2017 Fiscal Year Research-status Report
光波面制御を利用した深部計測のための強度干渉断層イメージング技術の開発
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16K04990
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Research Institution | National Institute of Advanced Industrial Science and Technology |
Principal Investigator |
白井 智宏 国立研究開発法人産業技術総合研究所, 計量標準総合センター, 上級主任研究員 (20357239)
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Project Period (FY) |
2016-04-01 – 2019-03-31
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Keywords | コヒーレンス理論 / 強度干渉法 / 断層イメージング / 光コヒーレンストモグラフィ(OCT) / 量子OCT / 波面制御 |
Outline of Annual Research Achievements |
1.強度干渉に基づく断層イメージング技術の高度化 当該断層イメージング技術では、被測定対象を構成する反射面間の干渉効果により、不要な像(アーティファクト)が発生することが知られている。そのため被測定対象の構造が複雑になるほど、多数のアーティファクトが発生する。昨年度はアーティファクトが1つの場合の低減法を考案したが、本年度はアーティファクトが複数発生した場合の低減法を新たに考案し、その効果を実験的に検証した。具体的には、当該断層イメージング法で取得される干渉縞データに対して事後処理として異なるシフト量を与え、それらによって得られる断層像を平均化する手法の効果と、この手法を実装するための各種パラメータの決定方法を理論的に明らかにした。さらに、顕微鏡用のカバーガラスを積層し人工的な層構造サンプルを作製し、これを利用して考案したアーティファクトの低減法が有効に機能することを実証した。以上の成果を、定評ある査読付き国際論文誌に投稿したところ、掲載時に注目論文としてPaper of the weekに選定されるなど高い評価を得ることができた。 2.多重散乱光を補正する波面制御技術の高度化 多重散乱媒質を透過した光波のフォーカシングに必要な入射波面の最適化を高速に行う方法として、入射光の位相を空間的に分割し位置に依存して異なる周波数で同時に変調する新しい原理を考案し、その効果を理論的に明らかにした。この原理を液晶空間光位相変調器に基づき実現する方法について検討したところ、素子の応答速度が全体の性能を決定する上で重要なパラメータになることが明らかとなったため、その評価に向けた準備を開始した。
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Current Status of Research Progress |
Current Status of Research Progress
2: Research has progressed on the whole more than it was originally planned.
Reason
本研究は、大別すると(1)強度干渉に基づく断層イメージング技術の高度化、(2)多重散乱光を補正する波面制御技術の高度化、および(3)両技術の融合で構成される。本年度は、(1)について次年度に計画していた内容を全て含めて重点的に実施したことにより、(2)についての本年度計画の一部が未実施となった。しかし、これは単純に研究の順序を入れ替えた措置であるため、(2)についての研究の遅れは次年度に取り戻すことが可能である。
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Strategy for Future Research Activity |
次年度は本研究の最終年度として、年度の前半で上述の(2)を重点的に実施した上で、(3)の融合に着手し、次年度末までに全ての計画を完遂できるよう努める。
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Causes of Carryover |
研究推進の都合上、本年度と次年度の計画内容の一部を入れ替えて実施した。さらに、スケジュールの都合上、本年度に予定していた研究協力先への渡航を延期した。以上の理由により、これらにかかる費用に相当する次年度使用額が発生した。 本年度に実施しなかった研究は次年度に実施する予定であり、それに必要な消耗品類は次年度早々に調達する。また、研究協力先への渡航についても、既にスケジュールの調整を終えており、次年度内に渡航する予定である。
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Research Products
(6 results)