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2008 Fiscal Year Annual Research Report

電解水を用いた電子・電気材料の超精密洗浄

Research Project

Project/Area Number 17560630
Research InstitutionShinshu University

Principal Investigator

佐藤 運海  Shinshu University, 教育学部, 准教授 (30345730)

Keywords電解還元水 / 電解酸化水 / 銅合金 / リードフレーム / Fe-42wt%Ni alloy / 表面脱脂洗浄 / 酸化皮膜除去 / 溶存酸素
Research Abstract

平成20年度において,主に金属イオン残渣除去,および電子・電気材料の表面酸化皮膜除去を目的として,リードフレーム用銅合金および,Fe-42wt%Ni合金,純鉄材,純ニッケル材などの表面に与える電解水の影響の解明について実験的な検討を行った.主な成果は次の通りである.
I. リードフレーム用銅合金について(精密工学会誌,Vol.74 No.9 2008年 pp.949-953)
(1) 検討内容: 希薄NaCl電解水がCu-2.3wt%Fe, Cu-3.0wt%Ni合金の表面に及ぼす影響についてHCl溶液と比較して検討を行った
(2) 検討結果: 電解還元水はこれらの合金の表面に影響を一切与えない.電解酸化水は,HCl溶液と比べ,これらの合金に対して,2倍以上の高いエッチング能力がある.また,電解酸化水は,銅合金表面の酸化皮膜除去に応用できるが,Cu-2.3wt%Fe合金の場合,処理時間が長くなると,電解酸化水中の溶存酸素が合金表面層に拡散してしまう可能性がある.
II. Fe-42wt%Ni合金(42材と略称)について(精密工学会誌,Vol. 74 No. 8 2008年 pp. 820-824)
(1) 検討内容: NaCl電解水がFe-42wt%Ni合金表面に及ぼす影響の解明と,エッチング性能の有無
(2) 検討結果: 電解還元水は42材の表面洗浄に応用でき,電解酸化水はHCl溶液と比べ,42材に対して高いエッチング性能がある.また,処理時間を最適化にすれば,42材の表面酸化皮膜を除去できる.

  • Research Products

    (9 results)

All 2009 2008

All Journal Article (2 results) (of which Peer Reviewed: 2 results) Presentation (6 results) Patent(Industrial Property Rights) (1 results)

  • [Journal Article] Fe-42wt%Ni合金の表面に及ぼす希薄NaCl電解水の影響2008

    • Author(s)
      佐藤運海, 竹ノ内敏一, 若林信一
    • Journal Title

      精密工学会誌 74

      Pages: 820-824

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] リードフレーム用銅合金の表面に及ぼす希薄NaCl電解酸化水の影響2008

    • Author(s)
      佐藤運海, 竹ノ内敏一, 若林信一, 佐藤元太郎
    • Journal Title

      精密工学会誌 74

      Pages: 949-953

    • Peer Reviewed
  • [Presentation] 工業用純鉄の表面に及ぼす希薄NaCl電解水の影響2009

    • Author(s)
      佐藤運海, 竹ノ内敏一, 山崎隆夫
    • Organizer
      2009年度精密工学会春季大会学術講演会論文集
    • Place of Presentation
      中央大学後楽園キャンバス
    • Year and Date
      20090311-20090313
  • [Presentation] 電解還元水を用いた純チタン材のエンドミル加工 -加工面の性状-2009

    • Author(s)
      佐藤運海, 山崎隆夫, 竹ノ内敏一
    • Organizer
      2009年度精密工学会春季大会学術講演会論文集
    • Place of Presentation
      中央大学後楽園キャンバス
    • Year and Date
      20090311-20090313
  • [Presentation] Fe-42wt%Ni合金の表面に及ぼす希薄NaCl電解水の影響2008

    • Author(s)
      佐藤運海, 竹ノ内敏一, 若林信一
    • Organizer
      2008年度精密工学会秋季大会学術講演会
    • Place of Presentation
      東北大学川内北キャンパス
    • Year and Date
      20080917-20080919
  • [Presentation] リードフレーム銅合金の表面に及ぼす希薄NaCl電解酸化水の影響2008

    • Author(s)
      佐藤運海, 竹ノ内敏一, 南正良
    • Organizer
      2008年度精密工学会春季大会
    • Place of Presentation
      明治大学生田キャンパス
    • Year and Date
      20080317-20080319
  • [Presentation] 希薄NaCl電解酸化水の特性および金属に及ぼすエッチング作用2008

    • Author(s)
      中村耕介, 佐藤運海
    • Organizer
      日本金属学会北陸信越支部・日本鉄鋼協会北陸信越支部平成20年度連合講演会概要集
    • Place of Presentation
      信州大学工学部
    • Year and Date
      2008-12-06
  • [Presentation] 希薄Na_2SO_4電解水の特性の経時変化2008

    • Author(s)
      佐藤運海, 中村耕介, 藤渾樹
    • Organizer
      2008年度研究・開発成果発表会講演論文集(砥粒加工学会北信越加工研究分科冶)
    • Place of Presentation
      金沢工業大学 扇が丘キャンパス
    • Year and Date
      2008-07-04
  • [Patent(Industrial Property Rights)] 半導体装置の製造方法および電気工学装置2008

    • Inventor(s)
      佐藤運海, 他2名
    • Industrial Property Rights Holder
      信州大学, EPSON
    • Industrial Property Number
      特願2008-116760
    • Filing Date
      2008-04-28

URL: 

Published: 2010-06-11   Modified: 2016-04-21  

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