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2005 Fiscal Year Annual Research Report

同軸円筒ガスカーテン中での高速Zピンチ放電を用いた次世代デブリフリーEUV光源

Research Project

Project/Area Number 17206025
Research InstitutionTokyo Institute of Technology

Principal Investigator

堀田 栄喜  東京工業大学, 大学院・総合理工学研究科, 教授 (70114890)

Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) 堀岡 一彦  東京工業大学, 大学院・総合理工学研究科, 教授 (10126328)
沖野 晃俊  東京工業大学, 大学院総合理工学研究科, 助教授 (60262276)
河村 徹  東京工業大学, 大学院総合理工学研究科, 講師 (10370214)
渡辺 正人  東京工業大学, 大学院・総合理工学研究科, 助手 (20251663)
Keywordsデブリフリー / EUV光源 / 同軸二重ノズル / MPC回路 / ディフューザ / ガスカーテン / 色素レーザ / プラズマダイナミクス
Research Abstract

本研究は,デブリフリーで高品質かつ高出力の次世代リソグラフィー用EUV光源を開発するため,(1)電源蓄積エネルギーからEUV光への変換効率の増大,(2)デブリ発生の抑制,(3)これらによっても抑制できないデブリ除去のために放電ガスと相互干渉しないデブリシールドの開発,を行うことを目的として行われている。本年度1年間の研究により,以下の結果を得た。
1.電源からプラズマへ注入されるエネルギー転送効率を増大させるためには回路インダクタンスの低減が必要である。LC反転型電源および2段のMPC回路を用いることにより最終段の浮遊インダクタンスを低減した電源回路を製作した。
2.申請者らが特許出願中の同軸二重ノズル構造の放電部を有し,電極間にキャピラリが存在しない放電ヘッドの設計・製作を行った。ノズルとガス回収のためのディフューザが電極としての役割を兼ねている。EUV光は半径方向から集光される。本放電部の場合,カーテンガスとプラズマガスが同軸状になっており,両者の流れ方向が同じため,干渉が生じない。
3.安定なガスカーテンが生成されていることを確認するためには,ガスの流れを可視化する必要がある。このため,カーテンガスであるHeの共鳴線に合わせた波長の光を用いて干渉計測を計画しており,YAGレーザ励起の色素レーザを整備した。実験は次年度に行う予定である。
4.既存の放電部を用いて,高速度カメラによるプラズマダイナミクスの観測を行い,13.5nmのEUVを最も多く放射する放電条件を求めた。

  • Research Products

    (6 results)

All 2005

All Journal Article (6 results)

  • [Journal Article] 同軸二重ノズル型電極を用いたZピンチプラズマからのEUV放射特性2005

    • Author(s)
      坂本敏郎, 宋 仁皓, S.R.Mohanty, 小林靖典 他
    • Journal Title

      電気学会放電研究会 ED-05

      Pages: 147

  • [Journal Article] Characteristics of Xenon Capillary Z-Pinch Extreme Ultraviolet Lithography Source Driven by Different dI/dt Discharge Current Pulses2005

    • Author(s)
      I.Song, K.Iwata, Y.Homma, S.R.Mohanty, M.Watanabe 他
    • Journal Title

      Japanese Journal of Applied Physics 44・12

      Pages: 8640-8645

  • [Journal Article] Development of a Gas Jet-Type Z-Pinch EUV Light Source for Next-Generation Lithography2005

    • Author(s)
      Song I., Mohanty R.S., Watanabe M., Kawamura T.他
    • Journal Title

      Journal of Plasma Fusion Research 81・9

      Pages: 647-648

  • [Journal Article] Approach to Optimize Conversion Efficiency of Discharge-pumped Plasma Extreme Ultraviolet Sources2005

    • Author(s)
      M.Masnavi, M.Nakajima, A.Sasaki, E.Hotta, K.Horioka
    • Journal Title

      Applied Physics Letters 87・11

      Pages: 111502-1-111502-4

  • [Journal Article] Development of Multi Faraday Cup Assembly for Ion Beam Measurements from a Low Energy Plasma Focus Device2005

    • Author(s)
      S.R.Mohanty, H.Bhuyan, N.K.Neog, R.K.Rout, E.Hotta
    • Journal Title

      Japanese Journal of Applied Physics 44・7A

      Pages: 5199-5205

  • [Journal Article] Development of Gas Jet Z-pinch Extreme Ultraviolet Source for Next Generation Lithography2005

    • Author(s)
      I.Song, Y.Honma, K.Iwata, S.R.Mohanty, M.Watanabe 他
    • Journal Title

      New Aspects of High Energy Density Plasma NIFS-PROC-61

      Pages: 23-29

URL: 

Published: 2007-04-02   Modified: 2016-04-21  

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