2006 Fiscal Year Annual Research Report
高分子集合体間の相互作用力制御に基づいた35nmサイズの微細レジストパターン開発
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16360171
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| Research Institution | Nagaoka University of Technology |
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Principal Investigator |
河合 晃 長岡技術科学大学, 工学部, 教授 (00251851)
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| Keywords | リソグラフィ / 原子間力顕微鏡 / レジスト / 付着性 / 高分子集合体 / 環境制御型電子顕微鏡 / ラプラス力 / ラインエッジラフネス |
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| Research Abstract |
現像時のウェット処理の際のラプラス力の知見に基づき、レジストパターン形成に注目した。最初にラプラス力の低減実験に取り組む。まず、2個のパターンの中央にAFM探針を接触させて分離させる。この際の荷重を分離力として測定する。そして、パターンの分離実験の終了後に、各高分子集合体の付着力測定に取り組む。2個の高分子集合体間の相互作用力と、測定系のサイズ・距離との相関をDerajaguin近似に基づいて解析する。これにより、様々な集合体間の相互作用力を推定することが可能となる。これらの実験から、高分子集合体は、凝集力を有した個別の粒子として取り扱えることを示した。以上の技術を用いて、現像液中で、高分子集合体の凝集挙動を直接解析した。具体的には、レジストパターンを倒壊させて、その断面を詳細に観察した。また、残さ、および表面から高分子集合体をマニピュレーションする。このとき、レジストパターン内の様々な箇所から、高分子集合体を選択して取り出すことができる。マニピュレーションできる高分子集合体のサイズは、10〜30nmの微細サイズから100nmクラスのものまで可能である。パターンから分離された高分子集合体は、表面エネルギーのバランスにより、基板上かAFM探針のどちらかに付着している。分離した高分子集合体をナノスケールで移動できることにより、パターン内の任意の位置に再付着させて、パターン凝集性を改良する。本研究期間には、原著論文2報、国際学会発表1件、国内学会発表4件の成果発表を行った。
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