2005 Fiscal Year Annual Research Report
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17651127
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| Research Institution | Doshisha University |
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Principal Investigator |
和田 元 同志社大学, 工学部, 教授 (30201263)
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| Keywords | スパッタリング / 生物分子 / 負イオン / TOFSIMS / C60 / 質量分析 |
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| Research Abstract |
本年は主にスパッタリングをドライブするイオン源の開発を,同志社大-フィリピン大の共同研究により実施した.特に計測システムに適合する超小型のガス放電イオン源の開発を行った.(An investigation as to the cause of beam asymmetry in a compact gas discharge ion source : a focus on beam-wall interaction, G.Q.Blantocas, H.J.Ramos, and M. Wada, 6th International Conference on Reactive Plasmas and 23rd Symposium on Plasma Processing, Paper No.G-6B-4,Sendai,Jan 2006.)また,これまでの竹材料へのイオン打ち込みに加え,フィリピン原産のNarra材(紫檀)への表面処理を実施した.現地で行った実験であるため,スパッター成分の分析まではできていないが,竹材料と同様に親水性が向上すると言う結果が得られた.("Surface modification of Narra wood (Pterocarpus Indicus) by ion shower treatment",G.Q.Blantocas, H.J.Ramos, and M. Wada, 6th International Conference on Reactive Plasmas and 23rd Symposium on Plasma Processing, Paper No.P-2A- 11,Sendai, Jan.2006.)今後は開発した小型イオン源で得た知見をもとに,C_<60>イオンなど,生物分子スパッタリン効率の高い粒子種を用いる予定である.
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