耐薬品性に優れたフッ素系高分子からなるイオン穿孔膜作製法の研究

2016 Fiscal Year Research-status Report

• Project/Area Number: 15K17492
• Research Institution: Japan Atomic Energy Agency
• Principal Investigator: 小川 茜 (喜多村茜) 国立研究開発法人日本原子力研究開発機構, 原子力科学研究部門 原子力基礎工学研究センター, 研究職 (50611183)
• Project Period (FY): 2015-04-01 – 2019-03-31
• Keywords: イオンビーム / フッ素系高分子 / 穿孔膜

Outline of Annual Research Achievements

本研究課題は、重イオンビーム照射を用いて、産業レベルで現実的な作製手法がないフッ素系高分子のイオン穿孔膜作製手法及び孔径制御手法を開発することを目的とし、平成27年度においては当初計画していた「雰囲気制御下で照射できるチェンバーを作製し、飛跡内生成官能基の分析及びイオン穿孔形成挙動の分析を行うこと」に対して、チェンバーの開発による照射実験手法の確立、官能基の分析、穿孔形成挙動の分析のうち走査型電子顕微鏡を用いた手法について予定通り成果を得ることができた。
平成28年度においては交付申請書に記載した計画に基づき、前述の平成27年度に得た各分析結果を、照射実験及びエッチング条件へ繰り返しフィードバックさせることにより、最も高い効率で穿孔を作製でき、かつ孔径も制御できる手法を開発し、同時に親水性官能基(ヒドロキシ基(-OH)やエーテル結合(-O-)、カルボキシ基(-COOH))がより多く飛跡内に生成できる条件を特定して、得られた成果の論文発表を行う予定であったが、産前産後の休暇と育児休業を平成27年度途中から取得したことに伴い、平成27年1月7日から平成29年3月31日まで、補助事業を中断したため、平成28年度において研究実績として報告できる成果をあげることができなかった。
中断に対して、産前産後の休暇又は育児休業の取得に伴う補助事業期間延長承認申請を行い、1年度の補助事業期間延長が認められたため、当初計画どおりに補助事業の目的達成を図る予定である。

Current Status of Research Progress

2: Research has progressed on the whole more than it was originally planned.

Reason

育児休業により平成28年度は研究を中断したが、中断前の進捗状況は順調であり、次年度も順調に実験できる見通しがあるため。

Strategy for Future Research Activity

初年度に作製した照射システムを用い、得た各分析結果を、照射実験及びエッチング条件へ繰り返しフィードバックさせることにより、最も高い効率で穿孔を作製でき、かつ孔径も制御できる手法を開発する。同時に、酸素含有の親水性の官能基が、より多く飛跡内に生成できる条件を特定する。また、フッ素系高分子の試料を、PVDF以外にETFEやPTFEにも拡大させて研究を進める。成果の論文発表を行う。

Causes of Carryover

平成28年度は育児休暇を取得し、研究を中断したため。

Expenditure Plan for Carryover Budget

実験に必要な薬品・材料類の購入に充てる他、これまでの成果を元に学会や論文誌で成果発表を行うために用いる。