| Research Abstract |
本年度は,ヌクレオシド5'-ホスファイトをモノマービルディングブロックとする新しい核酸合成法の開発を中心に行った。種々の嵩高い置換基を有するホスフィチル化剤を用いて,無保護の2'-デオキシリボヌクレオシドとの反応を詳細に検討し,5'-水酸基に対して高い位置及び官能基選択的なホスフィチル化反応を行える条件を見出した。当初,デオキシチチジンとデオキシグアノシンを用いた場合,原料であるヌクレオシドの反応溶媒に対する溶解度が低いため,5'-選択的なホスフィチル化反応は進行しなかったが,種々溶媒を検討したところ,N-メチルピロリドンを反応溶液に添加することでヌクレオシドの溶解度が飛躍的に向上し,高選択的な反応を実現できた。
4種類の核酸塩基を有するヌクレオシド5'-ホスファイトモノマーの合成ができたので,次にホスファイトの保護基の除去条件を詳細に検討した。この反応は,オリゴマーを合成する際の延長鎖末端の脱保護反応のモデルとなる。ホスファイトの保護基として2つのt-ブチル基を用いた場合,トリフルオロ酢酸のジクロロメタン溶液で処理すると,1つのt-ブチル基は迅速に除去されるものの,2つめのt-ブチル基の除去反応には長時間を要した。そこで,強力なルイス酸として知られるトリメチルシリルトリフルオロメタンスルホネートを用いてt-ブチル基の除去を試みたところ,極めて迅速に2つの保護基が除去可能なことがわかった。しかし,この反応はピリミジン塩基を有する誘導体には有効であるが,プリン塩基,特にアデニン塩基を有する誘導体に適用すると,グリコシル結合が開裂するデプリネーションの副反応が顕著に観察された。そこで,次に臭化亜鉛を用いる脱保護反応を試みたところ,アデニン誘導体の場合もデプリネーションを伴うことなく,目的とする反応のみが迅速に進行することがわかった。さらに,反応条件の最適化を行い,4種類の核酸塩基を有する誘導体に適用可能な反応を確立した。
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