2004 Fiscal Year Annual Research Report
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16655041
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| Research Institution | Kochi University of Technology |
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Principal Investigator |
小廣 和哉 高知工科大学, 工学部, 助教授 (60170370)
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| Keywords | 超臨界水 / 亜臨界水 / 酸化反応 / 水素ガスの発生 |
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| Research Abstract |
第二級アルコールであるベンズヒドロール(1)および1-フェニルエタノール(2),第一級アルコールであるベンジルアルコール(3)を,SUS316反応管中,無酸素・無触媒条件下の超臨界水で処理した.化合物1は,反応温度460℃,水密度0.35g/mL,反応時間3時間の条件で,酸化生成物であるベンゾフェノン,および還元生成物であるジフェニルメタンを,それぞれ62.7%,および10.2%の収率で与えた.石英管を用いる同様の反応では,同時に水素ガスの発生も確認した.また,化合物2は反応温度460℃,水密度0.35g/mL,反応時間3時間の条件で,酸化生成物であるアセトフェノン,および還元生成物であるエチルベンゼンを,それぞれ38.3%,および42.3%の収率で与えた.この反応を低温(360℃)で行うと,脱水生成物であるスチレンが65.3%の収率で得られた.一方,第一級アルコールである化合物3は,反応温度460℃,水密度0.35g/mL,反応時間3時間の条件で,酸化生成物であるベンズアルデヒド,および還元生成物であるトルエンを,それぞれ11.3%,および29.9%の収率で与えた.この反応ではベンズアルデヒドが脱COしたと考えられるベンゼンが22.3%副生した.
以上のように,超臨界水と親和性の高いベンゼン環を有する第二級アルコールを基質とすることにより,無触媒・無酸素条件の超臨界水中で酸化反応が進行し,効率よく相当するカルボニル化合物と水素ガスを発生することを見出した.
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