2007 Fiscal Year Annual Research Report
ナノ構造高次元磁性フォトニック結晶の形成とスピン依存線形・非線形光機能
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17106004
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| Research Institution | Toyohashi University of Technology |
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Principal Investigator |
井上 光輝 Toyohashi University of Technology, 工学部, 教授 (90159997)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
内田 裕久 豊橋技術学大学, 工学部, 准教授 (30271000)
BARYSHEV A. 豊橋技術学大学, 工学部, 准教授 (70402667)
KHANIKAEV A. 豊橋技術学大学, 工学部, 博士研究員 (80402668)
西村 一寛 鈴鹿工業高等専門学校, 講師 (60343216)
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| Keywords | 磁性フォトニック結晶 / 磁気光学効果 / プラズモン共鳴 / Bi:YIG / 非線形光学効果 |
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| Research Abstract |
1次元積層構造の磁性フォトニック結晶(MPC)とフォトニック結晶(PC)の界面欠陥で生じるタム状態を利用する新しい動作原理の1次元磁性フォトニック結晶を開発した。この新規ID-MPCでは,界面欠陥に起因する局在モードが現れ,高い透過率と大きなファラデー回転が得られることを見出した。
2次元に配列したPtドット/YIG構造体を作製した。ガリウム・ガドリニウム・ガーネット(GGG)基板の上に電子線露光装置を用いて,2次元のPtドット、アレイを作製し,その上にイットリウム鉄ガーネット(YIG)を形成した。基板のGGG表面上ではエピタキシャル成長した単結晶YIGが形成され,Ptドット上ではアモアルファスYIGが形成される。この試料の透過率を測定したところ,回折によって透過率が低下する波長が存在すること,入射角を変えることによってその透過率が低下する波長の位置が変化することが明らかになった。また,電子線露光装置と反応性イオンエッチングRIEを用いて,Siの2次元PCを形成した。
Bi:YIGとオパール構造薄膜から成る2次元ヘテロ構造磁性フォトニック結晶を作製した。シリカ球を基板上に形成し,その上にスパッタ法によってBi:YIG薄膜を作製した。この構造では,オパール構造によってフォトニックストップバンドが現れ,その波長は角度によって変化し,そしてファラデー回転が大きく変化することがわかった。またこの構造の上にさらにオパール薄膜を形成したマイクロキャビティ型のヘテロ構造磁性フォトニック結晶を作製した。この構造では共鳴による透過率が低下する波長が現れ,そこではファラデー回転が変化することが明らかになった。
1次元および2次元の貴金属/Bi:YIGから成る磁性フォトニック、ナノ構造の作製を行った。この構造体では,プラズモン共鳴または導波路による共鳴的効果により,透過率が高くなる現象が現れることを確認した。
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Research Products
(46 results)
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[Presentation] Study on Magnetophotonic Crystals for use in Reflection type Magneto-Optical Spatial Light Modulators2007
Author(s)
K.Takahashi, F.Kawanishi, S.Mito, H.Takagi, K.H.Shin, J.Kim, P.B.Lim, H.Uchida, and M.lnoue
Organizer
52nd Magnetism and Magnetic Materials Conference
Place of Presentation
Tampa,Florida,USA
Year and Date
2007-11-07
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[Presentation] Theoretical analysis of voltage-driven MOSLM with 1D magnetophotonic crystal2007
Author(s)
H.Takagi, K.Takahashi, S.Mito, F.Kawanishi, K.H.Chung, J.Heo, J.Kim, P.B.Lim, and M.Inoue
Organizer
Workshop on Thermal and Optical Magnetic Materials and Devices(MORIS 2007)
Place of Presentation
Pittsburgh,Pennsylvania, USA
Year and Date
2007-09-25
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[Presentation] 磁性フォトニック結晶ベースMOSLMの構造設計2007
Author(s)
高木 宏幸, 高橋 一義, 水戸 慎一郎, 川西 史晃, KH, Chung, J.Heo, J.Kim, 林 禁梅, K.H.Shin, 井上 光輝
Organizer
第31回日本応用磁気学会学術講演会
Place of Presentation
東京
Year and Date
2007-09-11
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[Patent(Industrial Property Rights)] ホログラフィック記録媒体用組成物2007
Inventor(s)
池田 順一, 森下 暢也, 新井 亮, 片平 千里, 高谷 佳弘, 横内 鋼三郎, 井上 光輝, 林 撃梅,
Industrial Property Rights Holder
豊橋技術科学大学(10), 共栄社化学(株)(45), メモリーテック(株)(45
Industrial Property Number
特願2007-191869
Filing Date
2007-07-24
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