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2018 Fiscal Year Annual Research Report

フォノン機能制御による窒化物半導体光素子の基盤科学技術開拓

Research Project

Project/Area Number 17H02772
Research InstitutionChiba University

Principal Investigator

石谷 善博  千葉大学, 大学院工学研究院, 教授 (60291481)

Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) 三宅 秀人  三重大学, 地域イノベーション学研究科, 教授 (70209881)
Project Period (FY) 2017-04-01 – 2020-03-31
Keywordsフォノン輸送制御 / 励起子輻射 / 局所フォノン場 / 窒化物半導体 / フォノン系量子干渉
Outline of Annual Research Achievements

フォノン・励起子・輻射(PXR)モデルでは,励起子の全解離速度に占める LAフォノンとLOフォノンによる解離速度の割合についてその温度依存性を求め,GaN,AlN,ZnOの全てについておよそ150K以上でLOフォノン過程が支配的になることが理論的に分かった。また,この計算もでるを励起子分子系に拡張し,励起子分子でも蛍光寿命が励起子分子の輻射再結合寿命よりも長くなることが分かった。現在,不純物を含む系に適用できるコードを作製中であり,より現実的な系への対応が進んでいる。
金属‐半導体ストライプ構造では,波長266nmの紫外光の照射によりLOフォノンに共鳴する電気双極子形成によるA1(LO)モードのエネルギーが変化していると思われるスペクトル変化が表れていること,この構造で励起子とLOフォノンの相互作用が局所的に強くなっているために励起子形成と解離の速度が上がっていることによる紫外発光のスペクトル変化が観測された。本結果は,この構造による新たな励起子‐局所フォノン場相互作用制御の可能性を示す。
金属‐半導体ストライプ構造では,2種LOフォノンモードを有するGaInP結晶でこれらのモードに相当する2波長でピークをもつ赤外発光が観測された。また,間接遷移型半導体AlInPの光励起でLOフォノンと価電子帯間電子遷移による量子干渉効果(Fano効果)が起こっていることが確認された。これらの結果は2種LOフォノンと価電子帯間の電子遷移によるフォノン系量子干渉と合わせて光学利得を実現できる可能性を示す。

Current Status of Research Progress
Current Status of Research Progress

3: Progress in research has been slightly delayed.

Reason

金属-半導体ストライプ構造では,熱励起によるLOフォノン生成に基づく電気双極子によるTHz輻射が2種LOフォノンに拡張され,間接遷移型AlInP半導体で光励起正孔の価電子帯間遷移とLOフォノンによる量子干渉(Fano効果)の観測がなされ,フォノンを主体としたTHz輻射の光学利得実現に向けた基礎検討が進んでいる。この点では,順調に進んでおり,一部で当初予定以上に進んでいる。一方で励起子発光や量子井戸型太陽電池に対するフォノン排除やフォノン閉じ込めについては,励起子‐キャリア‐フォノンの相互作用に基づくキャリアダイナミクスの理論計算コードが製作され,LOフォノン制御の重要性が示された。また温度を変えた実験におけるダイナミクスの解釈方法が示された。フォノン輸送制御については,GaInN/GaNヘテロ界面において進められたが,超格子の検討はこれからであり,この点では研究が遅れている。これは,ラマン散乱装置の安定化と装置の更なる改造に時間がかかったことが一因である。しかし,既に基礎検討試料が作製されており,今後の結果が期待できる。また,フォノンエネルギー分散の理論計算については,他グループとの議論が進んでおり,共同研究による研究の進展も期待できる。

Strategy for Future Research Activity

フォノンの輸送制御のための超格子設計については,フォノン分散に関する理論を行っているグループとの共同研究も行って研究を進める。試料については,既にAlGaNやAlInNをGaN中に挿入した試料があり,今後組成を変えたもの,超格子にしたものを検討し,量子井戸構造の近傍にこれらを導入した試料により,フォノンの排除・閉じ込め効果を明らかにし,さらにそれによるフォノン‐キャリア相互作用の制御性を明らかにする。これらに基づき,デバイス展開への方向性を示す。
フォノンを主役としたTHz輻射については,光励起によるTHz輻射と2LOモードと価電子帯間遷移の光制御を実現し,光利得生成の基礎データを得る。

  • Research Products

    (50 results)

All 2019 2018 Other

All Int'l Joint Research (1 results) Journal Article (5 results) (of which Peer Reviewed: 5 results) Presentation (44 results) (of which Int'l Joint Research: 21 results,  Invited: 9 results)

  • [Int'l Joint Research] Yangon Technological University(ミャンマー)

    • Country Name
      MYANMAR
    • Counterpart Institution
      Yangon Technological University
  • [Journal Article] Statistics of excitonic energy states based on phononic-excitonic-radiative model2019

    • Author(s)
      Yoshihiro Ishitani, kensuke Oki, and Hideto Miyake
    • Journal Title

      Japanese Journal of Applied Physics

      Volume: 未定 Pages: 未定:1-9

    • DOI

      10.7567/1347-4065/ab09e2

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Quantitative evaluation of strain relaxation in annealed sputter-deposited AlN film2019

    • Author(s)
      S. Tanaka, K. Shojiki, K. Uesugi, Y. Hayashi, H. Miyake
    • Journal Title

      Journal of Crystal Growth

      Volume: 512 Pages: 16-19

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Fabrication of AlN templates on SiC substrates by sputtering-deposition and high-temperature annealing2019

    • Author(s)
      K. Uesugi, Y. Hayashi, K. Shojiki, S. Xiao, K. Nagamatsu, H. Yoshida, H. Miyake
    • Journal Title

      Journal of Crystal Growth

      Volume: 510 Pages: 13-17

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Curvature-controllable and crack-free AlN/sapphire templates fabricated by sputtering and high-temperature annealing2019

    • Author(s)
      Y. Hayashi, K. Tanigawa, K. Uesugi, K. Shojiki, H. Miyake
    • Journal Title

      Journal of Crystal Growth

      Volume: 512 Pages: 131-135

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Selective thermal radiation at the longitudinal optical phonon energy under geometric condition of metal-semiconductor mesa stripe structures2018

    • Author(s)
      Yoshihiro Ishitani, Tomoyuki Aoki, Hidenori Funabashi, and Ken Morita
    • Journal Title

      Applied Physics Letters

      Volume: 113 Pages: 192105:1-5

    • DOI

      10.1063/1.5047458

    • Peer Reviewed
  • [Presentation] GaNの深い準位の直接光励起による発光特性の考察2019

    • Author(s)
      菊地 萌,上原大輔,馬 ベイ, 森田 健,三宅秀人,石谷善博
    • Organizer
      第66回応用物理学会春季学術講演会
  • [Presentation] 高濃度SiドープGaNの深さ方向結晶性の赤外およびラマン分光評価2019

    • Author(s)
      湯 明川,馬 ベイ, 森田 健,上野耕平,小林 篤,藤岡洋,石谷善博
    • Organizer
      第66回応用物理学会春季学術講演会
  • [Presentation] GaN,AlN,ZnOにおける励起子の非熱平衡解析2019

    • Author(s)
      大木 健輔,野町 健太郎,西川 智秀,馬ベイ, 森田 健,石谷 善博
    • Organizer
      第66回応用物理学会春季学術講演会
  • [Presentation] 小型フーリエ変換赤外分光装置の製作と測定法の確立2019

    • Author(s)
      中山政裕,菅野裕吾,石谷善博,北田貴弘,森田健
    • Organizer
      第66回応用物理学会春季学術講演会
  • [Presentation] 高温アニールAlN/サファイア上へのAlGaN成長での歪み制御2019

    • Author(s)
      稲森 崇文、鈴木 涼矢、劉 小桐、上杉 謙次郎、正直 花奈子、三宅 秀人
    • Organizer
      第66 回応用物理学会春季学術講演会
  • [Presentation] ダイヤモンド基板上へのスパッタAlN成膜と高温アニール2019

    • Author(s)
      白土 達也、林 侑介、上杉 謙次郎、正直 花奈子、三宅 秀人
    • Organizer
      第66 回応用物理学会春季学術講演会
  • [Presentation] 深紫外発光素子応用に向けたスパッタ成膜AlNテンプレートの転位密度低2019

    • Author(s)
      上杉 謙次郎、林 侑介、正直 花奈子、永松 謙太郎、三宅 秀人
    • Organizer
      第66 回応用物理学会春季学術講演会
  • [Presentation] ナノPSS上スパッタ堆積アニールAlN膜を基板に用いたホモエピ成長2019

    • Author(s)
      庭 由季乃、正直 花奈子、上杉 謙次郎、肖 世玉、三宅 秀人
    • Organizer
      第66 回応用物理学会春季学術講演会
  • [Presentation] スパッタ法と高温アニールによるa面サファイア上c面AlNの作製2019

    • Author(s)
      林 侑介、藤川 海人、上杉 謙次郎、正直 花奈子、三宅 秀人
    • Organizer
      第66 回応用物理学会春季学術講演会
  • [Presentation] 高温アニールしたスパッタ成膜AlNテンプレート上のAlGaN成長2019

    • Author(s)
      上杉 謙次郎、正直 花奈子、林 侑介、三宅 秀人, “
    • Organizer
      第66 回応用物理学会春季学術講演会
  • [Presentation] 窒化物半導体MOVPE成長における欠陥低減技術2019

    • Author(s)
      三宅秀人
    • Organizer
      応用物理学会東海支部基礎セミナー
    • Invited
  • [Presentation] 深紫外LED社会実装に向けた基板作製技術2019

    • Author(s)
      三宅秀人、正直花奈子、林侑介、 肖世玉、上杉謙次郎、永松謙太郎
    • Organizer
      結晶成長の科学と技術第161委員会第109回研究会
    • Invited
  • [Presentation] Interactions of phonon, electron, and photon in nitride semiconductors2018

    • Author(s)
      Yoshihiro Ishitani, Kensuke Oki, Naomichi Saito, Tsubasa Yamakawa, Daisuke Uehara, Shungo Okamoto, Moe Kikuchi, Keisuke Ebisawa, Bojin Lin, Bei Ma, and Ken Morita
    • Organizer
      Intensive Discussion on Growth of Nitride Semiconductors
    • Int'l Joint Research / Invited
  • [Presentation] Statistics of excitonic energy states based on phonon-exciton-radiation model2018

    • Author(s)
      Yoshihiro Ishitani, Kensuke Oki, Tsubasa Yamakawa, Bojin Lin, Bei Ma, and Ken Morita
    • Organizer
      International Workshop on Nitride Semiconductors
    • Int'l Joint Research / Invited
  • [Presentation] Optical absorption and emission in THz-mid infrared region of metal-semiconductor composites2018

    • Author(s)
      Yoshihiro Ishitani
    • Organizer
      Nano Science and Technolohy 2018
    • Int'l Joint Research / Invited
  • [Presentation] Optical properties of metal-semiconductor composites in THz-mid infrared region2018

    • Author(s)
      Yoshihiro Ishitani, Hironori Sakamoto, Tomoyoki Aoki, Hidenori Funabashi, and Ken Morita
    • Organizer
      International Conference on Nanomaterials and Nanotechnology
    • Int'l Joint Research / Invited
  • [Presentation] Control of THz emission and absorption resonating with LO phonon energy by meal/semiconductor-composite materials2018

    • Author(s)
      Yoshihiro Ishitani
    • Organizer
      International Symposium on Semiconductor Physics
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] 赤外分光法によるGaNの高電子密度層の空間分布評価2018

    • Author(s)
      湯明川, 馬ベイ, 森田健, 石谷善博
    • Organizer
      テラヘルツ科学の最先端V
  • [Presentation] ラマン散乱マッピングによるInGaNの局所フォノン場評価2018

    • Author(s)
      齋藤 直道, 瀧口 佳祐, 馬 ベイ, 森田 健, 飯田 大輔, 大川 和宏, 石谷 善博
    • Organizer
      第79回応用物理学会秋季学術講演会
  • [Presentation] ワイドギャップ半導体における 励起子-フォノン系の非熱平衡解析2018

    • Author(s)
      大木 健輔, 馬 ベイ, 森田 健, 石谷 善博
    • Organizer
      第2回フォノンエンジニアリング研究会
  • [Presentation] Plasma activated bonding of 2-inch sputtered AlN wafers2018

    • Author(s)
      Y. Hayashi, H. Miyake
    • Organizer
      MRS Spring Meeting
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Fabrication of High-Quality AlN on Sapphire for Deep UV LED2018

    • Author(s)
      H. Miyake, S. Xiao, Y. Hayashi, K. Shojiki
    • Organizer
      Taiwan Solid State Lighting
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Fabrication of High-Quality AlN Template on Sapphire Using High-Temperature Annealing2018

    • Author(s)
      K. Shojiki, X. Liu, S. Kawai, H. Miyake
    • Organizer
      Compound Semiconductor Week
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] haracterization of strain relaxation behavior of annealed sputter deposited AlN films on SiC substrates2018

    • Author(s)
      K. Uesugi, Y. Hayashi, K. Shojiki, S. Xiao, H. Yoshida, H. Miyake
    • Organizer
      ICMOVPE-XIX
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Bowing Control of Sputtered AlN Caused by High Temperature Annealing2018

    • Author(s)
      Y. Hayashi, K. Tanigawa, K. Shojiki, H. Miyake
    • Organizer
      ICMOVPE-XIX
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Fabrication of High-quality AlN Template by High Temperature Annealing2018

    • Author(s)
      H. Miyake
    • Organizer
      InRel-NPower
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Homoepitaxy of AlN on annealed AlN/sapphire template2018

    • Author(s)
      H. Miyake, K. Shojiki, X. Liu, Y. Hayashi, X. Shiyu, K. Uesugi
    • Organizer
      The 7th International Symposium on Growth of III-Nitrides(ISGN-7)
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Crystal quality improvement of sputter-deposited AlN films on SiC substrates by high temperature annealing2018

    • Author(s)
      K. Uesugi, Y. Hayashi, K. Shojiki, S. Xiao, K. Nagamatsu, H. Yoshida, H. Miyake,
    • Organizer
      he 7th International Symposium on Growth of III-Nitrides(ISGN-7)
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] “Anisotropic strain in AlN film on sapphire substrate2018

    • Author(s)
      K. Shojiki, K. Uesugi, K. Fujikawa, Y. Hayashi, S. Xiao, H. Miyake
    • Organizer
      IWUMD2018
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Polarity Inversion of AlN by Sputtering Condition Control for DUV-SHG Devices2018

    • Author(s)
      Hayashi, K. Uesugi, K. Shojiki, H. Miyake
    • Organizer
      IWUMD2018
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Preparation of high-quality thick AlN on sputtered and annealed nano-patterned sapphire substrates by hydride vapor-phase epitaxy2018

    • Author(s)
      S. Xiao, N. Jiang, K. Shojiki, K. Uesugi, H. Miyake
    • Organizer
      IWUMD2018
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Crystalline quality improvement and suppression of cracking for sputter-deposited high-temperature annealed AlN films by stress control2018

    • Author(s)
      K. Uesugi1, Y. Hayashi, K. Shojiki, K. Nagamatsu, H. Yoshida, H. Miyake
    • Organizer
      IWUMD2018
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Fabrication of high-quality AlN template by high-temperature annealing2018

    • Author(s)
      H. Miyake, K. Shojiki, Y. Hayashi, X. Shiyu, K. Uesugi, K. Nagamatsu
    • Organizer
      Japanese-Polish Workshop on Crystal Science
    • Int'l Joint Research / Invited
  • [Presentation] High-temperature annealing of sputter-deposited AlN films on sapphire2018

    • Author(s)
      H. Miyake, K. Shojiki, Y. Hayashi, S. Xiao, K. Uesugi, K. Nagamatsu
    • Organizer
      International Workshop on UV Materials and Devices
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Preparation of high-quality thick AlN layer on sputtered and annealed nano-patterned sapphire substrates by hydride vapor-phase epitaxy2018

    • Author(s)
      . Xiao, N. Jiang, K. Shojiki, K. Uesugi, H. Miyake
    • Organizer
      International Workshop on UV Materials and Devices
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Reduction of threading dislocation density and suppression of cracking for sputter-deposited high-temperature annealed AlN films2018

    • Author(s)
      . Uesugi, Y. Hayashi, K. Shojiki, K. Nagamatsu, H. Yoshida, H. Miyake
    • Organizer
      International Workshop on UV Materials and Devices
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] 『AlNテンプレート高品質化の進展』~深紫外LED実用化の鍵となる基板作製技術~2018

    • Author(s)
      宅秀人・正直花奈子・林侑介・肖世玉・上杉謙次郎・永松謙太郎
    • Organizer
      学振第162委員会 第110回研究会・特別公開シンポジウム
    • Invited
  • [Presentation] 高温アニールしたAlNのクラック抑制と高品質化2018

    • Author(s)
      上杉 謙次郎、林 侑介、正直 花奈子、永松 謙太郎、吉田 治正、三宅 秀人
    • Organizer
      第79回応用物理学会秋季学術講演会シンポジウム
  • [Presentation] 歪緩和による深紫外LEDの発光効率改善2018

    • Author(s)
      永松 謙太郎、上杉 謙次郎、三宅 秀人、吉田 治正
    • Organizer
      第79回応用物理学会秋季学術講演会シンポジウム
  • [Presentation] スパッタ法AlN膜の高温アニールとその基板上へのAlGaN深紫外LED作製2018

    • Author(s)
      永松 謙太郎、上杉 謙次郎、正直 花奈子、吉田 治正、三宅 秀人
    • Organizer
      第79回応用物理学会秋季学術講演会シンポジウム
  • [Presentation] スパッタ法AlN膜の高温アニールとその基盤上へのAlGaN深紫外LED作製2018

    • Author(s)
      永松謙太郎・上杉謙次郎・正直花奈子・吉田治正・三宅秀人
    • Organizer
      第79回応用物理学会秋季学術講演会シンポジウム
  • [Presentation] スパッタ条件制御による-c/+c 極性反転AlN 構造の作製2018

    • Author(s)
      林 侑介、上杉 謙次郎、正直 花奈子、三宅 秀人
    • Organizer
      第79回応用物理学会秋季学術講演会シンポジウム
  • [Presentation] 深紫外LED実用化の鍵となる基板作製技術2018

    • Author(s)
      三宅秀人、正直花奈子、林侑介、肖世玉、上杉謙次郎、永松謙太郎
    • Organizer
      電子情報通信学会ソサイエティ大会
    • Invited
  • [Presentation] 6H-SiC基板上におけるAlN周期構造の作製と評価2018

    • Author(s)
      上杉 謙次郎, 正直 花奈子, 林 侑介, 肖 世玉, 永松 謙太郎, 吉田 治正, 三宅 秀人
    • Organizer
      第10回ナノ構造・エピタキシャル成長講演会

URL: 

Published: 2019-12-27  

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