2004 Fiscal Year Annual Research Report
ケイ素化合物の特性制御による新規光電機能材料設計指針の確立
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16205016
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Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
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| Research Institution | Japan Advanced Institute of Science and Technology |
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Principal Investigator |
川上 雄資 北陸先端科学技術大学院大学, 材料科学研究科, 教授 (80109280)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
今栄 一郎 北陸先端科学技術大学院大学, 材料科学研究科, 助手 (90293399)
趙 英姫 北陸先端科学技術大学院大学, 材料科学研究科, 助手 (50359717)
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| Keywords | シロキサン / ホログラム / 相分離 / 無機性 / 高分子分散液晶 |
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| Research Abstract |
ケイ素化合物、中でもシロキサン材料は絶縁性や柔軟性、無機性を有しており、その特徴をいかして、これまでに前年材料や、シリコーンオイル、コンタクトレンズ、界面修飾剤などに応用されてきた。
川上は、このような特徴を有するシロキサン結合を含む高分子を、精製の容易な多官能性シラン化合物と、入手が容易な水を原料に用いた、触媒的縮合反応により副生成物として水素ガスしか発生させないクリーンな方法で合成することに成功している。
本年度は、このようにして開発したシロキサン系材料の無機性を利用して、高分子分散型液晶ホログラム材料の開発を行った。高分子分散型液晶ホログラム(Holographic Polymer Dispersed Liquid Crystal=HPDLC)は、従来の光重合型ホログラムの系に非重合系液晶化合物を分散させ、光重合時に高分子化するマトリックスに対し、非重合系液晶化合物が相分離することにより、ホログラフィックグレーティングを形成する。したがって、高分子マトリックスと液晶化合物の相分離が効率的に生じれば、より高効率かつ高解像度の画像形成ができる。本年度、川上らは光重合性部位としてシクロヘキサンオキシドを有する種々のオリゴシロキサンを合成し、液晶化合物存在下で光カチオン重合を行った。その結果、従来の系に比べて、高解像度のホログラフィックグレーティングを形成することに成功した(Y.H.Cho, M.He, B.KKim, Y.Kawakami, Sci.Tech.Adv.Mater.,5(3),319-323(2004);Y.H.Cho, R.Kawade, T.Kubota, Y.Kawakami, Sci.Tech.Adv.Mater.,in press(2005))。
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Research Products
(6 results)
