2018 Fiscal Year Annual Research Report
The role of Shh gradient for secondary palate development
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16K11785
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| Research Institution | Osaka University |
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Principal Investigator |
三原 聖美 大阪大学, 歯学研究科, 招へい教員 (00551920)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
黒坂 寛 大阪大学, 歯学部附属病院, 講師 (20509369)
伊藤 慎将 大阪大学, 歯学研究科, 助教 (40633706)
山城 隆 大阪大学, 歯学研究科, 教授 (70294428)
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| Project Period (FY) |
2016-04-01 – 2019-03-31
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| Keywords | 口蓋裂 / Shhシグナル / 頭部神経堤細胞 |
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| Outline of Annual Research Achievements |
口唇口蓋裂は顎顔面領域で起こる形態形成不全としては最も頻度の高い現症であり、日本人では500人に1人の割合で発症し、様々な要因が関与していることが知られている。特に口蓋裂発症の部位となる二次口蓋の発生は、胎生期に左右の口蓋突起がまずは下方に成長し、水平方向に翻転、伸長し、最後に口蓋突起の先端部の上皮組織が取り除かれ、間葉組織が連続することで癒合し、形成が終了する。Sonic hedgehog(以下SHH)はヘッジホッグファミリーに所属するシグナル分子タンパクであり、脊椎動物の発生において最も重要なモルフォゲンとして、四肢や、身体の正中構造を決定するなどの、様々な器官系のデザインを形成する役割がある。顎顔面領域においても脳や顎顔面の正中構造物を形成する過程で重要な役割を担い、腹側正中線の欠失が生じると全前脳胞症を引きおこすことなどが知らせている。ヒトにおいてはSHHの膜受容体であるPatched-1（以下PTCH1）遺伝子が基底細胞母斑症候群の原因遺伝子であることが知られており、口蓋や歯の発生が障害されることが報告されている。本年度はSHHシグナルとレチノイン酸シグナルの相互作用がどの様に口蓋裂発生に関与するのかを詳細に解析した。その結果胎生初期の過剰なレチノイン酸の投与はSHHシグナルの低下を引き起こす事により口蓋裂の発症を引き起こす事を解明した。更にこの過剰なレチノイン酸シグナルによる口蓋裂はSHHシグナルのアゴニストを投与する事によりレスキュー可能である事を見出した。
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