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2016 Fiscal Year Research-status Report

高硬度アモルファス窒化炭素薄膜の形成と薄膜堆積メカニズムの解明

Research Project

Project/Area Number 16K04958
Research InstitutionNagaoka University of Technology

Principal Investigator

伊藤 治彦  長岡技術科学大学, 工学研究科, 准教授 (70201928)

Project Period (FY) 2016-04-01 – 2019-03-31
Keywordsアモルファス窒化炭素 / 構造解析 / XPS / 元素分析 / 結合解析
Outline of Annual Research Achievements

アモルファアス窒化炭素(a-CNx)薄膜は高硬度コーティング材料の候補として期待されている。その理由はC-N単結合の距離(0.147 nm)がsp3C-C結合の距離(0.154 nm)よりも短く、いわゆるDLC(ダイヤモンド様炭素)より高密度の構造を形成できると予想されていることである。それらを実際に合成する場合、窒素含有率([N]/([N]+[C])比)を理論値(0.57)にできるだけ近づける工夫が必要である。また実際に合成された高窒素含有薄膜の結合状態、特にN原子の結合がどのようなものであるか、未解明であった。本年度はそのような研究の進捗状況に鑑み、高[N]/([N]+[C])比を有する薄膜の合成とその構造解析を重点的に実施した。実験にはマイクロ波または高周波プラズマCVD装置を用い、0.1 Torr程度の窒素ガス中に5-10 mTorrの有機化合物蒸気(CH3CNまたはn-C6H14)を導入し、Si基板上に水素化されたa-CNx(a-CNx:H)薄膜を形成した。作成された膜についてXPSの広帯域掃引を行った結果、[N]/([N]+[C])比は0.32-0.49の範囲で、窒素と有機化合物の混合気体プラズマで形成されるa-CNx:H薄膜としてはほぼ最高値であった。窒素原子の400 eV付近のXPSピークについて狭帯域掃引を行い、複数のガウス関数であてはめ解析を行った結果、C-Nの二重結合と三重結合がほぼ40%と60%の割合で存在することが示された。膜のFTIRを測定したところ、2700 cm-1付近のC-H伸縮振動は観測されず、3300 cm-1付近のN-H伸縮振動が強く観測された。このことから、H原子は主にN-Hの結合を形成すると結論された。以上の成果は平成29年8月開催予定の国際会議IUMRS-ICAM2017で発表予定である。

Current Status of Research Progress
Current Status of Research Progress

2: Research has progressed on the whole more than it was originally planned.

Reason

当初の研究計画では、28年度に赤外半導体レーザーシステムの構築、29年度にアモルファス窒化炭素薄膜の構造解析を行う予定であった。しかし、27年度からすでに構造解析を継続して実施してきた状況と、特に高窒素含有薄膜の結合解析について関連する学会より強く要請されていた状況があった。そのため、本来は29年度に実施予定としていたアモルファス窒化炭素の構造解析を前倒しとし、28年度実施予定のシステム構築はロックイン増幅器の購入など、29年度の実施に向けた準備を行った。以上から、研究の実施状況としては、全体としておおむね順調に進んでいるものと判断している。

Strategy for Future Research Activity

29年度は代表者が所属する専攻の建物について、耐震改修工事が入っており、現在は仮移転先で研究を実施している。そのため、改修工事終了までは昨年度まで実施していた薄膜の形成と構造解析を中心に進めていく予定である。改修工事が終了し、本格的に研究を再開できるのは10月初頭になるので、それ以降、以下の研究を推進する予定である。すなわち、28年度に実施予定であったレーザーシステムの構築に本格的に着手する。並行して、負高電圧パルス電源を導入し、硬質膜の形成に取り組む予定である。また今回新たに、パルス色素レーザーシステムを入手することができた。従来より用いていたシステムと同程度の性能を持つレーザー分光システムが構築できる(別予算で対応する予定)ので、従来よりも幅広くプラズマ反応解析の研究を実施できるようになる。

Causes of Carryover

本年度の研究計画では設備備品として、ロックイン増幅器およびメカニカルブースターポンプの購入を予定していた。当初の見積もりではそれぞれ993,600円ならびに527,000円であったが、ロックイン増幅器は値引きにより794,880円で納入され、メカニカルブースターポンプは若干排気容量を落としたものを購入したため329,400円となった。そのため、設備備品費で396,320円の節約となった。一方で、本年度は消耗品のほぼすべてを本予算で賄ったため、消耗品の増額が生じた。それらの差額が最終的に「次年度使用額」となった。

Expenditure Plan for Carryover Budget

上記「次年度使用額」は消耗品(主としてSi基板およびレーザー用色素)の購入に充てる予定である。それぞれおよそ60千円および37千円程度となる見込みである。

  • Research Products

    (8 results)

All 2017 2016

All Journal Article (5 results) (of which Int'l Joint Research: 2 results,  Peer Reviewed: 5 results,  Open Access: 1 results,  Acknowledgement Compliant: 3 results) Presentation (3 results) (of which Int'l Joint Research: 1 results)

  • [Journal Article] Quantitative NEXAFS and solid-stateNMR studies of sp3/(sp2+sp3) ratio in the hydrogenated DLC films2017

    • Author(s)
      X. L. Zhou, S. Tunmee, T. Suzuki, P. Phothongkam, K. Kanda, K. Komatsu, S. Kawahara,
    • Journal Title

      Diamond and Related Materials

      Volume: 73 Pages: 232-240

    • DOI

      doi.org/10.1016/j.diamond.2016.09.026

    • Peer Reviewed / Open Access / Int'l Joint Research
  • [Journal Article] Fabrication of Hydrogenated Amorphous Silicon Carbide Films from Decomposition of Hexamethyldisilane with Microwave Discharge Flow of Ar2016

    • Author(s)
      H. Ito, M. Kumakura, T. Suzuki, M. Niibe, K. Kanda, and H. Saitoh
    • Journal Title

      Japanese Journal of Applied Physics

      Volume: 55 Pages: 06HC01

    • DOI

      doi.org/10.7567/JJAP.55.06HC01

    • Peer Reviewed / Acknowledgement Compliant
  • [Journal Article] Contribution of CN(X2Σ+) Radicals to N Atoms of Hydrogenated Amorphous Carbon Nitride Films Formed from the Microwave Discharge of the Gas Mixture of N2 and CH3CN2016

    • Author(s)
      H. Ito, N. Mogi, K. Okada, and H. Tsudome
    • Journal Title

      Diamond and Related Materials

      Volume: 63 Pages: 125-131

    • DOI

      dx.doi.org/10.1016/j.diamond.2015.10.029

    • Peer Reviewed / Acknowledgement Compliant
  • [Journal Article] Changes of Chemical Structure of Hydrogenated Amorphous Silicon Carbide Films with the Application of Radio-Frequency Bias Voltages during Chemical Vapor Deposition2016

    • Author(s)
      H. Ito, T. Ogaki, M. Kumakura, S. Saeki, T. Suzuki, H. Akasaka, H. Saitoh
    • Journal Title

      Diamond and Related Materials

      Volume: 66 Pages: 1-9

    • DOI

      dx.doi.org/10.1016/j.diamond.2016.03.006

    • Peer Reviewed / Acknowledgement Compliant
  • [Journal Article] Investigation of Pitting Corrosion of Diamond-like Carbon Films Using Synchrotron-based Spectromicroscopy2016

    • Author(s)
      S. Tunmee, P. Photongkam, C. Euaruksakul, H. Takamatsu, X. L. Zhou, P. Wongpanya, K. Komatsu, K. Kanda, H. Ito, and H. Saitoh
    • Journal Title

      Journal of Applied Physics

      Volume: 120 Pages: 195303

    • DOI

      dx.doi.org/10.1063/1.4967799

    • Peer Reviewed / Int'l Joint Research
  • [Presentation] Si(CH3)4の放電分解によるa-SiCx:H薄膜の形成 ― 表面O原子と膜厚に関する考察2017

    • Author(s)
      伊藤治彦
    • Organizer
      応用物理学会
    • Place of Presentation
      神奈川県横浜市(パシフィコ横浜)
    • Year and Date
      2017-03-16
  • [Presentation] 高周波プラズマCVDによる高窒素含有a-CNx:H薄膜の形成と構造解析2016

    • Author(s)
      飯澤仁規, 平松拳也, 齋藤秀俊, 伊藤治彦
    • Organizer
      応用物理学会
    • Place of Presentation
      新潟県新潟市(朱鷺メッセ)
    • Year and Date
      2016-09-15
  • [Presentation] CN(X2Σ+) Radicals as the Precursor of Hydrogenated Amorphous Carbon Nitride Films2016

    • Author(s)
      H. Ito
    • Organizer
      7-th International Workshop on Plasma Specrtroscopy
    • Place of Presentation
      愛知県犬山市(名鉄ホテル)
    • Year and Date
      2016-06-29
    • Int'l Joint Research

URL: 

Published: 2018-01-16  

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