2017 Fiscal Year Annual Research Report
Micro Multi-DOF Magnetic Actuators Using Micro Magnetization Technology
Project/Area Number |
16H04254
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Research Institution | Tokyo Institute of Technology |
Principal Investigator |
進士 忠彦 東京工業大学, 科学技術創成研究院, 教授 (60272720)
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Project Period (FY) |
2016-04-01 – 2019-03-31
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Keywords | 磁石 / 微細加工 / 微細着磁 / マイクロアクチュエータ / 位置制御 |
Outline of Annual Research Achievements |
高性能磁石の代表例である焼結ネオジム磁石は,焼結体から機械加工により1mm以下の薄板に加工する場合,磁気特性劣化が顕著である.また,厚さ1mm以下の磁石を有効に使うためのサブミリオーダピッチのパルス着磁は,着磁コイルの細線化とジュール発熱によるコイルの溶断から,不可能である.これらの制限は,ネオジム磁石を用いるスマートフォンのレンズ駆動アクチュエータや情報記憶装置用アクチュエータなどの小型化や多自由度化の大きなボトルネックとなっている.本研究では,焼結磁石の低ダメージ薄板加工法,ボンド磁石やPLD(パルスレーザ堆積法)磁石の薄板成形法を検討するとともに,得られた薄板磁石の微細加工,微細着磁パターンを形成する手法の研究開発,また,それらの技術を組合せたマイクロ多自由度アクチュエータの実現を目的とし,磁石の微細加工,微細着磁,応用までを含めた総合的な研究を実施する.
平成29年度は,放電加工機によって薄板加工した焼結ネオジム磁石に対して,局所的にレーザ加熱し,磁化反転する手法で,碁盤の目の状にNS着磁された磁石アレイを作成した.これと,PCBボードに製作した2層のミアンダ状マイクロコイル,磁石アレイを支持案内するシリコン弾性案内からなる2自由度駆動マイクロアクチュエータを試作,それを用いた位置制御実験を実施した.また,シリコン・酸化シリコン上にPLDにて高速堆積した厚膜磁石に,レーザ加熱により,微細磁気パターンを形成する実験も合わせて実施した.
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Current Status of Research Progress |
Current Status of Research Progress
1: Research has progressed more than it was originally planned.
Reason
予定より早くマイクロアクチュエータの試作に着手できている.
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Strategy for Future Research Activity |
マイクロアクチュエータの位置決め制御の結果,高周波駆動する場合,位置決め方向以外の振動が励起されることが明らかになり,現在,マイクロ案内の再設計を進めている.また,本研究の技術に対して,数社の企業が,別の用途での利用を打診してきており,当初の計画に加え,それらのニーズを踏まえつつ,研究を進展する予定である.
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[Presentation] 酸化シリコン膜上にPDLで堆積された厚膜永久磁石のレーザ局所加熱による微細着磁2017
Author(s)
吾妻 範栄, 田中 駿也, 藤原 良元, 進士 忠彦, 清水 大, 近藤 秀俊, 山口 雄太, 山下 昂洋, 柳井 武志, 福永 博俊, 中野 正基
Organizer
日本機械学会第8回マイクロ・ナノ工学シンポジウム講演会
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