2004 Fiscal Year Annual Research Report
遷移金属錯体-ポリマー修飾シリカ粒子の三次元配列固定体のフォトニックバンド特性
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16655095
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| Research Institution | Kyushu Institute of Technology |
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Principal Investigator |
吉永 耕二 九州工業大学, 工学部, 教授 (00040436)
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| Keywords | コロイド結晶 / ポリマー修飾シリカ / 遷移金属錯体 / 色素 / フォトニック結晶 / 固定化 |
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| Research Abstract |
1.遷移金属錯体/ポリマー修飾シリカのコロイド結晶形成
金属錯体に、Mn^<2+>-テトラフェニルポルフィン、Cr(CO)_3、Cu^<2+>-フタロシアニンおよび[Ru(2,2'-ビピリジル)]Cl_2をポリ(メタクリル酸メチル)またはポリスチレン-シランカップリング剤を合成し、粒子径120nmのコロイダルシリカへグラフトしたが、有機溶媒中でのコロイド結晶の形成は観測されなかった。しかしながら、ビニルフェロセンとメタクリル酸メチルの共重合体をグラフトしたシリカのコロイド結晶がアセトニトリル中において、不安定ながら形成がみられた。現在、この結晶の安定化を調べている。
2.色素/ポリマー修飾シリカの調製とコロイド結晶形成
蛍光色素のFluoresceinあるいは7-nitrobenzofurazanをグラフトしたポリ(メタルリル酸メチル)をコロイダルシリカへグラフトし、有機溶媒中でのコロイド結晶形成を調べたところ、いずれの粒子もアセトニトリル中にてコロイド結晶形成が観測された。しかしながら、不安定であったために、固定化には至ってない。
3.単粒子薄膜の試作
上述したように、安定なコロイド結晶が形成しなかったために、ポリマー修飾シリカの単粒子膜の作製をLangmuir-Blodgett法によって行った。その結果、粒子が二次元配列した薄膜の生成が確認された。現在、その累積膜による三次元粒子配列体の作製を検討している。
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Research Products
(2 results)
