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2018 Fiscal Year Annual Research Report

保護基を用いない高原子効率のマイクロフローペプチド鎖伸長法の開発

Research Project

Project/Area Number 17H03053
Research InstitutionTokyo Institute of Technology

Principal Investigator

布施 新一郎  東京工業大学, 科学技術創成研究院, 准教授 (00505844)

Project Period (FY) 2017-04-01 – 2021-03-31
Keywordsマイクロフロー / アミド化 / ペプチド / 無保護
Outline of Annual Research Achievements

近年、ペプチドは医薬品としての需要が急激に高まっている。しかし、ペプチドの最も一般的な化学合成による供給は、夾雑物を多く生じる縮合剤や保護基の利用に依存しており、プロセス化学上の最大の問題とされるほど原子効率が低い。本問題を解決すべく、本申請研究では「保護基を用いない高原子効率のマイクロフローペプチド鎖伸長法の開発」を目指した。
特にH29年度はジペプチドのマイクロフロー合成条件の確立を目指して検討を進め、ラセミ化を抑制しつつ保護アミノ酸に対して無保護アミノ酸を連結することに成功した。確立した手法を基盤としてH30年度はトリペプチドの合成を検討した。これまでのジペプチドの合成ではN末端がカルバマートで保護されたアミノ酸をカルボン酸として用いていたため、望まないラセミ化をこの保護基の効果により抑制可能であったが、トリぺプチドの合成では、カルボン酸としてジペプチドを用いて反応することとなるため、これまでの検討と比較して難度が格段に向上する。実際に検討を進めた結果、驚くべきことにトリペプチドの合成についてもラセミ化を0.5%未満に抑制しつつ目的物を得ることに成功した。申請者らの予想以上に開発した合成手法はラセミ化の抑制効果が高かったため、当初は不可能と考えていたために検討予定になかった、C末端に極めてエピメリ化を極めて起こしやすいフェニルグリシン等をもつジペプチドをカルボン酸として用いた検討をH31年度に行う予定である。

Current Status of Research Progress
Current Status of Research Progress

2: Research has progressed on the whole more than it was originally planned.

Reason

H30年度はマイクロフロー法を用いるトリペプチドの合成を目標として研究を推進していたが、当初の目標通りこれを達成した。

Strategy for Future Research Activity

通常のC末端側からN末端側へのペプチド鎖伸長法とは異なり、逆にN末端側からC末端側へ、ペプチド鎖を伸長する我々の手法では、トリペプチド以上の長さのペプチドの合成を目指す際にはエピメリ化の抑制が困難であり、エピメリ化を起こしやすい基質の利用は困難であると考えてきた。一方で、H29年度、H30年度の結果により、エピメリ化を起こしやすい基質においても、これを防ぎつつ目的ペプチドが得られた。そこで、H31年度に当初我々の合成手法が適用不可能と思っていたエピメリ化を起こしやすい基質についても検討する。

  • Research Products

    (3 results)

All 2019 Other

All Presentation (1 results) Remarks (1 results) Patent(Industrial Property Rights) (1 results)

  • [Presentation] マイクロフロー法を駆使する無保護アミノ酸連結によるペプチド鎖伸長法の開発2019

    • Author(s)
      増田耕志郎、小竹佑磨、中村浩之、布施新一郎
    • Organizer
      日本化学会第99春季年会
  • [Remarks] 研究紹介 中村・布施研究室

    • URL

      http://syn.res.titech.ac.jp/research/

  • [Patent(Industrial Property Rights)] アミドの製造方法2019

    • Inventor(s)
      布施新一郎、増田耕志郎、小竹佑磨、中村裕之
    • Industrial Property Rights Holder
      布施新一郎、増田耕志郎、小竹佑磨、中村裕之
    • Industrial Property Rights Type
      特許
    • Industrial Property Number
      特願2019-036628

URL: 

Published: 2019-12-27  

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