2004 Fiscal Year Annual Research Report
三重項ジフェニルカルベンのオルト位アリール基による安定化
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16550034
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| Research Institution | Mie University |
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Principal Investigator |
平井 克幸 三重大学, 生命科学研究支援センター, 助教授 (80208793)
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| Keywords | ジアゾ化合物 / 三重項カルベン / レーザー閃光光分解 / 立体保護 / 電子スピン共鳴 / 低温マトリックス |
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| Research Abstract |
元来極めて不安定な化学種である三重項カルベンを有機磁性材料のスピン源として利用可能にすることを目的として、立体保護基としてオルト位に種々のアリール基を導入することによって三重項ジフェニルカルベンの安定化を試みた。即ち、オルト位にアリール基を有するジフェニルカルベンの前駆体として対応するジアゾ化合物を合成し、その光分解によって発生するジフェニルカルベンの特性化を行い、その安定性について検討した。
1.先駆体ジアゾ化合物の合成:オルト位にフェニル基及び置換フェニル基を1-2個有するジフェニルジアゾメタンを合成した。
2.ESRスペクトルによる三重項カルベンの観測:77K、2MTHF中オルト位に2個のフェニル基を有するジアゾ化合物の光分解を行ったところ、対応する三重項ジフェニルカルベンによるシグナルが観測された。このマトリックスを徐々に昇温するとカルベン由来のシグナルは130Kで消失した。
3.低温でのUV/visスペクトルによる三重項カルベンの観測:77K、2MTHF中上記ジアゾ化合物の光分解を行ったところ、三重項カルベンに由来する吸収が360nm付近に観測され、この吸収は130Kまで観測できた。
4.室温でのレーザー閃光光分解による過渡種の観測:室温脱気ベンゼン中上記ジアゾ化合物のレーザー閃光光分解を行ったが、低温マトリックスで観測された三重項カルベンに由来する吸収は観測できず、生成物であるフルオレン誘導体のT-T吸収のみが観測された。
5.生成物分析:上記ジアゾ化合物を脱気ベンゼン中室温で光分解したところ、発生したカルベンがオルト位フェニル基にCH挿入したフルオレン誘導体がほぼ定量的に得られた。
低温光照射実験より、三重項カルベンは母体ジフェニルカルベンよりもかなり安定であるが、室温のレーザー閃光光分解では殆ど発生していないことが示された。
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