2005 Fiscal Year Annual Research Report
高密度放射線励起場における低温凝縮系からの物質合成
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17656306
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| Research Institution | Japan Atomic Energy Agency |
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Principal Investigator |
馬場 祐治 独立行政法人日本原子力研究開発機構, 量子ビーム応用研究部門, 研究主幹 (90360403)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
関口 哲弘 独立行政法人日本原子力研究開発機構, 量子ビーム応用研究部門, 研究副主幹 (20373235)
下山 巖 独立行政法人日本原子力研究開発機構, 量子ビーム応用研究部門, 研究職 (10425572)
岩瀬 彰宏 大阪府立大学, 工学研究科・マテリアル工学部門, 教授 (60343919)
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| Keywords | 放射線 / 高密度励起 / 吸着 / 極低温 / 表面化学反応 / 質量分析 / 光電子分光 / 放射光 |
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| Research Abstract |
1)海外研究動向の調査
2005年7月にブラジルで開催されたInternational Workshop on Photoionization(光イオン化に関するワークショップ、IWP2005)参加し、X線照射による吸着分子の化学反応に関する研究成果を発表するとともに(発表題目"Element-specific and site-specific fragmentations in adsorbed and biological molecules following core-to-valence resonant photoexcitation")、X線、レーザーなどを用いた高密度光励起による表面化学反応に関する海外の研究動向を調査した。
2)極低温凝縮系照射システムの整備
極低温で固体表面に凝縮した分子にイオンビームを照射するための試料冷却システムを設計、製作するとともに、質量分析計、光電子分光装置を整備した。本装置により金属基板表面を9Kまで冷却可能であることを確認した。また、同装置を用いて、イオンビーム照射下における窒素、メタンなどの表面反応に関する実験を行った。
3)ヘリウムイオンビーム照射実験
9Kに冷却した銅単結晶表面に窒素、酸素、アルゴン、メタン、シリコン化合物などを吸着させ、10eV〜10keVのHe^+イオンを照射したときの脱離イオン、表面化学状態変化を調べた。その結果、吸着窒素からのクラスターイオン生成は、ヘリウム原子の核的衝突だけではなく、高密度電子励起によって誘起されることを明らかにした。
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