2006 Fiscal Year Annual Research Report

微分光電子ホログラフィーによる熱電子放出材料等の表面構造と高温物性に関する研究

Research Project

Project/Area Number	17656018
Research Institution	Tokyo University of Science
Principal Investigator	二瓶好正東京理科大学, 理工学部, 教授 (10011016)
Co-Investigator(Kenkyū-buntansha)	野島雅東京理科大学, 総合研究機構, 助手 (50366449)
Keywords	X線光電子回折 / 光電子ホログラフィー / 三次元原子像 / 微分光電子ホログラフィー / Dualターゲット / X線光電子分光 / Cu(110) / 人工多層膜分光結晶
Research Abstract	X線光電子回折(XPED)法は、薄膜等における表面化学状態分析や結晶構造の解析に非常に有効な手法である。現在XPED法による構造解析には、予想される構造モデルに対しシミュレーション実験を行う必要があり、計算や試行錯誤のために時間が費やされている。一方、光電子回折パターンをホログラムとみなし直接的に結晶の三次元原子像を得る光電子ホログラフィー(PH)による解析が提案された。しかし、PHを用いて再生した三次元原子像には、光電子波の特性のために虚像や歪みが多く、改良が必要とされている。そこで以前の研究では、PHを応用し二つの光電子回折パターンの差分をとることによって、光電子波の特性を軽減し、三次元像再生を行う微分光電子ホログラフィー(DPH)を提案した。DPHは二種の特性X線を必要とし、放射光を用いない実験室系での適用報告は未だされていない。本研究では実験室系でのDPHを想定し検討されてきた三次元原子像精度や最適条件に関し、光電子運動エネルギーの面から検討した。