2006 Fiscal Year Annual Research Report
高エネルギー白色SR平行マイクロビームの細束化と素子局所スペクトル分布像の可視化
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16360012
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| Research Institution | Kyushu Institute of Technology |
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Principal Investigator |
近浦 吉則 九州工業大学, 大学院工学研究科, 教授 (40016168)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
鈴木 芳文 九州工業大学, 大学院工学研究科, 助教授 (10206550)
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| Keywords | シンクロトロン光 / マイクロビーム / X線散乱トポグラフィ / デバイス構造評価 / イメージング / 可視化 |
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| Research Abstract |
本科研費研究の今年度の研究では、白色多波長マイクロビームの形成とその局所スペクトロスコピーおよび局所ディフラクトメトリから得られる構造分布情報の可視化を第一の目的としている。更にこれまで可視化が行われていなかった格子定数-格子結晶方位の分布の分布構造を、上記の方法の発展的手法によって観察をすることも主要なねらいとしている。第一の観察対象としての電子素子に加えて生体の可視化に適用して、重要な成果(研究成果報告書)を得た。
第一の研究はGaAs基盤上にN+イオン分子線エピタクシャル(以下、エピ)成長させたGaN膜の観察を行った。4軸ゴニオによるマッピングによる逆格子平均構造を調べた上で、マイクロビーム走査による構造イメージング(散乱トポグラフィ)を行い、次の結果を得た;GaNウルツァイトエピ膜は[-1-11]方向に成長し、GaNウルツァイトージンクブレンド混晶は表面法線方向に収縮、表面内に伸張する。その程度はウルツァイトの方がジンクブレンドより大きいことも判明した。マイクロビームにより構造分布可視化では、ウルツァイトとジンクブレンドの分布は大きく異なること、それぞれの分布は成長条件に依存することがわかった。
第二の研究は、結晶の格子傾き(方位分布)と格子間隔(残留応力分布)の構造分布の可視化である。この研究ではテスティングマテリアルとしてSi-Fe単結晶を用いた。白色マイクロビームと半導体検出器によりエネルギー識別の計測を行い、方位分布と残留応力分布の画像観察(可視化技術開発)に成功した。第三の研究目標として生体昏の応用については、現在、臨床医学において焦眉の課題となっている初期乳がんの検出である。新しい知見が得られたので、これについても研究成果報告書に詳細を記す。
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[Journal Article] First Attempt at #D X-Ray Visualization of DCIS due to Refraction Contrast - In Good Relation to Pathological View2006
Author(s)
安藤正海, 赤塚孝雄, 坂東弘子, 近浦吉則, 遠藤登紀子, 橋本栄子, 平野啓一, 兵頭和幸, 市原秀, 大林千穂, 杉山博, 上野栄, 山崎克人, 津坂哲也
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Journal Title
Digital Mammography LNCS4046
Pages: 525-532
