2005 Fiscal Year Annual Research Report
高分子集合体間の相互作用力制御に基づいた35nmサイズの微細レジストパターン開発
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16360171
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| Research Institution | Nagaoka University of Technology |
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Principal Investigator |
河合 晃 長岡技術科学大学, 工学部, 助教授 (00251851)
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| Keywords | リソグラフィ / 原子間力顕微鏡 / レジスト / 付着性 / 高分子集合体 / 環境制御型電子顕微鏡 / ラプラスカ / ラインエッジラフネス |
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| Research Abstract |
ギガビットクラスの電子デバイスは、年々縮小化は加速され、2008年には設計ルールが40nmである微細デバイスの実現を目指している。ここで、リソグラフィー技術におけるレジストパターンは、10〜20nmサイズの高分子集合体の凝集に起因するラインエッジラフネス(LER)および付着性の低下が問題となっている。本研究では、原子間力顕微鏡(AFM)を用いて、個々の高分子集合体間の相互作用力、および凝集形態の直接観察により、レジストパターン内の高分子集合体の凝集性を直接制御することを目的とする。これにより、加工精度の高く、かつ付着性の良好なレジスト材料の設計モデルを構築し、35nmサイズの微小レジストパターンの実現を目指す。研究の実施により、液体メニスカスとレジストパターン変形の関連について解析した。これにより、様々な集合体間の相互作用力を推定することが可能となった。次いで、AFM探針を用いて、レジストパターンを基板から剥離させて、現像プロセスを反映するために、溶液中での付着力を測定した。特に、設備導入した環境制御型電子顕微鏡(ESEM)を用いて、液滴の濡れ挙動を動的に解析することが可能となった。その結果、液体メニスカス形状と高分子集合体クラスのパターン変形との関連が明らかになった。H18年度には、ESEMを用いて、in-situ観察を行い、ラプラスカが35nmサイズのレジストパターン倒壊に及ぼす影響を明確にする。
本研究期間には、原著論文6報、国際学会発表10件、国内学会発表5件の成果発表を行った。
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