2007 Fiscal Year Annual Research Report
巨大屈折率変化型高分子液晶を基盤とする超薄型高性能ホログラム材料の創製
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16105004
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| Research Institution | Tokyo Institute of Technology |
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Principal Investigator |
池田 富樹 Tokyo Institute of Technology, 資源化学研究所, 教授 (40143656)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
宍戸 厚 東京工業大学, 資源化学研究所, 准教授 (40334536)
木下 基 東京工業大学, 資源化学研究所, 助教 (40361761)
間宮 純一 東京工業大学, 資源化学研究所, 助教 (80401511)
塩野 毅 広島大学, 大学院・工学研究科, 教授 (10170846)
栗原 清二 熊本大学, 大学院・自然科学研究科, 教授 (50225265)
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| Keywords | ホログラム / 高分子 / 液晶 / 屈折率 / アゾベンゼン |
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| Research Abstract |
本研究では,光によって巨大な屈折率変化を誘起できる液晶高分子材料を新たに創出し基材に用いることにより,従来ではなし得なかった超薄型高性能ホログラムの創製を目的としている。本年度では,これまでに合成した一連の液晶高分子を用いて光応答挙動およびホログラム性能を調べた。概要を以下に示す。
1.ブロックコポリマーの合成および光応答性評価 ブロックコポリマー,機能分離型ランダムコポリマー,高複屈折液晶高分子を用いて,光応答性の検討およびホログラム性能評価を行った。ブロックコポリマーフィルムにおいて屈折率変調が増大することを明らかにした。
2.架橋液晶高分子の作製 桂皮酸基,トラン基ならびに水素結合性の光架橋部位を有する光応答性液晶高分子を合成し,光反応性および光応答挙動について検討した。トラン基と桂皮酸基を結合した液晶高分子では,桂皮酸基のみを反応させる波長366nmの直線偏光と,桂皮酸基とトラン基の両方を反応させる偏光紫外光を用いて光配向挙動の違いを精査した結果,トラン基のみが反応する場合には偏波面に垂直に光配向しやすいことが明らかとなった。
3.フレキシブル光学基板材料を目指したポリオレフィンの精密合成 ノルボルネンのビニル付加単独重合や1-アルケンとのランダム共重合に有効なジメチルシリレン架橋フルオレニルアミドジメチルチタン錯体触媒における配位子の置換基効果について検討した結果,フルオレニル基の2,3,6,7-位に嵩高いアルキル基を導入することにより重合活性が著しく向上することを明らかにした。
4.高複屈折光応答性液晶高分子の合成および物性評価 トラン部位とアゾベンゼンを直接結合したクロモフォアを側鎖に有する液晶高分子を合成し,複屈折の評価を行った。3環系においてフェニル基をチエニル基に置換することにより複屈折が増大することを見いだした。
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