2006 Fiscal Year Annual Research Report
遷移金属錯体の特性を利用した環境調和的有機合成化学研究
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16689001
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| Research Institution | Hokkaido University |
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Principal Investigator |
有澤 光弘 北海道大学, 大学院薬学研究院, 助教授 (40312962)
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| Keywords | 環境調和 / パラジウム / ルテニウム / プリビレッジ構造化合物 / インドメタシン / 含窒素複素環 / アリル基 |
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| Research Abstract |
1,半導体担持型有機金属触媒の開発
硫黄終端ガリウムヒ素並びに金基板上に結合子(硫黄原子や含硫黄分子等)を定着する条件を精査し、30回以上Heck反応に付しても、90%以上の収率が維持できる新規環境調和型有機パラジウム触媒を開発した。更に、この触媒の反応機構についても様々な角度から調査した。
2,新規ルテニウムヒドリドを用いる触媒的有機合成反応の開発
2-1,ルテニウムヒドリドを用いる異性化、環化異性化反応を鍵反応とし、創薬プリビリッジドライブラリーを構築する上で重要となる、光学活性シクロプロパンユニット(4種類)の合成法を確立した。現在、プリビレッジ構造導入法を検討中である。
2-2,ルテニウムヒドリドを用いる異性化、続く閉環メタセシスを鍵反応とする新規インドメタシン合成法の開発について、研究を行い、所望の位置に所望の官能基を有するインドメタシンの新しい方法論を確率する事に成功した。
2-3,異性化と閉環メタセシスを組み合わせた置換ピロール新規合成法を開発した。本合成法は脂肪族アミド合成法は、従来法よりも優れている事も明らかになり、エナミドの化学の新展開を期待できる結果となった。
2-4,ルテニウムカルベン触媒を用いる置換インドール、キノリン、インドリデンン新規合成法を確立した。
2-5,創薬化学上有用なアミドNHの保護基であるアリル基の緩和な除去法を確立した。
(634文字)
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