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2016 Fiscal Year Annual Research Report

しなやかでウェットな半立体マイクロ構造体の露光作製及び新規バイオチップへの応用

Research Project

Project/Area Number 16H03845
Research InstitutionNational Institute of Advanced Industrial Science and Technology

Principal Investigator

須丸 公雄  国立研究開発法人産業技術総合研究所, 創薬基盤研究部門, 上級主任研究員 (40344436)

Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) 高木 俊之  国立研究開発法人産業技術総合研究所, 創薬基盤研究部門, 主任研究員 (10248065)
Project Period (FY) 2016-04-01 – 2019-03-31
Keywords光応答性ポリマー材料 / ハイドロゲル / フォトリソグラフィ / 半立体構造
Outline of Annual Research Achievements

Hydroxypropyl celluloseを酸触媒架橋する架橋剤として、既に半立体構造形成が確認されていた1,3,4,6-tetrakis (methoxymethyl)glycolurilに加え、両末端にカルボキシル基を有するPEGを用いて架橋できる条件を見出した。これらプレゲル層に対し、紫外光応答可視光不応答の光酸発生剤(PAG)として、ナフチルイミド型の非晶性低分子材料を用いて、数10μm程度の分解能で局所架橋できることを明らかにした。
また、poly(N-isopropylacrylamide)をo-nitrobenzaldehyde(NBA)基で修飾することにより、光照射に応答して固体状態から速やかに水溶化する新規ポリマーを開発(特許出願)、このポリマー層を介して基材表面に固定化・接着した微粒子や細胞が、局所光照射によって基材表面から選択的にリリースできることを実証した。さらに、このポリマー層を介して架橋HPC層を表面に担持させた基材を作製、中性のリン酸緩衝水溶液や細胞培養用培地中で局所光照射することにより、その箇所をオンデマンドに光剥離できることを実証、新しいタイプの光駆動アクチュエータへの展開を示唆する知見を得た。
一方、可視光応答PAGで修飾されたpoly(methyl methacrylate)(pPAGMMA)の光溶解によって架橋ゲル層の剥離を誘起する系について、浸漬するエタノール/水混合溶媒の混合比率と剥離速度の関係を解析、純粋なエタノールや水中では光剥離しないこと、エタノール含有率80%で最も素早く剥離することを明らかにした。

Current Status of Research Progress
Current Status of Research Progress

2: Research has progressed on the whole more than it was originally planned.

Reason

プレゲル層を酸触媒架橋できるさらなる条件が見出され、構成要素のラインナップが加わり、予定通り順調に進捗している。また、モノマーの重合が進行せず、開発が難航していたNBA修飾ポリマーの合成に成功、培地を含む幅広いpH環境で、非常に鋭敏な光応答水溶化を示すことが明らかになり、このポリマー薄層上で培養された細胞が、局所光照射によって個別選択的に剥離回収できること、こうした回収操作が細胞のviabilityが損なわれないことを実証した。これにより、当初想定していない幅広い用途への展開が強く示唆されるに至った。
一方、研究計画の中核に位置付けていた、pPAGMMA薄層によってプレゲル層の架橋と架橋ゲル層の剥離の両方を光で誘起する系について、架橋を誘起する最初の光照射が、光剥離プロセスにおいても少なからず影響を与えることが判明、その低減が難航している。

Strategy for Future Research Activity

新たに見出された光応答ポリマーに関しては、際立った光誘起水溶化特性を示すことが明らかになったことを受け、当初想定していた半立体構造形成や光駆動アクチュエータに加え、細胞操作や細胞培養系構築を含む幅広い用途に関する検討を進める。
一方、プレゲル層の架橋と架橋ゲル層の剥離の両方を光で誘起する手法は、架橋域の下にある光応答ポリマー層が、架橋プロセスで一定の光照射を受けることは原理的に避けられない。そこで、形成される構造体の安定化を図るべく、途中に現像工程を挟む新しい作製スキームについても、併せて検討を進める。

  • Research Products

    (15 results)

All 2017 2016

All Journal Article (1 results) (of which Peer Reviewed: 1 results,  Acknowledgement Compliant: 1 results) Presentation (11 results) (of which Int'l Joint Research: 6 results,  Invited: 3 results) Book (1 results) Patent(Industrial Property Rights) (2 results) (of which Overseas: 1 results)

  • [Journal Article] Sectioning of Cultured Cell Monolayer Using Photo-Acid-Generating Substrate and Micro-Patterned Light Projection2017

    • Author(s)
      須丸 公雄、森下 加奈、高木 俊之、佐藤 琢、金森 敏幸
    • Journal Title

      EUROPEAN POLYMER JOURNAL

      Volume: 印刷中 Pages: 印刷中

    • DOI

      10.1016/j.eurpolymj.2017.02.021

    • Peer Reviewed / Acknowledgement Compliant
  • [Presentation] emi-3D Hydrogel Microstructures Fabricated through Photolithography2017

    • Author(s)
      須丸 公雄、高木 俊之、森下 加奈、佐藤 琢、金森 敏幸
    • Organizer
      Gelsympo2017
    • Place of Presentation
      日本大学津田沼キャンパス、習志野
    • Year and Date
      2017-03-09
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] ヒトiPS細胞の光プロセシング2017

    • Author(s)
      須丸 公雄、森下 加奈、高木 俊之、佐藤 琢、金森 敏幸
    • Organizer
      つくば医工連携フォーラム2017
    • Place of Presentation
      物質・材料研究機構、つくば
    • Year and Date
      2017-01-20
  • [Presentation] Fabrication and Application of Semi-3D Microstructures Composed of Hydrogel Sheet2016

    • Author(s)
      須丸 公雄、高木 俊之、森下 加奈、佐藤 琢、金森 敏幸
    • Organizer
      第26回日本MRS年次大会
    • Place of Presentation
      波止場会館、横浜
    • Year and Date
      2016-12-19
    • Invited
  • [Presentation] 培養細胞の選択剥離操作を実現する光水溶化ポリマー薄膜2016

    • Author(s)
      須丸 公雄、高木 俊之、森下 加奈、金森 敏幸
    • Organizer
      膜シンポジウム2016
    • Place of Presentation
      関西大学吹田キャンパス、吹田
    • Year and Date
      2016-12-01
  • [Presentation] Photo-fabricated semi-3D microstructures composed of hydrogel sheet2016

    • Author(s)
      須丸 公雄、高木 俊之、森下 加奈、佐藤 琢、金森 敏幸
    • Organizer
      3rd International Conference on Biomaterials Science in Tokyo
    • Place of Presentation
      東京大学、東京
    • Year and Date
      2016-11-29
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Photomanipulation of liquid filaments on photoresponsive microwrinkles2016

    • Author(s)
      物部 浩達、大園 拓哉、秋山 陽久、須丸 公雄、清水 洋
    • Organizer
      2nd International Conference on Photoalignment and Photopatterning in Soft Materials
    • Place of Presentation
      名古屋大学、名古屋
    • Year and Date
      2016-11-25
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Soft and Wet Systems Composed of Photoresponsive Polymer Materials2016

    • Author(s)
      須丸 公雄
    • Organizer
      12th IUPAC International Conference on Novel Materials and their Synthesis
    • Place of Presentation
      Hunan Agricultural University、長沙、中国
    • Year and Date
      2016-10-18
    • Int'l Joint Research / Invited
  • [Presentation] 細胞剥離操作を実現する新規光応答性ポリマー2016

    • Author(s)
      須丸 公雄、高木 俊之、森下 加奈、金森 敏幸
    • Organizer
      第65回高分子討論会
    • Place of Presentation
      神奈川大学、横浜
    • Year and Date
      2016-09-14
  • [Presentation] Photo-responsive polymer materials for biological applications2016

    • Author(s)
      須丸 公雄、高木 俊之、森下 加奈、佐藤 琢、金森 敏幸
    • Organizer
      3rd International Conference on Bio-based Polymers and Composites (BiPoCo2016)
    • Place of Presentation
      Hotel Hunguest Forras Szeged, Szeged, Hungary
    • Year and Date
      2016-08-31
    • Int'l Joint Research / Invited
  • [Presentation] Semi-3D hydrogel microstructures fabricated through photolithography2016

    • Author(s)
      須丸 公雄、高木 俊之、森下 加奈、佐藤 琢、金森 敏幸
    • Organizer
      第65回高分子学会年次大会
    • Place of Presentation
      神戸国際会議場、神戸
    • Year and Date
      2016-05-25
  • [Presentation] Selective elimination, clump production and patterning of hiPSCs by light on PAG-polymer-functionalized substrates2016

    • Author(s)
      須丸 公雄、森下 加奈、高木 俊之、佐藤 琢、金森 敏幸
    • Organizer
      WBC2016
    • Place of Presentation
      Palais des Congres de Montreal, Montreal, Canada
    • Year and Date
      2016-05-18
    • Int'l Joint Research
  • [Book] ソフトアクチュエータの材料・構成・応用技術(「光応答スピロピランゲルアクチュエータ」)2017

    • Author(s)
      須丸 公雄、高木 俊之、杉浦 慎治、金森 敏幸
    • Total Pages
      6
    • Publisher
      S&T出版
  • [Patent(Industrial Property Rights)] 高分子化合物およびこれを用いた細胞操作方法2016

    • Inventor(s)
      須丸公雄、高木俊之、金森敏幸、森下加奈
    • Industrial Property Rights Holder
      須丸公雄、高木俊之、金森敏幸、森下加奈
    • Industrial Property Rights Type
      特許
    • Industrial Property Number
      特願2016-114432
    • Filing Date
      2016-06-18
  • [Patent(Industrial Property Rights)] 架橋ポリマー構造体及びその使用2016

    • Inventor(s)
      須丸公雄、高木俊之、森下加奈、金森敏幸
    • Industrial Property Rights Holder
      須丸公雄、高木俊之、森下加奈、金森敏幸
    • Industrial Property Rights Type
      特許
    • Industrial Property Number
      PCT/JP2016/062099
    • Filing Date
      2016-04-14
    • Overseas

URL: 

Published: 2018-01-16  

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