article] Epitaxial iron oxide nanocrystals with memory function grown on Si substrates2016

    • Author(s)
      Takafumi Ishibe, Hideki Matsui, Kentaro Watanabe, Shotaro Takeuchi, Akira Sakai, and Yoshiaki Nakamura
    • Journal Title

      Applied Physics Express

      Volume: 9 Pages: 055508-1-4

    • DOI

      10.7567/APEX.9.055508

    • Peer Reviewed / Acknowledgement Compliant
  • [Journal Article] Amorphous / epitaxial superlattice for thermoelectric application2016

    • Author(s)
      Akihiro Ishida, Hoang Thi Xuan Thao, Mamoru Shibata, Seisuke Nakashima, Hirokazu Tatsuoka, Hidenari Yamamoto, Yohei Kinoshita, Mamoru Ishikiriyama, and Yoshiaki Nakamura
    • Journal Title

      Japanese Journal of Applied Physics

      Volume: 55 Pages: 081201-1-5

    • DOI

      10.7567/JJAP.55.081201

    • Peer Reviewed
  • [Presentation] Independent control of phonon and electron transport in Si-based nanoarchitectures with epitaxial Ge nanodots2017

    • Author(s)
      Kentaro Watanabe, Shuto Yamasaka, Takafumi Ishibe, Shunya Sakane, Kentarou Sawano, and Yoshiaki Nakamura
    • Organizer
      The 1st Asian Conference on Thermal Sciences (ACTS 2017)
    • Place of Presentation
      Jeju Island, Korea
    • Year and Date
      2017-03-26 – 2017-03-30
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] 2ω法に基づいた薄膜板材料に適用可能な熱伝導率測定法の開発2017

    • Author(s)
      御手洗 光祐、奥畑 亮、渡辺 健太郎、中村 芳明
    • Organizer
      2017年春季<第64回>応用物理学会
    • Place of Presentation
      パシフィコ横浜(神奈川県横浜市)
    • Year and Date
      2017-03-14 – 2017-03-17
  • [Presentation] 有機膜埋め込みによるナノウォール構造の熱伝導率測定法の開発2017

    • Author(s)
      渡辺 健太郎、宮崎 雄介、御手洗 光祐、奥畑 亮、中村 芳明
    • Organizer
      2017年春季<第64回>応用物理学会
    • Place of Presentation
      パシフィコ横浜(神奈川県横浜市)
    • Year and Date
      2017-03-14 – 2017-03-17
  • [Presentation] Si(001)基板上エピタキシャルGe薄膜の熱電特性2017

    • Author(s)
      谷口 達彦、宮本 拓、奥畑 亮、渡辺 健太郎、中村 芳明
    • Organizer
      2017年春季<第64回>応用物理学会
    • Place of Presentation
      パシフィコ横浜(神奈川県横浜市)
    • Year and Date
      2017-03-14 – 2017-03-17
  • [Presentation] ナノドット含有Si薄膜における構造と出力因子の関係2017

    • Author(s)
      坂根 駿也、渡辺 健太郎、藤田 武志、澤野 憲太郎、中村 芳明
    • Organizer
      2017年春季<第64回>応用物理学会
    • Place of Presentation
      パシフィコ横浜(神奈川県横浜市)
    • Year and Date
      2017-03-14 – 2017-03-17
  • [Presentation] ZnOナノワイヤ埋め込み構造の出力因子増大効果の解明2017

    • Author(s)
      石部 貴史、留田 純希、渡辺 健太郎、吉川 純、中村 芳明
    • Organizer
      2017年春季<第64回>応用物理学会
    • Place of Presentation
      パシフィコ横浜(神奈川県横浜市)
    • Year and Date
      2017-03-14 – 2017-03-17
  • [Presentation] ナノワイヤ埋め込み効果による透明ZnO薄膜の熱電性能向上2017

    • Author(s)
      石部 貴史、留田 純希、渡辺 健太郎、吉川 純、藤田 武志、中村 芳明
    • Organizer
      応用物理学会関西支部平成28年度第3回講演会
    • Place of Presentation
      大阪大学中之島センター(大阪府大阪市)
    • Year and Date
      2017-02-24 – 2017-02-27
  • [Presentation] エピタキシャルb-FeSi2ナノドット含有Si薄膜の作製とその熱電特性評価2017

    • Author(s)
      坂根 駿也、渡辺 健太郎、藤田 武志、澤野 憲太郎、中村 芳明
    • Organizer
      応用物理学会関西支部平成28年度第3回講演会
    • Place of Presentation
      大阪大学中之島センター(大阪府大阪市)
    • Year and Date
      2017-02-24 – 2017-02-24
  • [Presentation] Nanoarchitecture design for independent control of carrier and phonon transports2016

    • Author(s)
      Yoshiaki Nakamura
    • Organizer
      Pacific Rim Symposium on Surfaces, Coatings & Interfaces (Parcsurf2016)
    • Place of Presentation
      Hawaii, USA
    • Year and Date
      2016-12-11 – 2016-12-11
    • Int'l Joint Research / Invited
  • [Presentation] 溶液成長法による金属上ZnOナノ薄膜構造の形成2016

    • Author(s)
      安岡 晃太、渡辺 健太郎、中村 芳明
    • Organizer
      応用物理学会関西支部平成28年度第2回講演会
    • Place of Presentation
      関西学院大学西宮上ヶ原キャンパス(兵庫県西宮市)
    • Year and Date
      2016-10-07 – 2016-10-07
  • [Presentation] 低温スピンオンドーピング法によるSi基板上π型熱電モジュールの作成2016

    • Author(s)
      金子 航大、渡辺 健太郎、中村 芳明
    • Organizer
      応用物理学会関西支部平成28年度第2回講演会
    • Place of Presentation
      関西学院大学西宮上ヶ原キャンパス(兵庫県西宮市)
    • Year and Date
      2016-10-07 – 2016-10-07
  • [Presentation] ナノ構造を用いた熱電特性制御とSi系熱電材料開発2016

    • Author(s)
      中村芳明
    • Organizer
      日本金属学会 時限研究会 第四回エレクトロニクス薄膜材料研究会
    • Place of Presentation
      大阪大学(大阪府豊中市)
    • Year and Date
      2016-09-22 – 2016-09-22
    • Invited
  • [Presentation] Si基板上への鉄シリサイド薄膜構造形成とその熱電物性2016

    • Author(s)
      坂根駿也、谷口達彦、渡辺健太郎、中村芳明
    • Organizer
      第28回シリサイド系半導体と関連物質研究会
    • Place of Presentation
      新潟駅前カルチャーセンター(新潟県新潟市)
    • Year and Date
      2016-09-16 – 2016-09-16
    • Invited
  • [Presentation] エピタキシャルGeナノドット含有Si薄膜における熱伝導率の低減2016

    • Author(s)
      渡辺 健太郎、山阪 司祐人、澤野 憲太郎、中村 芳明
    • Organizer
      2016年秋季<第77回>応用物理学会
    • Place of Presentation
      朱鷺メッセ(新潟県新潟市)
    • Year and Date
      2016-09-13 – 2016-09-16
  • [Presentation] GaドープしたSi層/極薄Si酸化膜における熱伝導率の低減2016

    • Author(s)
      奥畑 亮、上田 智広、成瀬 延康、渡辺 健太郎、中村 芳明
    • Organizer
      2016年秋季<第77回>応用物理学会
    • Place of Presentation
      朱鷺メッセ(新潟県新潟市)
    • Year and Date
      2016-09-13 – 2016-09-16
  • [Presentation] Si(111)基板上エピタキシャルβ-FeSi2薄膜の熱電特性2016

    • Author(s)
      谷口 達彦、坂根 駿也、青木 俊輔、奥畑 亮、渡辺 健太郎、鈴木 健之、藤田 武志、澤野 憲太郎、中村 芳明
    • Organizer
      2016年秋季<第77回>応用物理学会
    • Place of Presentation
      朱鷺メッセ(新潟県新潟市)
    • Year and Date
      2016-09-13 – 2016-09-16
  • [Presentation] 鉄シリサイドナノドット構造制御によるSi薄膜の熱電物性向上2016

    • Author(s)
      坂根 駿也、渡辺 健太郎、藤田 武志、澤野 憲太郎、中村 芳明
    • Organizer
      2016年秋季<第77回>応用物理学会
    • Place of Presentation
      朱鷺メッセ(新潟県新潟市)
    • Year and Date
      2016-09-13 – 2016-09-16
  • [Presentation] ZnOナノワイヤ埋め込み構造の形成とその熱電特性2016

    • Author(s)
      石部 貴史、渡辺 健太郎、吉川 純、藤田 武志、中村 芳明
    • Organizer
      2016年秋季<第77回>応用物理学会
    • Place of Presentation
      朱鷺メッセ(新潟県新潟市)
    • Year and Date
      2016-09-13 – 2016-09-16
  • [Presentation] 急峻界面をもつエピタキシャルナノ構造を用いたフォノン輸送制御2016

    • Author(s)
      中村 芳明
    • Organizer
      2016年秋季<第77回>応用物理学会
    • Place of Presentation
      朱鷺メッセ(新潟県新潟市)
    • Year and Date
      2016-09-13 – 2016-09-13
  • [Presentation] エピタキシャルGeナノドットを用いたSi系熱電材料の高性能化2016

    • Author(s)
      山阪 司祐人、渡辺 健太郎、中村 芳明
    • Organizer
      第13回日本熱電学会
    • Place of Presentation
      東京理科大学葛飾キャンパス(東京都葛飾区)
    • Year and Date
      2016-09-05 – 2016-09-07
  • [Presentation] Size and shape control of epitaxial β-FeSi2 nanodots in Si-based nanoarchitecture toward advanced thermoelectric materials2016

    • Author(s)
      Shunya Sakane, Kentaro Watanabe, Tatsuhiko Taniguchi, Masayuki Isogawa, Shuto Yamasaka, Shinya Tsurusaki, Shotaro Takeuchi, Akira Sakai, and Yoshiaki Nakamura
    • Organizer
      Asia-Pacific Conference on Semiconducting Silicides and Related Materials
    • Place of Presentation
      Kyushu University, Fukuoka City, Fukuoka Pref.
    • Year and Date
      2016-07-16 – 2016-07-18
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] The Growth of High Quality Epitaxial β-FeSi2 Thin Films by Solid Phase Epitaxy2016

    • Author(s)
      Tatsuhiko Taniguchi, Shunya Sakane, Shunsuke Aoki, Kentaro Watanabe, Takeyuki Suzuki, Takeshi Fujita, and Yoshiaki Nakamura
    • Organizer
      Asia-Pacific Conference on Semiconducting Silicides and Related Materials
    • Place of Presentation
      Kyushu University, Fukuoka City, Fukuoka Pref.
    • Year and Date
      2016-07-16 – 2016-07-18
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Independent control of phonon and electron transport in Si films including epitaxial Ge nanodots2016

    • Author(s)
      Kentaro Watanabe, Shuto Yamasaka, Shunya Sakane, Kentarou Sawano, and Yoshiaki Nakamura
    • Organizer
      The 35th International Conference & The 1st Asian Conference on Thermoelectrics (ICT/ACT2016)
    • Place of Presentation
      Wuhan, P. R. China
    • Year and Date
      2016-05-29 – 2016-06-02
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Thermoelectric properties of epitaxial β-FeSi2 thin films/Si(111)2016

    • Author(s)
      Tatsuhiko Taniguchi, Shunya Sakane, Shunsuke Aoki, Kentaro Watanabe, Takeyuki Suzuki, Takeshi Fujita, and Yoshiaki Nakamura
    • Organizer
      The 35th International Conference & The 1st Asian Conference on Thermoelectrics (ICT/ACT2016)
    • Place of Presentation
      Wuhan, P. R. China
    • Year and Date
      2016-05-29 – 2016-06-02
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Developement of 2ω method with high versatility applicable to thermoelectric thin films2016

    • Author(s)
      Ryo Okuhata, Kentaro Watanabe, Satoaki Ikeuchi, Akihiro Ishida, and Yoshiaki Nakamura
    • Organizer
      The 35th International Conference & The 1st Asian Conference on Thermoelectrics (ICT/ACT2016)
    • Place of Presentation
      Wuhan, P. R. China
    • Year and Date
      2016-05-29 – 2016-06-02
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Novel ZnO-based buried nanowire structure for high performance thermoelectric materials2016

    • Author(s)
      Takafumi Ishibe, Kentaro Watanabe, Takeshi Fujita, and Yoshiaki Nakamura
    • Organizer
      The 35th International Conference & The 1st Asian Conference on Thermoelectrics (ICT/ACT2016)
    • Place of Presentation
      Wuhan, P. R. China
    • Year and Date
      2016-05-29 – 2016-06-02
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] 極小エピタキシャルGeナノドット含有Siナノ構造における熱伝導制御2016

    • Author(s)
      山阪 司祐人、渡辺 健太郎、坂根 駿也、中村 芳明
    • Organizer
      第53回日本伝熱シンポジウム
    • Place of Presentation
      グランキューブ大阪(大阪府大阪市)
    • Year and Date
      2016-05-24 – 2016-05-26
  • [Presentation] 2ω法による熱伝導率測定の汎用性向上2016

    • Author(s)
      奥畑 亮、渡辺 健太郎、池内 賢朗、石田 明広、中村 芳明
    • Organizer
      第53回日本伝熱シンポジウム
    • Place of Presentation
      グランキューブ大阪(大阪府大阪市)
    • Year and Date
      2016-05-24 – 2016-05-26
  • [Book] 極薄Si酸化膜技術を用いたナノ構造界面設計による熱電物性制御、CERAMICS JAPAN (セラミックス 52, 71-77 (2017)))2017

    • Author(s)
      中村芳明
    • Total Pages
      8
    • Publisher
      (公社)日本セラミックス協会

URL: 

Published: 2018-01-16  

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