2006 Fiscal Year Annual Research Report
口腔微生物叢の「揺りかご」:舌苔バイオフィルムの生物学
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17659659
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| Research Institution | Tohoku University |
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Principal Investigator |
高橋 信博 東北大学, 大学院歯学研究科, 教授 (60183852)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
小関 健由 東北大学, 大学院歯学研究科, 教授 (80291128)
今井 奨 国立保健医療科学院, 口腔保健部, 室長 (80072958)
佐藤 拓一 東北大学, 大学院歯学研究科, 講師 (10303132)
鷲尾 純平 東北大学, 大学院歯学研究科, 助手 (20400260)
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| Keywords | 舌苔 / 口臭 / 硫化水素 / Veillonella / Actinomyces / Prevotlla / システイン / グルタチオン |
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| Research Abstract |
本年度は、口腔内に多く存在するVeillonella属3菌種について、代謝基質と環境pHの影響を検討した。Veillonella属は舌苔中の主要な硫化水素産生菌であり、口臭への関与が考えられているが、その硫化水素産生機構については不明な点が多いのが現状である。V.atypiea、V.dispar、V.parvulaの各標準(ATCC)株を1.8%の乳酸ナトリウムを含むtrypton-yeast extract培地を用いて嫌気培養した後、菌懸濁液を作成した。そこへ、cysteine、methionine、glutathione、tryptone、フィルター滅菌唾液上清あるいはオートクレープ滅菌唾液沈渣を加え、37℃、pH7.0で3時間インキュベートし、産生した硫化水素をメチレンブルー法で定量した。また、反応pHを変えた際の硫化水素産生への影響も検討した。Veillonella属3菌種とも、cysteine、glutathione、唾液上清から、硫化水素を産生したが、methionineと唾液沈渣からは産生しなかった。また、各基質からの硫化水素産生量は、pHによって異なり、cysteineはpH6.0-7.0で、glutathioneはpH8.0で、tryptoneは、pH7.0で高かった。口腔Veillonellaは、唾液などを利用して口臭成分硫化水素を産生するが、硫化水素産生能は、菌種、基質、環境pHによって異なることが判明した。
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