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2019 Fiscal Year Annual Research Report

Semiconductor spincurrentronics

Research Project

Project/Area Number 16H06330
Research InstitutionKyoto University

Principal Investigator

白石 誠司  京都大学, 工学研究科, 教授 (30397682)

Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) 安藤 裕一郎  京都大学, 工学研究科, 特定准教授 (50618361)
Project Period (FY) 2016-05-31 – 2021-03-31
Keywords半導体 / スピンカレント / ゲート変調
Outline of Annual Research Achievements

研究4年目である2019年度の成果は、(1)原子膜半導体である単層MoS2への磁性薄膜成長と、磁性薄膜とMoS2間のバンド構造の精密理解、及び現状で世界最小のショットキー障壁高さの実現、(2)IV族化合物半導体SiCを介した室温スピン輸送の実現、(3)スピンカレントを用いたスピンXOR演算の安定性に関する理論的考察、(4)シリコンスピントランジスタのスピン信号のゲート変調の背景学理の理解、(5)イオンゲートを介した強電界印加による金属超薄膜の抵抗およびスピン軌道相互作用の外場変調物性の検討(継続)、の5つである。

上記(1)ではCVD成長した単層MoS2に磁性薄膜を成長しスピンカレント源及び計測電極とした場合に重要となる磁性金属/MoS2界面の電子構造を精緻に理解すると共に、現時点で世界最小のショットキー障壁を実現した(論文発表済み)。さらに垂直磁化膜の成長にも成功し、その場合の界面の電子構造も理解すると共に、ショットキー障壁のゲート変調効果も見出した(論文投稿済み)。(2)ではSiCを介したスピン輸送に成功し新たなスピンカレント物性の材料的基盤を見出した(論文発表済み)。(3)ではスピンXOR演算を安定性よく実現するために必要なデバイス機能を理解し(論文発表済み)、同時にスピンXOR演算そのものも室温で達成することができた(論文投稿済み)。(4)では長年謎だったシリコンスピントランジスタにおけるスピン信号が奇妙なゲート依存性を示す、という問題を解き、精密な背景物理の理解に成功した。(5)では昨年度にこの効果をはじめて発見したPtと同様のバンド構造を持つPdで類似の効果を発見しただけでなく、スピン軌道相互作用の小さなCuでは予想通りこの効果が消失することを実験的に見出した(論文投稿済み)。

Current Status of Research Progress
Current Status of Research Progress

1: Research has progressed more than it was originally planned.

Reason

既に中間評価で「A+」評価を受けているが、全般に目標を前倒しで研究が進捗しているだけでなく、金属超薄膜を用いることで半導体的な抵抗率の変調効果及びスピン軌道相互作用の外場変調という当初予想もしていなかった新しい効果を発見しており、当初の計画以上に進展している。2019年度も無機半導体スピンカレントロニクスにおいて室温でのスピン演算を実現したほか、本提案で発見した上記の外場変調効果の基盤学理の理解を広げることも成功している。

Strategy for Future Research Activity

最終年度は、スピンXOR実現に関する論文を出版しプレス発表を通じた成果のアウトリーチを行うこと、原子膜半導体を用いたスピンカレントロニクス物性理解を更に加速すること、金属超薄膜のスピンカレントロニクス物性の外場変調という本提案で発見した新効果をベースにしたさらなる学術の広がりを達成すること、を目指す。

  • Research Products

    (32 results)

All 2020 2019 Other

All Int'l Joint Research (3 results) Journal Article (5 results) (of which Peer Reviewed: 5 results,  Open Access: 1 results) Presentation (24 results) (of which Int'l Joint Research: 13 results,  Invited: 3 results)

  • [Int'l Joint Research] ワルター・マイスナー研究所/ケルン大学(ドイツ)

    • Country Name
      GERMANY
    • Counterpart Institution
      ワルター・マイスナー研究所/ケルン大学
  • [Int'l Joint Research] シンガポール国立大学(シンガポール)

    • Country Name
      SINGAPORE
    • Counterpart Institution
      シンガポール国立大学
  • [Int'l Joint Research] ヴィクトリア大学ウェリントン校(ニュージーランド)

    • Country Name
      NEW ZEALAND
    • Counterpart Institution
      ヴィクトリア大学ウェリントン校
  • [Journal Article] Spin transport in n-type 3C Si-C observed in a lateral spin-pumping device2020

    • Author(s)
      EiShigematsuRyoOhshimaYuichiroAndoTeruyaShinjoTsunenobuKimotoMasashiShiraishi
    • Journal Title

      Solid State Communications

      Volume: 305 Pages: 113754

    • DOI

      https://doi.org/10.1016/j.ssc.2019.113754

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Investigation of gating effect in Si spin MOSFET2020

    • Author(s)
      Soobeom Lee, Fabien Rortais, Ryo Ohshima, Yuichiro Ando, Minori Goto, Shinji Miwa, Yoshishige Suzuki, Hayato Koike, and Masashi Shiraishi
    • Journal Title

      Applied Physics Letters

      Volume: 116 Pages: 022403

    • DOI

      https://doi.org/10.1063/1.5131823

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Monolayer MoS2 field effect transistor with low Schottky barrier height with ferromagnetic metal contacts2019

    • Author(s)
      Article Open Access Published: 19 November 2019 Monolayer MoS2 field effect transistor with low Schottky barrier height with ferromagnetic metal contacts Sachin Gupta, F. Rortais, R. Ohshima, Y. Ando, T. Endo, Y. Miyata & M. Shiraishi
    • Journal Title

      Scientific Reports

      Volume: 9 Pages: 17032

    • DOI

      https://doi.org/10.1038/s41598-019-53367-z

    • Peer Reviewed / Open Access
  • [Journal Article] Ferromagnetic resonance imbalance at high microwave power: Effect on the Gilbert damping parameter2019

    • Author(s)
      S. Dushenko, Y. Ando, T. Shinjo & M. Shiraishi
    • Journal Title

      Journal of Applied Physics

      Volume: 116 Pages: 203904

    • DOI

      https://doi.org/10.1063/1.5127882

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Stability of spin XOR gate operation in silicon based lateral spin device with large variations in spin transport parameters2019

    • Author(s)
      Ryoma Ishihara, Soobeom Lee, Yuichiro Ando, Ryo Ohshima, Minori Goto, Shinji Miwa, Yoshishige Suzuki, Hayato Koike, and Masashi Shiraishi
    • Journal Title

      AIP Advances

      Volume: 9 Pages: 125326

    • DOI

      https://doi.org/10.1063/1.5129980

    • Peer Reviewed
  • [Presentation] Detecthion of in-plane magnetization switching using ferromagnetic resonance2020

    • Author(s)
      M. Aoki, Y. Ando, R. Ohshima and M. Shiraishi
    • Organizer
      New Perspective in Spin Conversion Science (NPSCS2020)
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Investigation of spin-to-charge conversion in Si/Cu/Py multilayer systems by using the ac inductive measurement technique2020

    • Author(s)
      E. Shigematsu, L. Liensberger, M. Weiler, R. Ohshima, Y. Ando, T. Shinjo, H. Huebl, and M. Shiraishi
    • Organizer
      New Perspective in Spin Conversion Science (NPSCS2020)
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Spin-Charge conversion by Topological Insulator without Direct Contact to Ferromagnet Using Spin Valve Structure2020

    • Author(s)
      T. Nishijima, Y. Ando, M. Shiraishi
    • Organizer
      International Symposium on Creation of Advanced Photonic and Electronic Devices 2020
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Study on Generation of Spin Current in Si by Using Spin-dependent Seebeck Effect2020

    • Author(s)
      N. Yamashita, Y. Ando, M. Shiraishi
    • Organizer
      International Symposium on Creation of Advanced Photonic and Electronic Devices 2020
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Electric gating effect in Si spin MOSFET2020

    • Author(s)
      S. Lee, F. Rortais, R. Ohshima, Y. Ando, Y. Suzuki, H. Koike, and M. Shiraishi
    • Organizer
      International Symposium on Creation of Advanced Photonic and Electronic Devices 2020
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] トポロジカル絶縁体・結晶絶縁体によるスピン流-電流変換の試み2020

    • Author(s)
      西嶋泰樹、安藤裕一郎、白石誠司
    • Organizer
      第18回 物性科学センター講演会・研究交流会
  • [Presentation] Ferromagnetic resonance of Co ultrathin film2020

    • Author(s)
      S. Yoshii, R. Ohshima, Y. Ando, T. Shinjo, M. Shiraishi
    • Organizer
      第67回応用物理学会春季学術講演会
  • [Presentation] Fabrication and Spin Transport in Suspended Cu/NiFe Lateral Spin-valve2020

    • Author(s)
      K. Matsuki, R. Ohshima, Y. Ando, T. Shinjo, T.Toshiyuki, M. Shiraishi
    • Organizer
      第67回応用物理学会春季学術講演会
  • [Presentation] In-plane magnetization switching detected by spin torque ferromagnetic resonance2020

    • Author(s)
      M. Aoki, Y. Ando, R. Ohshima, T. Shinjo and M. Shiraishi
    • Organizer
      第67回応用物理学会春季学術講演会
  • [Presentation] Investigation of anisotropy of spin relaxation in Si-based lateral spin valve2020

    • Author(s)
      Soobeom Lee, Fabien Rortais, Ryo Ohshima, Yuichiro Ando, Minori Goto, Shinji Miwa, Yoshishige Suzuki, Hayato Koike, Masashi Shiraishi
    • Organizer
      第67回応用物理学会春季学術講演会
  • [Presentation] Spin Hall angle of Bi: Large or small?2019

    • Author(s)
      M. Shiraishi
    • Organizer
      SOIG 2019
    • Int'l Joint Research / Invited
  • [Presentation] Gate-tunable inverse spin Hall effect in ultrathin Pt2019

    • Author(s)
      M. Shiraishi
    • Organizer
      MML 2019
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Reciprocal conversion of spin current and charge current in topological surface states detected by copper-based lateral spin valves2019

    • Author(s)
      Y. Ando and M. Shiraishi
    • Organizer
      SPIE Spintronics XII
    • Int'l Joint Research / Invited
  • [Presentation] Gate-tunable spin Hall conductivity in ultrathin Pt2019

    • Author(s)
      M. Shiraishi
    • Organizer
      SPIE Spintronics XII
    • Int'l Joint Research / Invited
  • [Presentation] Experimental demonstration of spin xor logical operation in Si spin device2019

    • Author(s)
      R. Ishihara, S. Lee, Y. Ando, R. Ohshima, Y. Suzuki, H. Koike, and M. Shiraish
    • Organizer
      64th Annual Conference on MMM
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Understanding of mechanism for gate-controlled spin accumulation in Si-based lateral spin valve2019

    • Author(s)
      S. Lee, F. Rortais, R. Ohshima, Y. Ando, Y. Suzuki, H. Koike, and M. Shiraishi
    • Organizer
      64th Annual Conference on MMM
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Demonstration of low Schottky barrier height in monolayer MoS2 field effect transistor with ferromagnetic metal contacts2019

    • Author(s)
      Sachin Gupta, F Rortais, R. Ohshima, Y. Ando, T. Endo, Y. Miyata, M. Shiraishi
    • Organizer
      64th Annual Conference on MMM
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Spin Hall effect in highly oriented bismuth by using spin-torque ferromagnetic resonance2019

    • Author(s)
      M. Matsushima, Y. Ando, R. Ohshima, S. Dushenko, E. Shigematsu, T. Kawabe, T. Shinjo, S. Miwa, M. Shiraishi
    • Organizer
      Materials Research Meeting 2019
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] 高配向Biを用いたスピントルク強磁性共鳴法によるスピン変換2019

    • Author(s)
      松島真之、Sergey Dushenko、伏屋雄紀、河辺健志、三輪真嗣、重松英、大島諒、新庄輝也、大島諒、安藤裕一郎、白石誠司
    • Organizer
      日本物理学会2019年秋季大会
  • [Presentation] 位相つき高周波測定による半導体/磁性体界面におけるスピン流電流変換物性探索2019

    • Author(s)
      重松英、Lukas Liensberger、Mathias Weiler、大島諒、安藤裕一郎、新庄輝也、Hans Huebl、白石誠司
    • Organizer
      日本物理学会2019年秋季大会
  • [Presentation] Gate voltage dependence of local spin accumulation voltage in Si-based lateral spin valve2019

    • Author(s)
      Soobeom Lee, Fabien Rortais, Ryo Ohshima, Yuichiro Ando, Yoshishige Suzuki, Hayato Koike and Masashi Shiraishi
    • Organizer
      第80回応用物理学会秋季学術講演会
  • [Presentation] Spin Hall Effect Measurements in Co2MnGa based all-metallic lateral spin valves2019

    • Author(s)
      L. Leiva, S. Granville, T. Shinjo, R. Ohshima, Y. Ando, *M. Shiraishi
    • Organizer
      第80回応用物理学会秋季学術講演会
  • [Presentation] Fabrication of a spin device with a nonmagnetic metal/topological insulator interface for spin-charge converter2019

    • Author(s)
      T. Nishijima, Y. Ando, R. Ohshima, M. Shiraishi
    • Organizer
      第39回電子材料シンポジウム
  • [Presentation] A study on a spin-charge-interconversion phenomenon in an ultrathin Cu film ona ferrimagnetic insulator using an ionic-gating2019

    • Author(s)
      S. Yoshitake, R. Ohshima, Y. Ando, and M. Shiraishi
    • Organizer
      第39回電子材料シンポジウム

URL: 

Published: 2021-01-27  

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