2008 Fiscal Year Annual Research Report
フェムト秒パルスラジオリシス法によるナノ時空間反応プロセスの解明
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17106014
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| Research Institution | Osaka University |
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Principal Investigator |
田川 精一 Osaka University, 産業科学研究所, 教授 (80011203)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
古澤 孝弘 大阪大学, 産業科学研究所, 准教授 (20251374)
佐伯 昭紀 大阪大学, 産業科学研究所, 助教 (10362625)
岡本 一将 大阪大学, 産業科学研究所, 特任助教 (10437353)
山本 洋揮 大阪大学, 産業科学研究所, 特任助教 (00516958)
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| Keywords | フェムト秒パルスジオリシス / シミュレーション / ナノテクノロジー / 量子ビーム / 化学増幅レジスト / 高分子科学 / 熱化過程 / ナノ空間 |
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| Research Abstract |
現在の半導体産業はリソグラフィと呼ばれる超微細加工技術に支えられている。このリソグラフィ技術は年々進歩を遂げ2004年にはDRAM量産ラインにおいてでさえ100nmをきる加工が行われている。今から10年後には32nmの加工を1.2nmの精度で行うことが求められており、まさに、“ナノリソグラフィ"と呼ばれる領域に入ろうとしている。現在の100nm近傍の大量生産はKrFあるいはArFエキシマレーザーといった光を露光源として加工が行われているが、近い将来、光による加工は限界に達っすることが予想され、代わって電子ビームや極端紫外光(13.4nm)といった量子ビームが次期露光源として期待されている。過去半世紀にわたって培われたリソグラフィ技術は、当然、今話題のナノテクノロジーを支える加工技術の一つとしても大きく期待されており、量子ビーム利用は大きな転換期を迎えようとしている。実際、これらの量子ビームは波長が短い分、光よりも微細な領域にエネルギーを付与し、化学反応を起こさせることが可能である。しかし、量子ビームがナノ空間内に誘起する反応の詳細は不明のままであり、量子ビームの収束性を生かした将来のビーム利用のための基盤研究は進んでいないのが現状である。
このような背景の下、我々は、量子ビームがナノ空間に誘起する化学反応を、エネルギー付与過程から中間活性種の初期空間分布と空間分布の時間変化を含め解明することにより、将来、ナノ空間に誘起される現象を、ナノリソグラフィ等の新しい量子ビーム利用において有効に使いこなすための基礎過程を確立することを目的として、研究を行った。
平成20年度は、レジスト中での放射線化学反応の高分子構造依存性を解明するとともに、レジスト分子構造に吸収係数が大きく違うヘテロ原子が導入された場合のレジスト性能に与える影響を解明した。されに、レジスト中での溶質分子の分布状況はナノ空間における化学反応に大きな影響を与えるが、X線反射率測定、および、小角散乱法によりナノスケールの分布状況を解明した。
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Research Products
(4 results)
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[Presentation] Effect of acid generator structure on its depth distribution in chemically amplified resist films2008
Author(s)
T. Fukuyama, T. Kozawa, K. Okamoto, S. Tagawa, M. Irie, T. Mimura, T. Iwai, J. Onodera, I. Hirosawa, T. Koganesawa, K. Horie
Organizer
21st International Microprocesses and Nanotechnology Conference
Place of Presentation
Fukuoka, Japan
Year and Date
2008-10-28
