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2016 Fiscal Year Annual Research Report

Growth of high quality graphene using wafer bonding and high-frequency devices based on a new principle

Research Project

Project/Area Number 15K13353
Research InstitutionTohoku University

Principal Investigator

吹留 博一  東北大学, 電気通信研究所, 准教授 (10342841)

Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) 末光 眞希  東北大学, 電気通信研究所, 教授 (00134057)
Project Period (FY) 2015-04-01 – 2017-03-31
Keywordsグラフェン / 接合 / トランジスタ
Outline of Annual Research Achievements

【学術的背景】グラフェンは、優れた物性を有する次世代材料である。例えば、テラヘルツ(THz)帯で動作するFETの実現が、理論的にはグラフェンの利用により可能となる。G-FET実用化に向けて、申請者らは、Si基板上SiC薄膜上にグラフェンを作製するというGOS法の先導的研究を行ってきた(表面科学会論文賞、 Sci. Rep. (2014))。GOS法はSi技術と適合する有望な成長法だが、課題①:SiC薄膜の低結晶性に由来するグラフェンの低品質性を有する。更にG-FETのデバイス開発も行い、THz帯動作へあと一歩の世界最高のG-FETの高周波特性を得た(Proc. IEEE (2013))。更なる特性向上には、ピンチオフの実現(課題②)が必要である。
【本年度の研究計画】項目①で作製したグラフェンをチャネルとして用いて、デュアル・ゲート構造を有するFET(DG-FET)を作製する。このデュアル・ゲートの二つのゲート電極電圧の適切な設定により、単極性動作させることが可能となる(特許出願済み)。このような新たな構造・原理に基づいたDG-FETを用いて、ドレイン電流の飽和(ピンチオフ)、引いては、THz帯動作を狙う。(デバイス作製)これまで申請者らが構築してきたデバイス作製技術(Proc. IEEE (2013))を用いて、DG-FETを作製する。
【本年度の成果】上述のようなデュアル・ゲート構造を有するデバイスの試作に成功した。電気特性の評価の結果から、予想通りの飽和特性ではないが、ドレイン電流が飽和することが確認された。

  • Research Products

    (8 results)

All 2016 Other

All Presentation (2 results) (of which Invited: 1 results) Remarks (1 results) Patent(Industrial Property Rights) (5 results)

  • [Presentation] 二次元原子薄膜は使えるのか?2016

    • Author(s)
      吹留博一
    • Organizer
      セミコンファレンス
    • Place of Presentation
      浅虫温泉、青森市
    • Year and Date
      2016-11-25 – 2016-11-25
    • Invited
  • [Presentation] ハイブリッドSiC基板を用いたSi終端SiC単結晶薄膜上高品質グラフェン成長2016

    • Author(s)
      遠藤 則史、秋山 昌次、田島 圭一郎、末光 眞希、小西 繁、茂木 弘、川合 信、久保田 芳宏、堀場 弘司、組頭 広志、吹留 博一
    • Organizer
      第77会応用物理学会講演会
    • Place of Presentation
      朱鷺メッセ、新潟市
    • Year and Date
      2016-09-16 – 2016-09-16
  • [Remarks] 末光・吹留研究室ホームページ

    • URL

      http://www.suemitsu.riec.tohoku.ac.jp/

  • [Patent(Industrial Property Rights)] 半導体装置2016

    • Inventor(s)
      末光真希、吹留博一、舘野泰範、岡田政也
    • Industrial Property Rights Holder
      国立大学法人東北大学、住友電気工業株式会社
    • Industrial Property Rights Type
      特許
    • Industrial Property Number
      特願2016-242417
    • Filing Date
      2016-12-14
  • [Patent(Industrial Property Rights)] 積層体および電子素子2016

    • Inventor(s)
      末光真希、吹留博一、舘野泰範、岡田政也
    • Industrial Property Rights Holder
      国立大学法人東北大学、住友電気工業株式会社
    • Industrial Property Rights Type
      特許
    • Industrial Property Number
      特願2016-234445
    • Filing Date
      2016-12-01
  • [Patent(Industrial Property Rights)] グラフェントランジスタおよびその製造方法2016

    • Inventor(s)
      末光真希、吹留博一、舘野泰範、岡田政也
    • Industrial Property Rights Holder
      国立大学法人東北大学、住友電気工業株式会社
    • Industrial Property Rights Type
      特許
    • Industrial Property Number
      特願2016-234207
    • Filing Date
      2016-12-01
  • [Patent(Industrial Property Rights)] 半導体装置2016

    • Inventor(s)
      末光真希、吹留博一、舘野泰範、岡田政也
    • Industrial Property Rights Holder
      国立大学法人東北大学、住友電気工業株式会社
    • Industrial Property Rights Type
      特許
    • Industrial Property Number
      特願2016-217291
    • Filing Date
      2016-11-07
  • [Patent(Industrial Property Rights)] SiC構造体およびその製造方法ならびに半導体装置2016

    • Inventor(s)
      末光真希、吹留博一、長澤弘幸、舘野泰範
    • Industrial Property Rights Holder
      国立大学法人東北大学、住友電気工業株式会社
    • Industrial Property Rights Type
      特許
    • Industrial Property Number
      特願2016-172296
    • Filing Date
      2016-09-02

URL: 

Published: 2018-01-16  

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