2007 Fiscal Year Annual Research Report
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17206073
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| Research Institution | Kyoto University |
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Principal Investigator |
杉村 博之 Kyoto University, 工学研究科, 教授 (10293656)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
邑瀬 邦明 京都大学, 工学研究科, 准教授 (30283633)
手嶋 勝弥 信州大学, 工学部, 助教 (00402131)
一井 崇 京都大学, 工学研究科, 助教 (30447908)
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| Keywords | 微細加工 / 真空紫外光 / 表面処理 / 有機材料 / 光リソグラフィ / エキシマランプ / 多層膜1 / 光化学 |
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| Research Abstract |
本研究課題では、真空紫外光(Vacuum Ultra-Violet, VUV)[波長域100〜200nmの紫外光。本研究では、主として波長172nm,光子エネルギー7.2eVのXeエキシマランプ光を使用]を光源とすることで、有機分子材料を直接励起し微細加工する。レジストの塗布・剥離工程を不要とし、プロセス工程を大幅に短縮化する、新しい光マイクロ加工装置およびプロセス技術を開発することを目標とする。
本年度は以下に記述する研究課題を実施した。
1)ナノプロキシミティフォトマスクの開発
試料-フォトマスク間の距離を100nm単位で正確に制御できる、プロキシミティギャップ制御機能付きフォトマスクを開発した。露光時間を半分以下に短縮できるようになったばかりでなく、時間短縮による酸素拡散の抑制が顕在化し、露光パターンの解像度が向上した。
2)VUVマイクロ加工によるITO基板上へのマイクロテンプレート形成
ITO表面にSAMを被覆しそれをVUVマイクロ加工した。このマイクロテンプレート上には、さまざまなナノ粒子を選択は位置できる。金ナノ粒子の選択配列を実際に行い、その有効性を実証した。
3)VUV表面改質による多層膜形成
アルキル基SAMの最表層をVUV照射によって化学活性化し、その上にSAMを積層するプロセスを開発した。活性化一再積層を繰り返し10層膜まで作製できることを確かめた。
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